| Dostępność: | |
|---|---|
| Ilość: | |
708RB
708RB Semiconductor Wafer Particle Cleaning Agent to mlecznobiały, płynny środek czyszczący na bazie wody, który jest nie tylko specjalnie zaprojektowany do płytek krzemowych, płytek, półprzewodników, płytek z niobianu litu i węglanu litu itp., ale ma także funkcję usuwania drobnych cząstek stałych zaadsorbowanych na powierzchni metalu po szlifowaniu lub docieraniu. Co więcej, w połączeniu z czyszczeniem ultradźwiękowym, może skutecznie usunąć cząstki stałe zaadsorbowane na powierzchni metalu i ma pewną zdolność odkamieniania. Ponadto może być ukierunkowany na usuwanie cząstek, materii organicznej, jonów metali i innych zanieczyszczeń z powierzchni tych materiałów. Co więcej, substancje aktywne zawarte w środku czyszczącym mogą być adsorbowane na powierzchni płytki, wprowadzając ją tym samym w długotrwały, łatwy w czyszczeniu stan fizycznej adsorpcji i tworząc na powierzchni warstwę ochronną, która zapobiega wtórnej adsorpcji cząstek, co ostatecznie może skutecznie poprawić wydajność procesu epitaksjalnego lub dyfuzyjnego.
Ekologiczny i zgodny: 708RB nie zawiera metali ciężkich i spełnia unijną normę RoHS. Jest to przyjazny dla środowiska wybór do czyszczenia półprzewodników i płytek, zapewniający zgodność z międzynarodowymi przepisami.
Wysoka wydajność czyszczenia: wykazuje doskonałą zdolność czyszczenia, skutecznie usuwając olej, cząsteczki kurzu, ślady odcisków palców itp. Wydajność czyszczenia może sięgać ponad 99%, gwarantując wysokiej jakości wyniki czyszczenia.
Niskopieniący i nie pozostawiający pozostałości: Dzięki niskiej pianie łatwo się spłukuje i nie pozostawia śladów. Funkcja ta upraszcza proces czyszczenia końcowego i zapewnia czystość czyszczonych przedmiotów.
Bezpośrednia i wygodna obsługa: umożliwia bezpośrednie czyszczenie, oszczędzając czas i wysiłek. Łatwa obsługa i wymiana sprawiają, że jest to wygodny wybór do różnych zastosowań związanych z czyszczeniem.
Doskonała adsorpcja fizyczna: Substancje czynne umożliwiają długoterminową adsorpcję fizyczną, utrzymując powierzchnię w stanie łatwym do czyszczenia i zapobiegając adsorpcji cząstek wtórnych.
Parametr |
Jednostka |
Dane |
Wygląd (Oryginalne rozwiązanie) |
- |
Mleczno-biały płyn |
Wygląd (Rozcieńczony roztwór) |
- |
Przezroczysty płyn |
Zapach |
- |
Nic |
Temperatura płynięcia |
℃ |
2 |
Gęstość |
kg/m3 |
1030 |
Wartość pH (5%) |
- |
12 (około 9,5 po rozcieńczeniu) |
Przemysł półprzewodników: 708RB ma szerokie zastosowanie w przemyśle półprzewodników. Służy do precyzyjnego czyszczenia chipów i płytek półprzewodnikowych, w tym płytek krzemowych, płytek z niobianu litu itp. Skutecznie usuwając różnorodne zanieczyszczenia, zapewnia integralność i wydajność elementów półprzewodnikowych, co ma kluczowe znaczenie przy produkcji wysokiej jakości urządzeń półprzewodnikowych.
Czyszczenie komponentów: W produkcji i konserwacji komponentów elektronicznych środek ten odgrywa kluczową rolę. Może dokładnie oczyścić powierzchnie komponentów, eliminując cząstki, substancje organiczne i jony metali, które mogą mieć wpływ na funkcjonalność i niezawodność komponentów. Jest to szczególnie ważne w przypadku komponentów stosowanych w precyzyjnym sprzęcie elektronicznym.
Technologia cienkowarstwowa: W przypadku powierzchni szklanych i metalowych w technologii cienkowarstwowej idealnym wyborem jest 708RB. Pomaga przygotować powierzchnie usuwając zanieczyszczenia, zapewniając lepszą przyczepność i jakość cienkich warstw. Niezależnie od tego, czy chodzi o powłoki optyczne, czy inne zastosowania cienkowarstwowe, zapewnia czystą i odpowiednią powierzchnię do procesu osadzania.
Stosowanie:
· Rozcieńczanie: Do czyszczenia ultradźwiękowego zaleca się rozcieńczenie wodą w stosunku 1:20 - 1:50.
· Ustawienie temperatury: Ustaw temperaturę w zakresie 30 - 60°C.
· Czas czyszczenia: ok. 2 godz. 30 minut. Dostosuj zgodnie z rzeczywistą sytuacją.
· Mieszanie: Wymieszaj detergent i wodę w tej samej proporcji, podgrzej do ustawionej temperatury i rozpocznij czyszczenie.
· Konserwacja: Regularnie sprawdzaj i uzupełniaj środek czyszczący. Sprawdź oczyszczoną wodę i wkłady filtrów sprzętu czyszczącego.
· Wymieniaj środek czyszczący co 1 - 3 dni przy normalnym użytkowaniu i raz dziennie przy intensywnym czyszczeniu (nie dłużej niż 5 dni).
· Na przykład w pierwszym zbiorniku rozcieńczyć 1:30 i zastosować ultradźwięki przy 40 Hz przez 20 minut w temperaturze 35°C; w drugim zbiorniku rozcieńczyć 1:50 i poddać działaniu ultradźwięków przy 40 Hz przez 30 minut w temperaturze 30°C.
Składowanie:
· Produkt jest zgodny z normą UE ROHS.
· Opakowanie z beczką z tworzywa sztucznego: 5 KG, 10 KG, 25 KG/bęben, towary bezpieczne, łatwe do przechowywania i transportu.
· Okres przechowywania wynosi dwa lata, nie można go przechowywać na wolnym powietrzu i chronić przed słońcem i deszczem.
· Niewykorzystany środek czyszczący należy szczelnie dokręcić do pokrywy bębna, aby uniknąć zmieszania się wilgoci i zanieczyszczeń.
treść jest pusta!