memuatkan

Ejen Pembersih Zarah Wafer Semikonduktor

Ia adalah agen pembersih berasaskan air putih susu, sesuai untuk membuang bahan cemar seperti zarah dan ion logam dari permukaan bahan seperti wafer silikon.
 
Kelebihan:
  • Mesra alam dan Mematuhi
  • Prestasi Pembersihan Berkuasa
  • Buih rendah dan bebas sisa
  • Operasi Langsung dan Mudah
  • Penjerapan Fizikal Cemerlang
 
Unit pembungkusan: 1 gal/jug, 5 L/jug, 200 L/tong
Ketersediaan:
Kuantiti:
butang perkongsian facebook
butang perkongsian twitter
butang perkongsian talian
butang perkongsian wechat
butang perkongsian linkedin
butang perkongsian pinterest
butang perkongsian whatsapp
butang perkongsian kakao
butang perkongsian snapchat
butang perkongsian telegram
kongsi butang perkongsian ini
  • 708RB

Ejen Pembersih Zarah Wafer Semikonduktor 708RB ialah pembersih cecair putih susu berasaskan air yang bukan sahaja direka khas untuk wafer silikon, wafer, semikonduktor, litium niobate dan wafer litium karbonat, dsb., tetapi juga mempunyai fungsi untuk mengeluarkan bahan zarah halus yang terjerap pada permukaan logam selepas mengisar atau mengepal. Lebih-lebih lagi, apabila digabungkan dengan pembersihan ultrasonik, ia boleh menanggalkan bahan zarahan yang terserap pada permukaan logam dengan berkesan dan mempunyai keupayaan penyahkerak tertentu. Di samping itu, ia boleh menyasarkan penyingkiran zarah, bahan organik, ion logam dan bahan pencemar lain pada permukaan bahan ini. Lebih-lebih lagi, bahan aktif dalam pembersih boleh diserap pada permukaan wafer, dengan itu menjadikannya dalam keadaan penjerapan fizikal jangka panjang yang mudah dibersihkan dan membentuk lapisan pelindung pada permukaan untuk mengelakkan penjerapan sekunder zarah, yang akhirnya dapat meningkatkan kadar hasil proses epitaxial atau resapan dengan berkesan.


  • Mesra alam dan Mematuhi: 708RB bebas daripada logam berat, memenuhi piawaian RoHS EU. Ia adalah pilihan mesra alam untuk pembersihan semikonduktor dan wafer, memastikan pematuhan kepada peraturan antarabangsa.

  • Prestasi Pembersihan Berkuasa: Ia menunjukkan keupayaan pembersihan yang sangat baik, mengeluarkan minyak, zarah habuk, tanda cap jari dengan berkesan, dll. Hasil pembersihan boleh mencapai melebihi 99%, menjamin hasil pembersihan berkualiti tinggi.

  • Buih rendah dan Bebas Residu: Dengan buih rendah, ia mudah dibilas dan tidak meninggalkan sisa. Ciri ini memudahkan proses selepas pembersihan dan memastikan kebersihan item yang dibersihkan.

  • Operasi Langsung dan Mudah: Ia membolehkan pembersihan terus, menjimatkan masa dan usaha. Operasi dan penggantian yang mudah menjadikannya pilihan yang mudah untuk pelbagai aplikasi pembersihan.

  • Penjerapan Fizikal Cemerlang: Bahan aktif membolehkan penjerapan fizikal jangka panjang, mengekalkan permukaan dalam keadaan mudah dibersihkan dan menghalang penjerapan zarah sekunder.


Parameter                

Unit                

Data                

Penampilan

(Penyelesaian Asal)

-

Cecair putih susu

Penampilan

(Penyelesaian Dicairkan)

-

Cecair lutsinar

Bau

-

tiada

Titik Tuang

℃

2

Ketumpatan

kg/m³

1030

Nilai pH (5%)

-

12 (kira-kira 9.5 selepas pencairan)


  • Industri Semikonduktor: 708RB digunakan secara meluas dalam industri semikonduktor. Ia digunakan untuk pembersihan tepat cip dan wafer semikonduktor, termasuk wafer silikon, wafer lithium niobate, dll. Dengan menyingkirkan pelbagai bahan cemar secara berkesan, ia memastikan integriti dan prestasi komponen semikonduktor, yang penting untuk pengeluaran peranti semikonduktor berkualiti tinggi.

  • Pembersihan Komponen: Dalam pembuatan dan penyelenggaraan komponen elektronik, pembersih ini memainkan peranan penting. Ia boleh membersihkan permukaan komponen secara menyeluruh, menghapuskan zarah, bahan organik dan ion logam yang boleh menjejaskan kefungsian dan kebolehpercayaan komponen. Ini amat penting untuk komponen yang digunakan dalam peralatan elektronik berketepatan tinggi.

  • Teknologi Filem Nipis: Untuk permukaan kaca dan logam dalam teknologi filem nipis, 708RB ialah pilihan yang ideal. Ia membantu menyediakan permukaan dengan membuang kekotoran, membolehkan lekatan dan kualiti filem nipis yang lebih baik. Sama ada untuk salutan optik atau aplikasi filem nipis lain, ia memastikan permukaan yang bersih dan sesuai untuk proses pemendapan.


  • Penggunaan:

    · Pencairan: Untuk pembersihan ultrasonik, disyorkan untuk mencairkan dengan air pada nisbah 1:20 - 1:50.

    · Tetapan Suhu: Tetapkan suhu antara 30 - 60°C.

    · Masa pembersihan: lebih kurang. 30 minit. Sesuaikan mengikut situasi sebenar.

    · Mencampurkan: Campurkan detergen dan air dalam perkadaran yang sama, panaskan pada suhu yang ditetapkan dan mulakan pembersihan.

    · Penyelenggaraan: Periksa dan tambah semula agen pembersih dengan kerap. Periksa air yang telah disucikan dan kartrij penapis peralatan pembersihan.

    · Gantikan agen pembersih setiap 1 - 3 hari untuk kegunaan biasa dan sekali sehari untuk pembersihan berat (tidak lebih daripada 5 hari).

    · Sebagai contoh, dalam tangki pertama, cairkan 1:30 dan ultrasonik pada 40HZ selama 20 minit pada 35°C; dalam tangki kedua, cairkan 1:50 dan ultrasonik pada 40HZ selama 30 minit pada 30°C.

  • Storan:

    · Produk mematuhi piawaian EU ROHS.

    · Pakej drum plastik: 5KG,10KG,25KG/dram, barangan tidak berbahaya mudah disimpan dan diangkut.

    · Tempoh penyimpanan adalah dua tahun, ia tidak boleh disimpan di udara terbuka, dan dihalang daripada matahari dan hujan.

    · Pembersih yang tidak digunakan hendaklah diskrukan pada penutup dram untuk mengelakkan lembapan dan kekotoran bercampur.


Sebelumnya: 
Seterusnya: 

Berita Berkaitan

kandungan kosong!

WhatsApp:
+86- 18123969340 
+86- 13691824013
e-mel:
contact@yuananchemtech.com
supports@yuananchemtech.com
Waktu buka:
isn. - Jumaat. 9:00 - 18:00
Tentang Kami
Ia telah memberi tumpuan kepada pembuatan ejen untuk semikonduktor dan pengeluaran serta penyelidikan & pembangunan bahan kimia elektronik.​​​​​​​​
Langgan
Daftar untuk surat berita kami untuk menerima berita terkini.
Hak Cipta © 2024 Shenzhen Yuanan Technology Co., Ltd. Hak Cipta Terpelihara. Peta laman Polisi Privasi