| Доступност: | |
|---|---|
| Количина: | |
2832
2832 је полуводени уређај за скидање фоторезиста који се користи у производњи чипова, дизајниран за скидање и уклањање остатака фоторезиста са осетљивих подлога. Погодан је за различите подлоге и има широку примену у индустрији полупроводника, док нема корозије за металне делове.
Висока ефикасност чишћења: 2832 може брзо и темељно да разгради и скине различите фоторезисте, не остављајући остатке, беле мрље или водене жигове, ефикасно скраћујући време чишћења и смањујући стопу неисправности.
Широка примена и прецизно селективно чишћење: 2832 се примењује на различите врсте меких материјала, чипс и полупроводнике, штампане плоче и чишћење метала. Током процеса чишћења, може прецизно циљати фоторезист без изазивања било какве корозије или латентног оштећења подлога и металних линија, ефикасно штитећи интегритет и перформансе очишћеног производа и електронских компоненти.
Одлична способност испирања: Одлична способност испирања: Лако се испире, не остављајући хемијске остатке на површини очишћених материјала, и може избећи било какво ометање подлога и накнадних процеса као што су таложење, гравирање и слично.
Еколошки прихватљиво и сигурносно осигурање: Производ има добру растворљивост у води, неиспарљивост, незапаљивост и биоразградљивост, испуњавајући еколошке захтеве. У међувремену, он је у складу са РОХС стандардима и може осигурати сигурност у употреби.
Параметар |
Валуе |
Композиција |
Мешавина активних агенаса и растварача |
Изглед |
Жућкаста провидна течност |
ПХ вредност |
9.5-11.5 |
Специфиц Гравити |
0,95-0,98 |
Метода чишћења |
Вруће намакање, чишћење спрејом |
Паковање |
25КГ/пластично буре |
Период складиштења |
2 године |
Идеалан за уклањање позитивног/негативног фоторезиста у процесима производње ЛЦД, ЛЕД, ИЦ, ПСС чипова у индустрији полупроводника, као и у чишћењу ПЦБ плоча.
Поуздан за чишћење колоида и смола на разним металним и пластичним површинама.
Како се користи: уроните плочицу или друге материјале који садрже фоторезист у овај уређај за скидање фоторезиста са ниским нагризањем на одговарајуће време на 25 ℃ до 90 ℃.
· Метода чишћења може бити третман врућим намакањем, чишћење спрејом и друге методе процеса.
· Процес чишћења може да се одвија на 25℃ до 90℃, док подизање температуре може директно скратити време чишћења.
· Концентрација средства за чишћење се може подесити према нивоу прљавштине предмета за чишћење, а основни раствор се може користити за директно намакање у трајању од 3-10 минута или чишћење спрејом.
Производ је неопасна роба и лак је за складиштење и транспорт.
Период складиштења је 2 године. Не може се чувати на отвореном и треба га заштитити од сунца и кише.
Цијев са неискоришћеним средством за чишћење треба затегнути, осигуравајући правилно складиштење након употребе како би се спријечило мијешање нечистоћа.
садржај је празан!