Du är här: Hem / Produkter / Kemikalier för halvledare / Rengöringsmedel för precisionsdelar och halvledare / Icke-frätande Alkaline Photoresist Stripper for Semiconductor

belastning

Icke-korrosiv alkalisk fotoresiststripper för halvledare

Det är en icke-korrosiv alkalisk fotoresistavdragare för halvledartillverkning, som effektivt tar bort rester från LCD/LED/IC-chips och PCB samtidigt som den skyddar känsliga substrat och metallkomponenter.
 
Fördelar:
  • Resterfri rengöring
  • Substratsäker formel‌
  • Bred kompatibilitet
  • Snabb sköljning
  • ROHS-kompatibel
 
Förpackningsenheter: 25L/fat, 200L/fat
Tillgänglighet:
Kvantitet:
Facebook delningsknapp
twitter delningsknapp
linjedelningsknapp
wechat delningsknapp
linkedin delningsknapp
pinterest delningsknapp
whatsapp delningsknapp
kakao delningsknapp
snapchat delningsknapp
telegramdelningsknapp
dela den här delningsknappen
  • 2832

2832 är en semi-aqueous fotoresist stripper som används vid chiptillverkning, designad för att strippa och ta bort fotoresistrester från känsliga substrat. Den är lämplig för olika substrat och har breda applikationer inom halvledarindustrin samtidigt som den inte har någon korrosion på metalldelar.


  • Hög rengöringseffektivitet: 2832 kan snabbt och grundligt sönderdela och ta bort olika fotoresister utan att lämna några rester, vita fläckar eller vattenstämplar, vilket effektivt förkortar rengöringstiden och minskar antalet defekter.

  • Bred tillämplighet och exakt selektiv rengöring: 2832 gäller för olika typer av mjuka materialchips och halvledare, kretskort och metallrengöring. Under rengöringsprocessen kan den rikta in fotoresist exakt utan att orsaka korrosion eller latent skada på substrat och metalllinjer, vilket effektivt skyddar integriteten och prestandan hos den rengjorda produkten och elektroniska komponenter.

  • Utmärkt sköljförmåga: Utmärkt sköljningsförmåga: Det är lätt att skölja, lämnar inga kemikalierester på ytan av de rengjorda materialen och kan undvika störningar på substrat och efterföljande processer som avsättning, etsning och liknande.

  • Miljövänlig och säkerhetsförsäkran: Produkten har god vattenlöslighet, icke-flyktighet, icke-antändlighet och biologisk nedbrytbarhet, och uppfyller miljökraven. Samtidigt uppfyller den ROHS-standarder och kan garantera säkerhet vid användning.


Parameter

Värde

Sammansättning

Blandning av aktiva ämnen och lösningsmedel

Utseende

Gulaktig transparent vätska

PH-värde

9,5-11,5

Densitet

0,95-0,98

Rengöringsmetod

Varmblötläggning, sprayrengöring

Förpackning

25KG/plastfat

Lagringsperiod

2 år


  • Idealisk för att ta bort positiv/negativ fotoresist i LCD-, LED-, IC-, PSS-chipproduktionsprocesser i halvledarindustrin, såväl som vid rengöring av PCB-kretskort.

  • Pålitlig för rengöring av kolloider och hartser på en mängd olika metall- och plastytor.


  • Hur man använder: doppa ner wafern eller andra material som innehåller fotoresist i denna lågetsade fotoresistavdragare under en lämplig tid vid 25 ℃ till 90 ℃.

    · Rengöringsmetoden kan vara varmblötsbehandling, sprayrengöring och andra processmetoder.

    · Rengöringsprocessen kan köras vid 25 ℃ till 90 ℃, medan en höjning av temperaturen direkt kan förkorta rengöringstiden.

    · Koncentrationen av rengöringsmedlet kan justeras efter smutsnivån på rengöringsobjektet, och stamlösningen kan användas för direkt blötläggning i 3-10 minuter, eller sprayrengöring.

  • Produkten är ofarligt gods och är lätt att lagra och transportera.

  • Lagringstiden är 2 år. Den kan inte förvaras utomhus, och bör förhindras från sol och regn.

  • Tunnan med oanvänt rengöringsmedel ska dras åt, vilket säkerställer korrekt förvaring efter användning för att förhindra att föroreningar blandas.


Tidigare: 
Nästa: 

Relaterade nyheter

innehållet är tomt!

WhatsApp:
+86- 18123969340 
+86- 13691824013
E-post:
contact@yuananchemtech.com
supports@yuananchemtech.com
Öppettider:
mån. - Fre. 9:00 - 18:00
Om oss
Den har fokuserat på tillverkning av medel för halvledare och produktion och forskning och utveckling av elektroniska kemikalier.
Prenumerera
Anmäl dig till vårt nyhetsbrev för att få de senaste nyheterna.
Copyright © 2024 Shenzhen Yuanan Technology Co., Ltd. Med ensamrätt. Webbplatskarta Sekretesspolicy