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2832
2832 ist ein halbwässriger Photoresist-Stripper, der in der Chipherstellung zum Ablösen und Entfernen von Photoresist-Rückständen von empfindlichen Substraten verwendet wird. Es ist für verschiedene Substrate geeignet und findet in der Halbleiterindustrie breite Anwendung, ohne dass Metallteile korrodieren.
Hohe Reinigungseffizienz: 2832 kann verschiedene Fotolacke schnell und gründlich zersetzen und entfernen, ohne Rückstände, weiße Flecken oder Wasserflecken zu hinterlassen, wodurch die Reinigungszeit effektiv verkürzt und die Fehlerquote gesenkt wird.
Breite Anwendbarkeit und präzise selektive Reinigung: 2832 eignet sich für die Reinigung verschiedener Arten weicher Materialien, Späne und Halbleiter, Leiterplatten und Metalle. Während des Reinigungsprozesses kann der Fotolack präzise anvisiert werden, ohne Korrosion oder latente Schäden an Substraten und Metallleitungen zu verursachen, wodurch die Integrität und Leistung des gereinigten Produkts und der elektronischen Komponenten wirksam geschützt wird.
Hervorragende Spülfähigkeit: Hervorragende Spülfähigkeit: Es ist leicht zu spülen, hinterlässt keine chemischen Rückstände auf der Oberfläche der gereinigten Materialien und kann jegliche Beeinträchtigung der Substrate und nachfolgender Prozesse wie Abscheidung, Ätzen usw. vermeiden.
Umweltfreundlichkeit und Sicherheit: Das Produkt zeichnet sich durch gute Wasserlöslichkeit, Nichtflüchtigkeit, Nichtentflammbarkeit und biologische Abbaubarkeit aus und erfüllt damit die Umweltanforderungen. Mittlerweile entspricht es den ROHS-Standards und kann die Sicherheit bei der Verwendung gewährleisten.
Parameter |
Wert |
Zusammensetzung |
Mischung aus Wirkstoffen und Lösungsmitteln |
Aussehen |
Gelblich transparente Flüssigkeit |
PH-Wert |
9,5-11,5 |
Spezifisches Gewicht |
0,95-0,98 |
Reinigungsmethode |
Heißes Einweichen, Sprühreinigung |
Verpackung |
25 kg/Kunststofffass |
Speicherdauer |
2 Jahre |
Ideal zum Entfernen von positivem/negativem Fotolack in LCD-, LED-, IC- und PSS-Chip-Produktionsprozessen in der Halbleiterindustrie sowie bei der Reinigung von Leiterplatten.
Zuverlässig für die Reinigung von Kolloiden und Harzen auf einer Vielzahl von Metall- und Kunststoffoberflächen.
Anwendung: Tauchen Sie den Wafer oder andere Materialien, die Fotolack enthalten, für eine angemessene Zeit bei 25 ℃ bis 90 ℃ in diesen Low-Etch-Fotolack-Stripper.
· Die Reinigungsmethode kann eine Heißbadbehandlung, eine Sprühreinigung und andere Prozessmethoden sein.
· Der Reinigungsprozess kann bei 25℃ bis 90℃ durchgeführt werden, während eine Erhöhung der Temperatur die Reinigungszeit direkt verkürzen kann.
· Die Konzentration des Reinigers kann je nach Verschmutzungsgrad des zu reinigenden Objekts angepasst werden und die Stammlösung kann zum direkten Einweichen für 3–10 Minuten oder zur Sprühreinigung verwendet werden.
Das Produkt ist kein Gefahrgut und lässt sich leicht lagern und transportieren.
Die Speicherdauer beträgt 2 Jahre. Es kann nicht im Freien gelagert werden und sollte vor Sonne und Regen geschützt werden.
Das Fass mit unbenutztem Reinigungsmittel sollte fest verschlossen werden, um eine ordnungsgemäße Lagerung nach dem Gebrauch sicherzustellen, um eine Vermischung von Verunreinigungen zu verhindern.
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