| Dostupnosť: | |
|---|---|
| Množstvo: | |
2832
2832 je polovodný odstraňovač fotorezistu používaný pri výrobe čipov, určený na odstraňovanie a odstraňovanie zvyškov fotorezistu z citlivých substrátov. Je vhodný pre rôzne substráty a má široké uplatnenie v polovodičovom priemysle, pričom nedochádza k korózii kovových častí.
Vysoká účinnosť čistenia: 2832 dokáže rýchlo a dôkladne rozložiť a odstrániť rôzne fotorezisty, pričom nezanechá žiadne zvyšky, biele škvrny alebo vodoznaky, čím sa efektívne skráti čas čistenia a zníži sa chybovosť.
Široká použiteľnosť a presné selektívne čistenie: 2832 sa vzťahuje na rôzne typy mäkkých materiálov na čistenie čipov a polovodičov, dosiek plošných spojov a kovov. Počas procesu čistenia môže presne zacieliť fotorezist bez toho, aby spôsobil koróziu alebo latentné poškodenie substrátov a kovových línií, čím účinne chráni integritu a výkon čisteného produktu a elektronických komponentov.
Vynikajúca oplachovacia schopnosť: Vynikajúca oplachovacia schopnosť: Ľahko sa oplachuje, nezanecháva žiadne chemické zvyšky na povrchu čistených materiálov a môže zabrániť akémukoľvek rušeniu substrátov a následným procesom, ako je usadzovanie, leptanie a podobne.
Ekologická a bezpečnostná záruka: Produkt má dobrú rozpustnosť vo vode, neprchavosť, nehorľavosť a biologickú odbúrateľnosť, čím spĺňa environmentálne požiadavky. Medzitým spĺňa normy ROHS a môže zaistiť bezpečnosť pri používaní.
Parameter |
Hodnota |
Zloženie |
Zmes účinných látok a rozpúšťadiel |
Vzhľad |
Žltkastá priehľadná tekutina |
Hodnota PH |
9,5-11,5 |
Špecifická gravitácia |
0,95-0,98 |
Metóda čistenia |
Namáčanie za horúca, čistenie sprejom |
Balenie |
25 kg / plastový sud |
Doba skladovania |
2 roky |
Ideálne na odstraňovanie pozitívneho/negatívneho fotorezistu v procesoch výroby čipov LCD, LED, IC, PSS v polovodičovom priemysle, ako aj pri čistení dosiek plošných spojov.
Spoľahlivý na čistenie koloidov a živíc na rôznych kovových a plastových povrchoch.
Spôsob použitia: ponorte plátok alebo iné materiály, ktoré obsahujú fotorezist, do tohto odstraňovača fotorezistu s nízkym leptaním na primeranú dobu pri teplote 25 ℃ až 90 ℃.
· Metódou čistenia môže byť namáčanie za horúca, čistenie sprejom a iné procesné metódy.
· Proces čistenia je možné prevádzkovať pri 25 °C až 90 °C, zatiaľ čo zvýšenie teploty môže priamo skrátiť čas čistenia.
· Koncentráciu čistiaceho prostriedku je možné upraviť podľa stupňa znečistenia čisteného predmetu a zásobný roztok použiť na priame namáčanie po dobu 3-10 minút, alebo čistenie sprejom.
Výrobok nie je nebezpečným tovarom a ľahko sa skladuje a prepravuje.
Doba skladovania je 2 roky. Neskladuje sa na čerstvom vzduchu a treba ho chrániť pred slnkom a dažďom.
Sud s nepoužitým čistiacim prostriedkom by mal byť utiahnutý, aby sa po použití zabezpečilo správne skladovanie, aby sa zabránilo zmiešaniu nečistôt.
obsah je prázdny!