Nachádzate sa tu: Domov / Produkty / Chemikálie pre polovodiče / Čistiace prostriedky na presné súčiastky a polovodiče / Čistiaci prostriedok na častice polovodičových plátkov

načítavanie

Čistiaci prostriedok na častice polovodičových plátkov

Je to mliečne biely čistiaci prostriedok na vodnej báze, vhodný na odstraňovanie kontaminantov, ako sú častice a kovové ióny z povrchu materiálov, ako sú kremíkové doštičky.
 
Výhody:
  • Ekologické a vyhovujúce
  • Výkonný čistiaci výkon
  • Nízka pena a bez zvyškov
  • Priama a pohodlná obsluha
  • Vynikajúca fyzikálna adsorpcia
 
Jednotky balenia: 1 gal/džbán, 5 l/džbán, 200 l/barel
Dostupnosť:
Množstvo:
tlačidlo zdieľania na facebooku
tlačidlo zdieľania na Twitteri
tlačidlo zdieľania linky
tlačidlo zdieľania wechat
prepojené tlačidlo zdieľania
tlačidlo zdieľania na pintereste
tlačidlo zdieľania whatsapp
tlačidlo zdieľania kakaa
tlačidlo zdieľania snapchatu
tlačidlo zdieľania telegramu
zdieľať toto tlačidlo zdieľania
  • 708RB

708RB Semiconductor Wafer Particle Cleaning Agent je mliečne biely tekutý čistič na vodnej báze, ktorý nie je špeciálne navrhnutý len pre kremíkové doštičky, doštičky, polovodiče, doštičky niobátu lítneho a uhličitanu lítneho atď., ale má aj funkciu odstraňovania jemných častíc adsorbovaných na kovovom povrchu po brúsení alebo lapovaní. Navyše v kombinácii s ultrazvukovým čistením môže účinne odstrániť častice adsorbované na kovovom povrchu a má určitú schopnosť odstraňovania vodného kameňa. Okrem toho sa môže zamerať na odstraňovanie častíc, organických látok, kovových iónov a iných znečisťujúcich látok na povrchu týchto materiálov. A čo viac, aktívne látky v čističi sa môžu adsorbovať na povrch oblátky, čím sa dostane do dlhodobého, ľahko čistiteľného stavu fyzikálnej adsorpcie a vytvorí sa na povrchu ochranná vrstva, ktorá zabráni sekundárnej adsorpcii častíc, čo v konečnom dôsledku môže účinne zlepšiť výťažnosť epitaxného alebo difúzneho procesu.


  • Ekologický a vyhovujúci: 708RB neobsahuje ťažké kovy a spĺňa normu EÚ RoHS. Je to voľba šetrná k životnému prostrediu na čistenie polovodičov a doštičiek, ktorá zabezpečuje súlad s medzinárodnými predpismi.

  • Výkonný čistiaci výkon: Vyznačuje sa vynikajúcou čistiacou schopnosťou, účinne odstraňuje olej, prachové častice, odtlačky prstov atď. Výťažnosť čistenia môže dosiahnuť viac ako 99 %, čo zaručuje vysokokvalitné výsledky čistenia.

  • Nízka pena a bez zvyškov: S nízkou penivosťou sa ľahko opláchne a nezanecháva žiadne zvyšky. Táto funkcia zjednodušuje proces následného čistenia a zaisťuje čistotu čistených predmetov.

  • Priama a pohodlná prevádzka: Umožňuje priame čistenie, čím šetrí čas a námahu. Jednoduchá obsluha a výmena z neho robia pohodlnú voľbu pre rôzne čistiace aplikácie.

  • Vynikajúca fyzikálna adsorpcia: Účinné látky umožňujú dlhodobú fyzikálnu adsorpciu, udržujú povrch v ľahko čistiteľnom stave a zabraňujú sekundárnej adsorpcii častíc.


