| Beschikbaarheid: | |
|---|---|
| Aantal: | |
2832
2832 is een semi-waterige fotoresiststripper die wordt gebruikt bij de productie van chips en is ontworpen voor het strippen en verwijderen van fotoresistresten van gevoelige substraten. Het is geschikt voor verschillende substraten en heeft brede toepassingen in de halfgeleiderindustrie, terwijl er geen corrosie op metalen onderdelen optreedt.
Hoge reinigingsefficiëntie: 2832 kan verschillende fotoresists snel en grondig ontbinden en strippen, zonder residu, witte vlekken of watervlekken achter te laten, waardoor de reinigingstijd effectief wordt verkort en het aantal defecten wordt verminderd.
Brede toepasbaarheid en nauwkeurige selectieve reiniging: 2832 is van toepassing op verschillende soorten zachte materialen, chips en halfgeleiders, printplaten en metalen reiniging. Tijdens het reinigingsproces kan het fotoresist nauwkeurig richten zonder enige corrosie of latente schade aan substraten en metalen lijnen te veroorzaken, waardoor de integriteit en prestaties van het gereinigde product en de elektronische componenten effectief worden beschermd.
Uitstekend spoelvermogen: Uitstekend spoelvermogen: Het is gemakkelijk te spoelen, laat geen chemische resten achter op het oppervlak van de gereinigde materialen en kan elke interferentie met substraten en daaropvolgende processen zoals afzetting, etsen en dergelijke voorkomen.
Milieuvriendelijk en veiligheidsgarantie: Het product is goed oplosbaar in water, niet-vluchtig, niet-ontvlambaar en biologisch afbreekbaar en voldoet aan de milieueisen. Ondertussen voldoet het aan de ROHS-normen en kan het de veiligheid bij gebruik garanderen.
Parameter |
Waarde |
Samenstelling |
Mengsel van actieve stoffen en oplosmiddelen |
Verschijning |
Geelachtige transparante vloeistof |
PH-waarde |
9,5-11,5 |
Soortelijk gewicht |
0,95-0,98 |
Reinigingsmethode |
Heet weken, sproeireiniging |
Verpakking |
25KG/plastic vat |
Bewaartermijn |
2 jaar |
Ideaal voor het verwijderen van positieve/negatieve fotoresist in LCD-, LED-, IC- en PSS-chipproductieprocessen in de halfgeleiderindustrie, evenals bij het reinigen van PCB-printplaten.
Betrouwbaar voor het reinigen van colloïden en harsen op diverse metalen en kunststof oppervlakken.
Hoe te gebruiken: dompel de wafel of andere materialen die fotoresist bevatten gedurende een geschikte tijd onder in deze low-etch fotoresist-stripper bij 25 ℃ tot 90 ℃.
· De reinigingsmethode kan een warmwaterbehandeling, sproeireiniging en andere procesmethoden zijn.
· Het reinigingsproces kan worden uitgevoerd bij 25℃ tot 90℃, terwijl het verhogen van de temperatuur de reinigingstijd direct kan verkorten.
· De concentratie van de reiniger kan worden aangepast aan de mate van vervuiling van het te reinigen object, en de stamoplossing kan worden gebruikt voor direct inweken gedurende 3-10 minuten, of voor sproeireiniging.
Het product is een ongevaarlijk product en is gemakkelijk op te slaan en te vervoeren.
De bewaartermijn bedraagt 2 jaar. Het kan niet in de open lucht worden opgeslagen en moet worden beschermd tegen zon en regen.
Het vat met ongebruikt reinigingsmiddel moet worden vastgedraaid, zodat na gebruik een goede opslag wordt gegarandeerd om vermenging van onzuiverheden te voorkomen.
inhoud is leeg!