반도체용 비부식성 알칼리 감광액 박리제

높은 세정 효율성: 2832는 다양한 포토레지스트를 신속하고 철저하게 분해 및 박리하여 잔여물, 백점 또는 워터마크를 남기지 않아 세정 시간을 효과적으로 단축하고 불량률을 줄입니다.

폭넓은 적용성 및 정밀한 선택적 세정: 2832는 다양한 유형의 연질 소재 칩 및 반도체, 회로 기판 및 금속 세정에 적용됩니다. 세척 과정에서 기판과 금속 라인에 부식이나 잠재적인 손상을 일으키지 않고 포토레지스트를 정확하게 타겟으로 삼아 세척된 제품과 전자 부품의 무결성과 성능을 효과적으로 보호할 수 있습니다.

우수한 헹굼 능력 : 탁월한 헹굼 능력 : 헹굼이 용이하여 피세척된 소재의 표면에 화학적 잔여물이 남지 않으며, 기판 및 증착, 에칭 등의 후속 공정에 대한 간섭을 피할 수 있습니다.

환경 친화적 및 안전 보증: 이 제품은 우수한 수용성, 비휘발성, 불연성 및 생분해성을 공유하여 환경 요구 사항을 충족합니다. 한편, ROHS 표준을 준수하며 사용 중 안전을 보장할 수 있습니다.

반도체 산업의 LCD, LED, IC, PSS 칩 생산 공정 및 PCB 회로 기판 청소에서 포지티브/네거티브 포토레지스트 제거에 이상적입니다.

다양한 금속 및 플라스틱 표면의 콜로이드 및 수지 세척에 적합합니다.

사용방법 : 웨이퍼나 포토레지스트가 함유된 기타 재료를 로우에치 포토레지스트 스트리퍼에 25℃~90℃에서 적절한 시간 동안 담급니다.

· 세척방법은 온탕처리, 스프레이 세척, 기타 가공방법이 있다.

· 세척 공정은 25℃ ~ 90℃에서 작동 가능하며, 온도를 높이면 세척 시간이 직접적으로 단축됩니다.

· 세척물의 오염도에 따라 세척제의 농도를 조절할 수 있으며, 원액은 3~10분간 직접 담그거나 스프레이 세척으로 사용할 수 있습니다.

본 제품은 위험물이 아니며 보관 및 운반이 용이합니다.

보관기간은 2년입니다. 야외에 보관할 수 없으며 햇빛과 비를 피해야 합니다.

사용하지 않은 세척제가 담긴 배럴은 단단히 조여 사용 후 적절한 보관을 통해 불순물이 섞이는 것을 방지해야 합니다.