| Наличие: | |
|---|---|
| Количество: | |
2832
2832 — полуводное средство для снятия фоторезиста, используемое при производстве чипов и предназначенное для снятия остатков фоторезиста с чувствительных подложек. Он подходит для различных подложек и широко применяется в полупроводниковой промышленности, не вызывая при этом коррозии металлических деталей.
Высокая эффективность очистки: 2832 может быстро и тщательно разлагать и снимать различные фоторезисты, не оставляя следов, белых пятен или водяных знаков, что эффективно сокращает время очистки и снижает процент брака.
Широкая применимость и точная выборочная очистка: 2832 применяется для очистки различных типов мягких материалов, микросхем и полупроводников, печатных плат и металлов. В процессе очистки он может точно воздействовать на фоторезист, не вызывая коррозии или скрытого повреждения подложек и металлических линий, эффективно защищая целостность и производительность очищенного продукта и электронных компонентов.
Отличные возможности ополаскивания: Отличные возможности ополаскивания: Легко промывать, не оставляя химических остатков на поверхности очищаемых материалов, что позволяет избежать любого вмешательства в подложки и последующие процессы, такие как осаждение, травление и тому подобное.
Экологичность и гарантия безопасности: продукт обладает хорошей растворимостью в воде, нелетучестью, негорючестью и биоразлагаемостью, отвечая экологическим требованиям. Между тем, он соответствует стандартам ROHS и может обеспечить безопасность в использовании.
Параметр |
Ценить |
Состав |
Смесь активных веществ и растворителей |
Появление |
Желтоватая прозрачная жидкость |
Значение pH |
9,5-11,5 |
Удельный вес |
0,95-0,98 |
Метод очистки |
Горячее замачивание, очистка распылением |
Упаковка |
25 кг/пластиковая бочка |
Срок хранения |
2 года |
Идеально подходит для удаления положительного/негативного фоторезиста в процессах производства чипов ЖК-дисплеев, светодиодов, ИС, PSS в полупроводниковой промышленности, а также при очистке печатных плат.
Надежно очищает от коллоидов и смол на различных металлических и пластиковых поверхностях.
Как использовать: погрузите пластину или другие материалы, содержащие фоторезист, в этот съемник фоторезиста с низким травлением на соответствующее время при температуре от 25 ℃ до 90 ℃.
· Метод очистки может включать в себя горячее замачивание, очистку распылением и другие технологические методы.
· Процесс очистки может осуществляться при температуре от 25 ℃ до 90 ℃, а повышение температуры может напрямую сократить время очистки.
· Концентрацию чистящего средства можно регулировать в зависимости от уровня загрязнения очищаемого объекта, а исходный раствор можно использовать для прямого замачивания на 3–10 минут или для очистки распылением.
Продукт является неопасным грузом, его легко хранить и транспортировать.
Срок хранения – 2 года. Его нельзя хранить на открытом воздухе и следует защищать от солнца и дождя.
Бочку с неиспользованным чистящим средством следует закрутить, обеспечив правильное хранение после использования во избежание смешивания примесей.
контент пуст!