| Disponibilidad: | |
|---|---|
| Cantidad: | |
2832
2832 es un decapante fotorresistente semiacuoso utilizado en la fabricación de chips, diseñado para extraer y eliminar residuos fotorresistentes de sustratos sensibles. Es adecuado para diversos sustratos y tiene amplias aplicaciones en la industria de los semiconductores, sin provocar corrosión en las piezas metálicas.
Alta eficiencia de limpieza: 2832 puede descomponer y eliminar rápida y completamente varios fotorresistentes, sin dejar residuos, manchas blancas o marcas de agua, acortando efectivamente el tiempo de limpieza y reduciendo la tasa de defectos.
Amplia aplicabilidad y limpieza selectiva precisa: 2832 se aplica a varios tipos de chips y semiconductores de materiales blandos, placas de circuitos y limpieza de metales. Durante el proceso de limpieza, puede apuntar con precisión al fotoprotector sin causar corrosión ni daños latentes a los sustratos y líneas metálicas, protegiendo eficazmente la integridad y el rendimiento del producto y los componentes electrónicos limpiados.
Excelente capacidad de enjuague: Excelente capacidad de enjuague: Es fácil de enjuagar, no deja residuos químicos en la superficie de los materiales limpios y puede evitar cualquier interferencia con los sustratos y procesos posteriores como deposición, grabado y similares.
Respetuoso con el medio ambiente y garantía de seguridad: el producto comparte buena solubilidad en agua, no volatilidad, no inflamabilidad y biodegradabilidad, cumpliendo con los requisitos ambientales. Mientras tanto, cumple con los estándares ROHS y puede garantizar la seguridad en el uso.
Parámetro |
Valor |
Composición |
Mezcla de agentes activos y disolventes. |
Apariencia |
Líquido transparente amarillento |
Valor de PH |
9,5-11,5 |
Peso específico |
0,95-0,98 |
Método de limpieza |
Remojo en caliente, limpieza por aspersión |
Embalaje |
25KG/barril de plástico |
Período de almacenamiento |
2 años |
Ideal para eliminar fotoprotectores positivos/negativos en procesos de producción de chips LCD, LED, IC y PSS en la industria de semiconductores, así como en la limpieza de placas de circuitos PCB.
Confiable para limpiar coloides y resinas en una variedad de superficies de metal y plástico.
Cómo utilizar: sumerja la oblea u otros materiales que contengan fotorresistente en este decapante de fotorresistente de bajo grabado durante un tiempo adecuado entre 25 ℃ y 90 ℃.
· El método de limpieza puede ser un tratamiento de remojo en caliente, limpieza por aspersión y otros métodos de proceso.
· El proceso de limpieza se puede realizar entre 25 ℃ y 90 ℃, mientras que elevar la temperatura puede acortar directamente el tiempo de limpieza.
· La concentración del limpiador se puede ajustar de acuerdo con el nivel de suciedad del objeto a limpiar, y la solución madre se puede usar para remojo directo durante 3 a 10 minutos o para limpieza por aspersión.
El producto no es una mercancía peligrosa y es fácil de almacenar y transportar.
El período de almacenamiento es de 2 años. No se puede almacenar al aire libre y se debe proteger del sol y la lluvia.
El barril con el agente de limpieza no utilizado se debe apretar, asegurando un almacenamiento adecuado después de su uso para evitar que se mezclen impurezas.
¡El contenido está vacío!