半導体用非腐食性アルカリ性フォトレジスト剥離剤

高い洗浄効率: 2832 は、さまざまなフォトレジストを迅速かつ徹底的に分解して除去し、残留物、白い斑点、ウォーターマークを残さず、効果的に洗浄時間を短縮し、不良率を低減します。

幅広い適用性と正確な選択洗浄: 2832 は、さまざまな種類の軟質材料のチップや半導体、回路基板、金属の洗浄に適用されます。洗浄プロセス中、基板や金属ラインに腐食や潜在的な損傷を引き起こすことなくフォトレジストを正確にターゲットすることができ、洗浄された製品と電子部品の完全性と性能を効果的に保護します。

優れたすすぎ能力: 優れたすすぎ能力: すすぎが容易で、洗浄された材料の表面に化学残留物を残さず、基板やその後の蒸着、エッチングなどのプロセスへの干渉を回避できます。

環境に優しい&安全保証： この製品は良好な水溶性、不揮発性、不燃性、生分解性を共有しており、環境要件を満たしています。一方、ROHS規格に準拠しており、使用時の安全性を確保できます。

半導体産業におけるLCD、LED、IC、PSSチップの製造プロセスやPCB回路基板の洗浄におけるポジ/ネガフォトレジストの除去に最適です。

さまざまな金属やプラスチック表面のコロイドや樹脂の洗浄に最適です。

使用方法: ウェハまたはフォトレジストを含むその他の材料を、この低エッチングフォトレジスト剥離液に 25 ℃ ～ 90 ℃で適切な時間浸漬します。

・洗浄方法はホットソーク処理、スプレー洗浄等の処理方法が可能です。

・洗浄プロセスは25℃～90℃で動作可能ですが、温度を上げると洗浄時間の短縮に直接つながります。

・洗浄対象物の汚れ度合いに応じて洗浄剤の濃度を調整でき、原液で3〜10分間の直接浸漬やスプレー洗浄が可能です。

この製品は非危険物であり、保管や輸送が簡単です。

保管期間は2年間です。屋外での保管はできませんので、日光や雨を避けてください。

未使用の洗浄剤が入ったバレルはしっかりと締め、使用後は不純物の混入を防ぐために適切に保管する必要があります。