| Ketersediaan: | |
|---|---|
| Kuantitas: | |
708RB
Agen Pembersih Partikel Wafer Semikonduktor 708RB adalah cairan pembersih berbahan dasar air berwarna putih susu yang tidak hanya dirancang khusus untuk wafer silikon, wafer, semikonduktor, wafer litium niobate dan litium karbonat, dll., tetapi juga memiliki fungsi menghilangkan partikel halus yang teradsorpsi pada permukaan logam setelah penggilingan atau pemukulan. Selain itu, bila dikombinasikan dengan pembersihan ultrasonik, secara efektif dapat menghilangkan partikel yang teradsorpsi pada permukaan logam dan memiliki kemampuan menghilangkan kerak tertentu. Selain itu, dapat menargetkan penghilangan partikel, bahan organik, ion logam, dan polutan lainnya pada permukaan bahan tersebut. Terlebih lagi, zat aktif dalam pembersih dapat teradsorpsi pada permukaan wafer, sehingga membuatnya dalam keadaan adsorpsi fisik yang mudah dibersihkan dalam jangka panjang dan membentuk lapisan pelindung pada permukaan untuk mencegah adsorpsi sekunder partikel, yang pada akhirnya dapat secara efektif meningkatkan laju hasil proses epitaksi atau difusi.
Ramah Lingkungan dan Sesuai: 708RB bebas dari logam berat, memenuhi standar RoHS UE. Ini adalah pilihan ramah lingkungan untuk pembersihan semikonduktor dan wafer, memastikan kepatuhan terhadap peraturan internasional.
Kinerja Pembersihan yang Kuat: Ini menunjukkan kemampuan pembersihan yang sangat baik, secara efektif menghilangkan minyak, partikel debu, bekas sidik jari, dll. Hasil pembersihan bisa mencapai di atas 99%, menjamin hasil pembersihan berkualitas tinggi.
Rendah busa dan bebas residu: Dengan busa rendah, mudah dibilas dan tidak meninggalkan residu. Fitur ini menyederhanakan proses pasca pembersihan dan memastikan kebersihan barang yang dibersihkan.
Pengoperasian Langsung dan Nyaman: Memungkinkan pembersihan langsung, menghemat waktu dan tenaga. Pengoperasian dan penggantian yang mudah menjadikannya pilihan yang nyaman untuk berbagai aplikasi pembersihan.
Adsorpsi Fisik yang Sangat Baik: Zat aktif memungkinkan adsorpsi fisik jangka panjang, menjaga permukaan dalam keadaan mudah dibersihkan dan mencegah adsorpsi partikel sekunder.
Parameter |
Satuan |
Data |
Penampilan (Solusi Asli) |
- |
Cairan berwarna putih susu |
Penampilan (Larutan encer) |
- |
Cairan transparan |
Bau |
- |
Tidak ada |
Titik Tuang |
℃ |
2 |
Kepadatan |
kg/m³ |
1030 |
Nilai pH (5%) |
- |
12 (sekitar 9,5 setelah pengenceran) |
Industri Semikonduktor: 708RB dapat diterapkan secara luas di industri semikonduktor. Ini digunakan untuk pembersihan chip dan wafer semikonduktor secara presisi, termasuk wafer silikon, wafer lithium niobate, dll. Dengan menghilangkan berbagai kontaminan secara efektif, ini memastikan integritas dan kinerja komponen semikonduktor, yang sangat penting untuk produksi perangkat semikonduktor berkualitas tinggi.
Pembersihan Komponen: Dalam pembuatan dan pemeliharaan komponen elektronik, pembersih ini memegang peranan penting. Ini dapat membersihkan permukaan komponen secara menyeluruh, menghilangkan partikel, zat organik, dan ion logam yang dapat mempengaruhi fungsi dan keandalan komponen. Hal ini sangat penting terutama untuk komponen yang digunakan pada peralatan elektronik berpresisi tinggi.
Teknologi Film Tipis: Untuk permukaan kaca dan logam dalam teknologi film tipis, 708RB adalah pilihan ideal. Ini membantu mempersiapkan permukaan dengan menghilangkan kotoran, memungkinkan adhesi dan kualitas film tipis yang lebih baik. Baik untuk pelapis optik atau aplikasi film tipis lainnya, ini memastikan permukaan yang bersih dan sesuai untuk proses pengendapan.
Penggunaan:
· Pengenceran: Untuk pembersihan ultrasonik, disarankan untuk mengencerkannya dengan air dengan perbandingan 1:20 - 1:50.
· Pengaturan Suhu: Mengatur suhu antara 30 - 60°C.
· Waktu pembersihan: kira-kira. 30 menit. Sesuaikan dengan keadaan sebenarnya.
· Pencampuran: Campur deterjen dan air dalam proporsi yang sama, panaskan hingga suhu yang disetel dan mulailah membersihkan.
· Perawatan: Periksa dan isi ulang bahan pembersih secara teratur. Periksa air murni dan kartrid filter pada peralatan pembersih.
· Ganti bahan pembersih setiap 1 - 3 hari untuk penggunaan normal dan sekali sehari untuk pembersihan berat (tidak lebih dari 5 hari).
· Misalnya, di tangki pertama, encerkan 1:30 dan ultrasonik pada 40HZ selama 20 menit pada 35°C; di tangki kedua, encerkan 1:50 dan ultrasonik pada 40HZ selama 30 menit pada 30°C.
Penyimpanan:
· Produk mematuhi standar ROHS UE.
· Paket drum plastik: 5KG,10KG,25KG/drum, barang tidak berbahaya mudah disimpan dan diangkut.
· Masa penyimpanan dua tahun, tidak dapat disimpan di udara terbuka, dan terlindung dari sinar matahari dan hujan.
· Pembersih yang tidak terpakai harus disekrup erat pada tutup drum untuk menghindari tercampurnya kelembapan dan kotoran.
isinya kosong!