Parameter                

Jednotka                

Údaje                

Vzhľad

(Pôvodné riešenie)

-

Mliečne biela kvapalina

Vzhľad

(Zriedený roztok)

-

Priehľadná kvapalina

Zápach

-

žiadne

Pour Point

℃

2

Hustota

kg/m³

1030

Hodnota pH (5 %)

-

12 (asi 9,5 po zriedení)


  • Polovodičový priemysel: 708RB je široko použiteľný v polovodičovom priemysle. Používa sa na presné čistenie polovodičových čipov a doštičiek vrátane kremíkových, lítium niobátových doštičiek a pod. Účinným odstraňovaním rôznych nečistôt zaisťuje integritu a výkon polovodičových súčiastok, čo je kľúčové pre výrobu vysokokvalitných polovodičových súčiastok.

  • Čistenie komponentov: Pri výrobe a údržbe elektronických komponentov zohráva tento čistič zásadnú úlohu. Dokáže dôkladne vyčistiť povrchy komponentov, pričom eliminuje častice, organické látky a kovové ióny, ktoré môžu ovplyvniť funkčnosť a spoľahlivosť komponentov. Toto je obzvlášť dôležité pre komponenty používané vo vysoko presných elektronických zariadeniach.

  • Technológia tenkých vrstiev: Pre sklenené a kovové povrchy v technológii tenkých vrstiev je 708RB ideálnou voľbou. Pomáha pri príprave povrchov odstránením nečistôt, čím umožňuje lepšiu priľnavosť a kvalitu tenkých vrstiev. Či už ide o optické nátery alebo iné aplikácie tenkých vrstiev, zaisťuje čistý a vhodný povrch pre proces nanášania.


  • Použitie:

    · Riedenie: Na čistenie ultrazvukom sa odporúča riediť vodou v pomere 1:20 - 1:50.

    · Nastavenie teploty: Nastavte teplotu medzi 30 - 60°C.

    · Doba čistenia: cca. 30 minút. Upravte podľa skutočnej situácie.

    · Miešanie: Zmiešajte čistiaci prostriedok a vodu v rovnakom pomere, zahrejte na nastavenú teplotu a začnite čistiť.

    · Údržba: Čistiaci prostriedok pravidelne kontrolujte a dopĺňajte. Skontrolujte vyčistenú vodu a filtračné vložky čistiaceho zariadenia.

    · Čistiaci prostriedok vymeňte každé 1 - 3 dni pri bežnom používaní a raz denne pri silnom čistení (nie viac ako 5 dní).

    · Napríklad v prvej nádrži zrieďte 1:30 a ultrazvukom pri 40 Hz počas 20 minút pri 35 °C; v druhej nádrži zrieďte 1:50 a ultrazvukom pri 40 Hz počas 30 minút pri 30 °C.

  • Skladovanie:

    · Produkt vyhovuje norme EU ROHS.

    · Balenie plastového bubna: 5 kg, 10 kg, 25 kg / bubon, tovar nie je nebezpečný, ľahko sa skladuje a prepravuje.

    · Doba skladovania je dva roky, nesmie sa skladovať na čerstvom vzduchu a chrániť pred slnkom a dažďom.

    · Nepoužitý čistič by mal byť pevne priskrutkovaný na veko bubna, aby sa zabránilo zmiešaniu vlhkosti a nečistôt.


Predchádzajúce: 
Ďalej: 

Súvisiace správy

obsah je prázdny!

WhatsApp:
+86- 18123969340 
+86- 13691824013
Email:
contact@yuananchemtech.com
supports@yuananchemtech.com
OTVÁRACIE HODINY:
Po. - Pia. 9:00 - 18:00
O nás
Zameriava sa na výrobu činidiel pre polovodiče a výrobu a výskum a vývoj elektronických chemikálií.​​​​​​​
Prihlásiť sa na odber
Prihláste sa na odber nášho newslettera, aby ste dostávali najnovšie správy.
Copyright © 2024 Shenzhen Yuanan Technology Co., Ltd. Všetky práva vyhradené. Sitemap Zásady ochrany osobných údajov