Semiconductor Wafer Particle Cleaning Agent

Eco-friendly and Compliant: 708RB ແມ່ນບໍ່ມີໂລຫະຫນັກ, ຕອບສະຫນອງມາດຕະຖານ RoHS ຂອງ EU. ມັນເປັນທາງເລືອກທີ່ເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມສໍາລັບການທໍາຄວາມສະອາດ semiconductor ແລະ wafer, ຮັບປະກັນການປະຕິບັດຕາມກົດລະບຽບສາກົນ.

ປະສິດທິພາບການທໍາຄວາມສະອາດທີ່ມີປະສິດທິພາບ: ມັນສະແດງໃຫ້ເຫັນເຖິງຄວາມສາມາດໃນການເຮັດຄວາມສະອາດທີ່ດີເລີດ, ການກໍາຈັດນ້ໍາມັນ, ຝຸ່ນຂີ້ຝຸ່ນ, ຮອຍນິ້ວມື, ແລະອື່ນໆ, ຜົນຜະລິດການທໍາຄວາມສະອາດສາມາດບັນລຸສູງກວ່າ 99%, ຮັບປະກັນຜົນໄດ້ຮັບການເຮັດຄວາມສະອາດທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງ.

ໂຟມຕ່ຳ ແລະ ບໍ່ມີສານຕົກຄ້າງ: ດ້ວຍໂຟມຕ່ຳ, ມັນງ່າຍທີ່ຈະລ້າງອອກ ແລະ ບໍ່ມີສານຕົກຄ້າງ. ຄຸນສົມບັດນີ້ເຮັດໃຫ້ຂະບວນການເຮັດຄວາມສະອາດຫຼັງການທໍາຄວາມສະອາດງ່າຍຂຶ້ນ ແລະຮັບປະກັນຄວາມສະອາດຂອງລາຍການທີ່ສະອາດ.

ການດໍາເນີນງານໂດຍກົງແລະສະດວກ: ມັນອະນຸຍາດໃຫ້ທໍາຄວາມສະອາດໂດຍກົງ, ປະຫຍັດເວລາແລະຄວາມພະຍາຍາມ. ການດໍາເນີນງານງ່າຍແລະການທົດແທນເຮັດໃຫ້ມັນເປັນທາງເລືອກທີ່ສະດວກສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທໍາຄວາມສະອາດຕ່າງໆ.

ການດູດຊຶມທາງກາຍະພາບທີ່ດີເລີດ: ສານທີ່ມີການເຄື່ອນໄຫວເຮັດໃຫ້ການດູດຊຶມທາງດ້ານຮ່າງກາຍໃນໄລຍະຍາວ, ຮັກສາພື້ນຜິວໃຫ້ຢູ່ໃນສະພາບທີ່ສະອາດໄດ້ງ່າຍແລະປ້ອງກັນການດູດຊຶມຂອງອະນຸພາກທີສອງ.

ອຸດສາຫະກໍາ semiconductor: 708RB ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອຸດສາຫະກໍາ semiconductor. ມັນຖືກນໍາໃຊ້ສໍາລັບການທໍາຄວາມສະອາດທີ່ຊັດເຈນຂອງຊິບ semiconductor ແລະ wafers, ລວມທັງ silicon wafers, lithium niobate wafers, ແລະອື່ນໆໂດຍການກໍາຈັດສິ່ງປົນເປື້ອນຕ່າງໆຢ່າງມີປະສິດທິພາບ, ມັນຮັບປະກັນຄວາມສົມບູນແລະການປະຕິບັດຂອງອົງປະກອບ semiconductor, ເຊິ່ງເປັນສິ່ງສໍາຄັນສໍາລັບການຜະລິດອຸປະກອນ semiconductor ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງ.

ການເຮັດຄວາມສະອາດອົງປະກອບ: ໃນການຜະລິດແລະການບໍາລຸງຮັກສາອົງປະກອບເອເລັກໂຕຣນິກ, ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດນີ້ມີບົດບາດສໍາຄັນ. ມັນສາມາດເຮັດຄວາມສະອາດພື້ນຜິວຂອງອົງປະກອບຢ່າງລະອຽດ, ກໍາຈັດອະນຸພາກ, ສານອິນຊີ, ແລະ ions ໂລຫະທີ່ອາດຈະສົ່ງຜົນກະທົບຕໍ່ການເຮັດວຽກແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືຂອງອົງປະກອບ. ນີ້ແມ່ນສິ່ງສໍາຄັນໂດຍສະເພາະສໍາລັບອົງປະກອບທີ່ໃຊ້ໃນອຸປະກອນເອເລັກໂຕຣນິກທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍໍາສູງ.

ເທກໂນໂລຍີຟິມບາງ: ສໍາລັບພື້ນຜິວແກ້ວແລະໂລຫະໃນເທກໂນໂລຍີຟິມບາງ, 708RB ເປັນທາງເລືອກທີ່ເຫມາະສົມ. ມັນຊ່ວຍກະກຽມພື້ນຜິວໂດຍການກໍາຈັດສິ່ງສົກກະປົກ, ເຮັດໃຫ້ການຍຶດຫມັ້ນທີ່ດີກວ່າແລະຄຸນນະພາບຂອງຮູບເງົາບາງໆ. ບໍ່ວ່າຈະເປັນສໍາລັບການເຄືອບ optical ຫຼືການນໍາໃຊ້ຮູບເງົາບາງໆອື່ນໆ, ມັນຮັບປະກັນພື້ນຜິວທີ່ສະອາດແລະເຫມາະສົມສໍາລັບຂະບວນການ deposition.

ການ​ນໍາ​ໃຊ້​:

· Dilution: ສໍາລັບການທໍາຄວາມສະອາດ ultrasonic, ມັນແມ່ນແນະນໍາໃຫ້ dilute ກັບນ້ໍາໃນອັດຕາສ່ວນຂອງ 1:20 - 1:50.

ການເກັບຮັກສາ:

· ຜະລິດຕະພັນປະຕິບັດຕາມມາດຕະຖານ EU ROHS.

· ຊຸດ drum ພາດສະຕິກ: 5KG, 10KG, 25KG / drum, ສິນຄ້າທີ່ບໍ່ເປັນອັນຕະລາຍງ່າຍຕໍ່ການເກັບຮັກສາແລະການຂົນສົ່ງ.

· ໄລຍະເວລາການເກັບຮັກສາແມ່ນ 2 ປີ, ມັນບໍ່ສາມາດເກັບຮັກສາໄວ້ໃນອາກາດເປີດ, ແລະປ້ອງກັນຈາກແສງແດດແລະຝົນ.

· ເຄື່ອງຊັກຜ້າທີ່ບໍ່ໄດ້ໃຊ້ແລ້ວຄວນໝວກໃສ່ຝາກອງໃຫ້ແໜ້ນເພື່ອບໍ່ໃຫ້ຄວາມຊຸ່ມຊື້ນ ແລະ ມົນລະພິດປົນເປື້ອນ.