lasting

Semiconductor Wafer Particle Cleaning Agent

Det er et melkeaktig hvitt vannbasert rengjøringsmiddel, egnet for å fjerne forurensninger som partikler og metallioner fra overflaten av materialer som silisiumskiver.
 
Fordeler:
  • Miljøvennlig og kompatibel
  • Kraftig rengjøringsytelse
  • Lavt skum og fri for rester
  • Direkte og praktisk betjening
  • Utmerket fysisk adsorpsjon
 
Emballasjeenheter: 1 gal/mugge, 5 L/mugge, 200 L/fat
Tilgjengelighet:
Antall:
Facebook delingsknapp
twitter-delingsknapp
linjedelingsknapp
wechat-delingsknapp
linkedin delingsknapp
pinterest delingsknapp
whatsapp delingsknapp
kakao delingsknapp
snapchat delingsknapp
telegramdelingsknapp
del denne delingsknappen
  • 708RB

708RB Semiconductor Wafer Particle Cleaning Agent er et vannbasert melkehvitt flytende rengjøringsmiddel som ikke bare er spesialdesignet for silisiumskiver, wafere, halvledere, litiumniobat- og litiumkarbonatskiver, etc., men som også har som funksjon å fjerne fine partikler som er adsorbert på metalloverflaten etter sliping. Dessuten, når det kombineres med ultralydrensing, kan det effektivt strippe partikkelmaterialet adsorbert på metalloverflaten og har en viss avkalkingsevne. I tillegg kan det målrettes mot fjerning av partikler, organisk materiale, metallioner og andre forurensninger på overflaten av disse materialene. Dessuten kan de aktive stoffene i renseren adsorberes på overflaten av waferen, og dermed gjøre den i en langsiktig lett å rengjøre fysisk adsorpsjonstilstand og danner et beskyttende lag på overflaten for å forhindre sekundær adsorpsjon av partikler, som til slutt effektivt kan forbedre utbyttehastigheten til epitaksial- eller diffusjonsprosessen.


  • Miljøvennlig og kompatibel: 708RB er fri for tungmetaller, og oppfyller EUs RoHS-standard. Det er et miljøvennlig valg for rengjøring av halvledere og skiver, og sikrer samsvar med internasjonale forskrifter.

  • Kraftig rengjøringsytelse: Den viser utmerket rengjøringsevne, fjerner effektivt olje, støvpartikler, fingeravtrykksmerker osv. Rengjøringsutbyttet kan nå over 99 %, og garanterer rengjøringsresultater av høy kvalitet.

  • Lavt skum og fri for rester: Med lavt skum er det lett å skylle og etterlater ingen rester. Denne funksjonen forenkler etterrengjøringsprosessen og sikrer rensligheten til de rengjorte gjenstandene.

  • Direkte og praktisk betjening: Den tillater direkte rengjøring, sparer tid og krefter. Den enkle betjeningen og utskiftingen gjør den til et praktisk valg for ulike rengjøringsapplikasjoner.

  • Utmerket fysisk adsorpsjon: De aktive stoffene muliggjør langsiktig fysisk adsorpsjon, holder overflaten i en lett rengjørbar tilstand og forhindrer sekundær partikkeladsorpsjon.


Parameter                

Enhet                

Data                

Utseende

(Original løsning)

-

Melkehvit væske

Utseende

(fortynnet løsning)

-

Gjennomsiktig væske

Lukt

-

Ingen

Pour Point

℃

2

Tetthet

kg/m³

1030

pH-verdi (5 %)

-

12 (ca. 9,5 etter fortynning)


  • Halvlederindustri: 708RB er allment anvendelig i halvlederindustrien. Den brukes til presis rengjøring av halvlederbrikker og wafere, inkludert silisiumskiver, litiumniobatskiver osv. Ved å effektivt fjerne ulike forurensninger sikrer den integriteten og ytelsen til halvlederkomponenter, noe som er avgjørende for produksjon av høykvalitets halvlederenheter.

  • Komponentrengjøring: Ved produksjon og vedlikehold av elektroniske komponenter spiller denne rengjøringsmidlet en viktig rolle. Den kan rengjøre overflatene til komponenter grundig, og eliminere partikler, organiske stoffer og metallioner som kan påvirke funksjonaliteten og påliteligheten til komponentene. Dette er spesielt viktig for komponenter som brukes i elektronisk utstyr med høy presisjon.

  • Tynnfilmteknologi: For glass- og metalloverflater i tynnfilmteknologi er 708RB et ideelt valg. Den hjelper til med å forberede overflatene ved å fjerne urenheter, noe som gir bedre vedheft og kvalitet på de tynne filmene. Enten det er for optiske belegg eller andre tynnfilmapplikasjoner, sikrer det en ren og egnet overflate for avsetningsprosessen.


  • Bruk:

    · Fortynning: For ultralydrengjøring anbefales det å fortynne med vann i forholdet 1:20 - 1:50.

    · Temperaturinnstilling: Still inn temperaturen mellom 30 - 60°C.

    · Rengjøringstid: ca. 30 minutter. Juster etter den faktiske situasjonen.

    · Blanding: Bland vaskemiddel og vann i samme forhold, varm opp til innstilt temperatur og start rengjøringen.

    · Vedlikehold: Kontroller og etterfyll rengjøringsmiddel regelmessig. Kontroller renset vann og filterpatronene til rengjøringsutstyret.

    · Bytt rengjøringsmiddel hver 1. - 3. dag for normal bruk og en gang om dagen for kraftig rengjøring (ikke mer enn 5 dager).

    · For eksempel, i den første tanken, fortynn 1:30 og ultralyd ved 40HZ i 20 minutter ved 35°C; i den andre tanken, fortynn 1:50 og ultralyd ved 40HZ i 30 minutter ved 30°C.

  • Lagring:

    · Produktet er i samsvar med EUs ROHS-standard.

    · Plasttrommelpakke: 5KG,10KG,25KG/trommel, ikke-farlig gods lett å lagre og transportere.

    · Lagringsperioden er to år, den kan ikke lagres i friluft, og forhindres fra sol og regn.

    · Det ubrukte rengjøringsmiddelet bør skrus godt fast på lokket på trommelen for å unngå blanding av fuktighet og urenheter.


Tidligere: 
Neste: 

Relaterte nyheter

innholdet er tomt!

WhatsApp:
+86- 18123969340 
+86- 13691824013
E-post:
contact@yuananchemtech.com
supports@yuananchemtech.com
Åpningstider:
man. - Fre. 9:00 - 18:00
Copyright © 2024 Shenzhen Yuanan Technology Co., Ltd. Alle rettigheter reservert. Nettstedkart Personvernpolitikk