| Наявність: | |
|---|---|
| Кількість: | |
2832
2832 — це напівводний очищувач фоторезисту, який використовується у виробництві мікросхем і призначений для зняття та видалення залишків фоторезисту з чутливих підкладок. Він підходить для різних підкладок і має широке застосування в напівпровідниковій промисловості, не піддаючись корозії металевих частин.
Висока ефективність очищення: 2832 може швидко та ретельно розкладати та видаляти різні фоторезисти, не залишаючи залишків, білих плям або водяних знаків, ефективно скорочуючи час очищення та зменшуючи кількість дефектів.
Широке застосування та точне вибіркове очищення: 2832 застосовується до різних типів мікросхем і напівпровідників з м’яких матеріалів, друкованих плат і очищення металів. Під час процесу очищення він може точно націлити фоторезист, не викликаючи корозії або прихованого пошкодження підкладок і металевих ліній, ефективно захищаючи цілісність і продуктивність очищеного продукту та електронних компонентів.
Чудова здатність до промивання: Відмінна здатність до промивання: легко змивається, не залишаючи хімічних залишків на поверхні очищених матеріалів, і може уникнути будь-яких перешкод для підкладок і наступних процесів, таких як осадження, травлення тощо.
Гарантія екологічності та безпеки: продукт має хорошу розчинність у воді, нелеткість, негорючість і здатність до біологічного розкладання, що відповідає екологічним вимогам. Між тим, він відповідає стандартам ROHS і може забезпечити безпеку використання.
Параметр |
Значення |
Композиція |
Суміш активних речовин і розчинників |
Зовнішній вигляд |
Жовтувата прозора рідина |
Значення PH |
9,5-11,5 |
Питома вага |
0,95-0,98 |
Метод очищення |
Гаряче замочування, очищення спреєм |
Упаковка |
25 кг/пластикова бочка |
Термін зберігання |
2 роки |
Ідеально підходить для видалення позитивного/негативного фоторезисту в процесах виробництва мікросхем LCD, LED, IC, PSS у напівпровідниковій промисловості, а також для очищення друкованих плат.
Надійний для очищення колоїдів і смол на різних металевих і пластикових поверхнях.
Спосіб використання: занурте пластину або інші матеріали, що містять фоторезист, у цей пристрій для зняття фоторезисту з низьким травленням на відповідний час при температурі від 25 ℃ до 90 ℃.
· Методом очищення може бути гаряче замочування, очищення розпиленням та інші методи процесу.
· Процес очищення можна проводити при температурі від 25 ℃ до 90 ℃, тоді як підвищення температури може безпосередньо скоротити час очищення.
· Концентрацію миючого засобу можна регулювати відповідно до рівня забруднення об’єкта чищення, а базовий розчин можна використовувати для прямого замочування на 3-10 хвилин або для очищення спреєм.
Продукт не є небезпечним товаром і його легко зберігати та транспортувати.
Термін зберігання 2 роки. Його не можна зберігати на відкритому повітрі, його слід захищати від сонця та дощу.
Бочку з невикористаним миючим засобом слід затягнути, забезпечивши належне зберігання після використання, щоб запобігти змішуванню домішок.
вміст порожній!