| Disponibilitate: | |
|---|---|
| Cantitate: | |
2832
2832 este un decapant semiapos de fotorezist utilizat în fabricarea așchiilor, conceput pentru îndepărtarea și îndepărtarea reziduurilor de fotorezist de pe substraturi sensibile. Este potrivit pentru diferite substraturi și are aplicații largi în industria semiconductoarelor, fără a coroda piesele metalice.
Eficiență ridicată de curățare: 2832 poate descompune și îndepărta rapid și complet diverse fotoreziste, fără a lăsa reziduuri, pete albe sau filigrane, scurtând efectiv timpul de curățare și reducând rata defectelor.
Aplicabilitate largă și curățare selectivă precisă: 2832 se aplică diferitelor tipuri de cipuri și semiconductori de materiale moi, plăci de circuite și curățare a metalelor. În timpul procesului de curățare, poate viza cu precizie fotorezistul, fără a provoca coroziune sau deteriorare latentă a substraturilor și liniilor metalice, protejând eficient integritatea și performanța produsului curățat și a componentelor electronice.
Capacitate excelentă de clătire: Capacitate excelentă de clătire: Este ușor de clătit, fără a lăsa reziduuri chimice pe suprafața materialelor curățate și poate evita orice interferență cu substraturile și procesele ulterioare, cum ar fi depunerea, gravarea și altele.
Ecologic și asigurare de siguranță: produsul are o bună solubilitate în apă, nevolatilitate, neinflamabilitate și biodegradabilitate, îndeplinește cerințele de mediu. Între timp, respectă standardele ROHS și poate asigura siguranță în utilizare.
Parametru |
Valoare |
Compoziţie |
Amestec de agenți activi și solvenți |
Aspect |
Fluid transparent gălbui |
Valoarea PH |
9,5-11,5 |
Greutate specifică |
0,95-0,98 |
Metoda de curățare |
Înmuiere la cald, curățare prin pulverizare |
Ambalare |
25KG/butoaie de plastic |
Perioada de depozitare |
2 ani |
Ideal pentru îndepărtarea fotorezistului pozitiv/negativ din procesele de producție de cipuri LCD, LED, IC, PSS din industria semiconductoarelor, precum și în curățarea plăcilor de circuite PCB.
Fiabil pentru curățarea coloizilor și rășinilor de pe o varietate de suprafețe metalice și plastice.
Mod de utilizare: scufundați napolitana sau alte materiale care conțin fotorezist în acest decapant fotorezistent cu gravitate redusă pentru un timp adecvat, la 25 ℃ până la 90 ℃.
· Metoda de curățare poate fi tratamentul prin înmuiere la cald, curățarea prin pulverizare și alte metode de proces.
· Procesul de curățare poate fi operat la 25℃ până la 90℃, în timp ce creșterea temperaturii poate scurta direct timpul de curățare.
· Concentrația agentului de curățare poate fi ajustată în funcție de nivelul de murdărie al obiectului de curățat, iar soluția stoc poate fi folosită pentru înmuiere directă timp de 3-10 minute, sau curățare prin pulverizare.
Produsul este mărfuri nepericuloase și este ușor de depozitat și transportat.
Perioada de depozitare este de 2 ani. Nu poate fi depozitat în aer liber și trebuie împiedicat de soare și ploaie.
Butoiul cu agent de curățare neutilizat trebuie strâns, asigurând depozitarea corespunzătoare după utilizare pentru a preveni amestecarea impurităților.
conținutul este gol!