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Decapante fotorresistente alcalino no corrosivo para semiconductores

Es un decapante fotorresistente alcalino no corrosivo para la fabricación de semiconductores, que elimina eficazmente los residuos de chips LCD/LED/IC y PCB y, al mismo tiempo, protege sustratos sensibles y componentes metálicos.
 
Ventajas:
  • Limpieza sin residuos‌
  • Fórmula segura para sustratos‌
  • Amplia compatibilidad
  • enjuague rápido
  • Cumple con ROHS‌
 
Unidades de embalaje: 25L/barril, 200L/barril
Disponibilidad:
Cantidad:
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  • 2832

2832 es un decapante fotorresistente semiacuoso utilizado en la fabricación de chips, diseñado para extraer y eliminar residuos fotorresistentes de sustratos sensibles. Es adecuado para diversos sustratos y tiene amplias aplicaciones en la industria de los semiconductores, sin provocar corrosión en las piezas metálicas.


  • Alta eficiencia de limpieza: 2832 puede descomponer y eliminar rápida y completamente varios fotorresistentes, sin dejar residuos, manchas blancas o marcas de agua, acortando efectivamente el tiempo de limpieza y reduciendo la tasa de defectos.

  • Amplia aplicabilidad y limpieza selectiva precisa: 2832 se aplica a varios tipos de chips y semiconductores de materiales blandos, placas de circuitos y limpieza de metales. Durante el proceso de limpieza, puede apuntar con precisión al fotoprotector sin causar corrosión ni daños latentes a los sustratos y líneas metálicas, protegiendo eficazmente la integridad y el rendimiento del producto y los componentes electrónicos limpiados.

  • Excelente capacidad de enjuague: Excelente capacidad de enjuague: Es fácil de enjuagar, no deja residuos químicos en la superficie de los materiales limpios y puede evitar cualquier interferencia con los sustratos y procesos posteriores como deposición, grabado y similares.

  • Respetuoso con el medio ambiente y garantía de seguridad: el producto comparte buena solubilidad en agua, no volatilidad, no inflamabilidad y biodegradabilidad, cumpliendo con los requisitos ambientales. Mientras tanto, cumple con los estándares ROHS y puede garantizar la seguridad en el uso.


Parámetro

Valor

Composición

Mezcla de agentes activos y disolventes.

Apariencia

Líquido transparente amarillento

Valor de PH

9,5-11,5

Peso específico

0,95-0,98

Método de limpieza

Remojo en caliente, limpieza por aspersión

Embalaje

25KG/barril de plástico

Período de almacenamiento

2 años


  • Ideal para eliminar fotoprotectores positivos/negativos en procesos de producción de chips LCD, LED, IC y PSS en la industria de semiconductores, así como en la limpieza de placas de circuitos PCB.

  • Confiable para limpiar coloides y resinas en una variedad de superficies de metal y plástico.


  • Cómo utilizar: sumerja la oblea u otros materiales que contengan fotorresistente en este decapante de fotorresistente de bajo grabado durante un tiempo adecuado entre 25 ℃ y 90 ℃.

    · El método de limpieza puede ser un tratamiento de remojo en caliente, limpieza por aspersión y otros métodos de proceso.

    · El proceso de limpieza se puede realizar entre 25 ℃ y 90 ℃, mientras que elevar la temperatura puede acortar directamente el tiempo de limpieza.

    · La concentración del limpiador se puede ajustar de acuerdo con el nivel de suciedad del objeto a limpiar, y la solución madre se puede usar para remojo directo durante 3 a 10 minutos o para limpieza por aspersión.

  • El producto no es una mercancía peligrosa y es fácil de almacenar y transportar.

  • El período de almacenamiento es de 2 años. No se puede almacenar al aire libre y se debe proteger del sol y la lluvia.

  • El barril con el agente de limpieza no utilizado se debe apretar, asegurando un almacenamiento adecuado después de su uso para evitar que se mezclen impurezas.


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