| Availability: | |
|---|---|
| Quantitas: | |
2832
2832 DENUDATOR semi-aqueus photoresisticus in fabricandis chippis usus est, destinatus ad residuas photorestarum nudandas et tollendas a subiectis sensibilibus. Variis subiecta est aptum, et late applicationes in semiconductoris industriae habet, cum nullam corrosionem in partes metallicas habeat.
Princeps Purgatio Efficientia: 2832 Celeriter et penitus dissoluere potest et varias photorestas exuere, nullas residuas, maculas albas vel vestigium relinquens, efficaciter purgationem temporis minuendi et minuendi ratem deficientem.
Lata Applicabilitas & Praecisa Purgatio selectiva: 2832 varias applicat materias molles astulas et semiconductores, tabulas ambitus, et metalla purgatio. Per emundationem processus, praecise scopum photoresist potest sine ullo corrosione vel latente damno substrato et metallis lineis, efficaciter integritatem et observantiam operis mundati et electronicarum partium tuendi.
Egregium Rinsing Capability: Eximia Rinsing Facultas: Facile est ad stupam, nullum chemicum residuum in superficie materiarum mundatarum relinquens, et omnem impedimentum cum subiectis et subsequentibus processibus sicut depositionis, etching, et huiusmodi, potest vitare.
Environmentally Friendly & Safety Assurance: Productum communicat bonam aquam solubilitatem, non-volatilitatem, non-flammabilitatem, et biodegradability, occurrens requisita environmental. Interim signis ROHS obtemperat et salutem in usu praestare potest.
Parameter |
Precium |
Compositio |
Mixtio agentium activorum et menstrua |
Aspectus |
Luteum fluidum diaphanum |
PH Precium |
9.5-11.5 |
Gravitas Imprimis |
0.95-0.98 |
Purgatio Methodo |
Bibula calida, purgatio imbre |
Packaging |
25KG/dolium plasticum |
Tempus repono |
II annis |
Specimen ad remotionem positivi/negativi photoresistae in LCD, LED, IC, PSS processuum productionis in semiconductori industria, necnon in PCB circa tabulas purgandas.
Dependentes ad purgandas colloidas et resinas in variis superficiebus metallis et plasticis.
Uti: laganum immergere vel alias materias quae photoresist continentes in hac etch photoresist DENUDATOR humilis opportuno tempore 25 ℃ ad 90 .
· Modus purgatio esse potest calidum macerari curationem, imbre purgatio, et alia processus methodi.
· Processus purgatio potest operari ad 25℃ ad 90℃, temperatura elevans tempus directe minuere potest.
· Concentratio mundior ad sordes rei mundandae gradum accommodari potest, et solutio stirpis ad 3-10 minutas macerationem directa adhiberi potest, vel imbre purgatio.
Productum est bona non periculosa et facilis copia et oneraria.
Tempus tabularium est 2 annorum. Sub divo condi non potest, sole et pluvia prohiberi.
Dolium cum insueto emundatione agentis coartari debet, procurans debitam repositam post usum ne immunditiam permiscendam.
contentus inanis est!