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2832
2832 è uno stripper semi-acquoso di fotoresist utilizzato nella produzione di chip, progettato per rimuovere e rimuovere residui di fotoresist da substrati sensibili. È adatto a vari substrati e ha ampie applicazioni nell'industria dei semiconduttori pur non presentando corrosione sulle parti metalliche.
Elevata efficienza di pulizia: 2832 può decomporre e rimuovere rapidamente e completamente vari fotoresist, senza lasciare residui, macchie bianche o filigrane, abbreviando efficacemente i tempi di pulizia e riducendo il tasso di difetti.
Ampia applicabilità e pulizia selettiva precisa: 2832 si applica a vari tipi di chip e semiconduttori di materiali morbidi, circuiti stampati e pulizia dei metalli. Durante il processo di pulizia, può colpire con precisione il fotoresist senza causare corrosione o danni latenti ai substrati e alle linee metalliche, proteggendo efficacemente l'integrità e le prestazioni del prodotto pulito e dei componenti elettronici.
Eccellente capacità di risciacquo: Eccellente capacità di risciacquo: È facile da risciacquare, non lascia residui chimici sulla superficie dei materiali puliti e può evitare qualsiasi interferenza con i substrati e i processi successivi come deposizione, incisione e simili.
Rispetto dell'ambiente e garanzia di sicurezza: il prodotto condivide una buona solubilità in acqua, non volatilità, non infiammabilità e biodegradabilità, soddisfacendo i requisiti ambientali. Nel frattempo, è conforme agli standard ROHS e può garantire la sicurezza durante l'uso.
Parametro |
Valore |
Composizione |
Miscela di principi attivi e solventi |
Aspetto |
Fluido trasparente giallastro |
Valore PH |
9.5-11.5 |
Peso specifico |
0,95-0,98 |
Metodo di pulizia |
Ammollo a caldo, pulizia a spruzzo |
Confezione |
25 kg/barile di plastica |
Periodo di conservazione |
2 anni |
Ideale per rimuovere il fotoresist positivo/negativo nei processi di produzione di chip LCD, LED, IC, PSS nell'industria dei semiconduttori, nonché nella pulizia dei circuiti stampati PCB.
Affidabile per la pulizia di colloidi e resine su una varietà di superfici metalliche e plastiche.
Come usare: immergere il wafer o altri materiali che contengono fotoresist in questo estrattore di fotoresist a bassa attacco per un tempo appropriato a una temperatura compresa tra 25 ℃ e 90 ℃.
· Il metodo di pulizia può essere il trattamento a caldo, la pulizia a spruzzo e altri metodi di processo.
· Il processo di pulizia può essere eseguito a una temperatura compresa tra 25 ℃ e 90 ℃, mentre l'aumento della temperatura può ridurre direttamente il tempo di pulizia.
· La concentrazione del detergente può essere regolata in base al livello di sporco dell'oggetto da pulire e la soluzione madre può essere utilizzata per l'ammollo diretto per 3-10 minuti o per la pulizia a spruzzo.
Il prodotto è una merce non pericolosa ed è facile da immagazzinare e trasportare.
Il periodo di conservazione è di 2 anni. Non può essere conservato all'aria aperta e deve essere protetto dal sole e dalla pioggia.
Il fusto con il detergente non utilizzato deve essere serrato, garantendo una corretta conservazione dopo l'uso per evitare la miscelazione delle impurità.
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