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Agente detergente per particelle di wafer semiconduttori

È un detergente a base acqua di colore bianco lattiginoso, adatto per rimuovere contaminanti come particelle e ioni metallici dalla superficie di materiali come i wafer di silicio.
 
Vantaggi:
  • Ecologico e conforme
  • Potenti prestazioni di pulizia
  • A bassa schiuma e senza residui
  • Operazione diretta e conveniente
  • Eccellente assorbimento fisico
 
Unità di imballaggio: 1 gal/caraffa, 5 L/caraffa, 200 L/barile
Disponibilità:
Quantità:
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  • 708RB

L'agente detergente per particelle di wafer per semiconduttori 708RB è un detergente liquido bianco lattiginoso a base d'acqua che non è solo appositamente progettato per wafer di silicio, wafer, semiconduttori, wafer di niobato di litio e carbonato di litio, ecc., ma ha anche la funzione di rimuovere il particolato fine adsorbito sulla superficie metallica dopo la molatura o la lappatura. Inoltre, se combinato con la pulizia ad ultrasuoni, può rimuovere efficacemente il particolato adsorbito sulla superficie metallica e ha una certa capacità disincrostante. Inoltre, può mirare alla rimozione di particelle, materia organica, ioni metallici e altri inquinanti sulla superficie di questi materiali. Inoltre, le sostanze attive nel detergente possono essere adsorbite sulla superficie del wafer, rendendolo così in uno stato di adsorbimento fisico facile da pulire a lungo termine e formando uno strato protettivo sulla superficie per prevenire l'adsorbimento secondario di particelle, che alla fine può migliorare efficacemente il tasso di resa del processo epitassiale o di diffusione.


  • Ecologico e conforme: 708RB è privo di metalli pesanti e soddisfa lo standard RoHS dell'UE. È una scelta rispettosa dell'ambiente per la pulizia di semiconduttori e wafer, garantendo la conformità alle normative internazionali.

  • Potenti prestazioni di pulizia: mostra un'eccellente capacità di pulizia, rimuovendo efficacemente olio, particelle di polvere, impronte digitali, ecc. La resa di pulizia può raggiungere oltre il 99%, garantendo risultati di pulizia di alta qualità.

  • A bassa schiuma e senza residui: a bassa schiuma, è facile da risciacquare e non lascia residui. Questa funzionalità semplifica il processo di post-pulizia e garantisce la pulizia degli articoli puliti.

  • Funzionamento diretto e conveniente: consente la pulizia diretta, risparmiando tempo e fatica. La facilità d'uso e di sostituzione lo rendono una scelta conveniente per varie applicazioni di pulizia.

  • Eccellente adsorbimento fisico: i principi attivi consentono un adsorbimento fisico a lungo termine, mantenendo la superficie in uno stato facilmente pulibile e prevenendo l'adsorbimento di particelle secondarie.


Parametro                

Unità                

Dati                

Aspetto

(Soluzione originale)

-

Liquido bianco latte

Aspetto

(Soluzione diluita)

-

Liquido trasparente

Odore

-

Nessuno

Punto di scorrimento

℃

2

Densità

kg/m³

1030

Valore pH (5%)

-

12 (circa 9,5 dopo la diluizione)


  • Industria dei semiconduttori: 708RB è ampiamente applicabile nell'industria dei semiconduttori. Viene utilizzato per la pulizia precisa di chip e wafer semiconduttori, inclusi wafer di silicio, wafer di niobato di litio, ecc. Rimuovendo efficacemente vari contaminanti, garantisce l'integrità e le prestazioni dei componenti dei semiconduttori, il che è fondamentale per la produzione di dispositivi a semiconduttore di alta qualità.

  • Pulizia dei componenti: nella produzione e nella manutenzione dei componenti elettronici, questo detergente svolge un ruolo fondamentale. Può pulire a fondo le superfici dei componenti, eliminando particelle, sostanze organiche e ioni metallici che potrebbero compromettere la funzionalità e l'affidabilità dei componenti. Ciò è particolarmente importante per i componenti utilizzati nelle apparecchiature elettroniche ad alta precisione.

  • Tecnologia a film sottile: per superfici in vetro e metallo nella tecnologia a film sottile, 708RB è la scelta ideale. Aiuta a preparare le superfici rimuovendo le impurità, consentendo una migliore adesione e qualità dei film sottili. Che si tratti di rivestimenti ottici o di altre applicazioni su film sottile, garantisce una superficie pulita e adatta al processo di deposizione.


  • Utilizzo:

    · Diluizione: Per la pulizia ad ultrasuoni si consiglia di diluire con acqua in rapporto 1:20 - 1:50.

    · Impostazione della temperatura: impostare la temperatura tra 30 e 60°C.

    · Tempo di pulizia: ca. 30 minuti. Regolare in base alla situazione reale.

    · Miscelazione: mescolare il detersivo e l'acqua nella stessa proporzione, riscaldare alla temperatura impostata e iniziare a pulire.

    · Manutenzione: controllare e rabboccare regolarmente il detergente. Controllare l'acqua purificata e le cartucce filtranti dell'attrezzatura per la pulizia.

    · Sostituire il detergente ogni 1 - 3 giorni per l'uso normale e una volta al giorno per la pulizia profonda (non più di 5 giorni).

    · Ad esempio, nella prima vasca, diluire 1:30 e ultrasuoni a 40HZ per 20 minuti a 35°C; nella seconda vasca diluire 1:50 e ultrasuoni a 40HZ per 30 minuti a 30°C.

  • Magazzinaggio:

    · Il prodotto è conforme allo standard EU ROHS.

    · Confezione di fusti in plastica: 5 kg, 10 kg, 25 kg/tamburo, merci non pericolose facili da immagazzinare e trasportare.

    · Il periodo di conservazione è di due anni, non può essere conservato all'aria aperta e al riparo dal sole e dalla pioggia.

    · Il detergente non utilizzato deve essere avvitato saldamente sul coperchio del cestello per evitare che l'umidità e le impurità si mescolino.


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