| Dobavljivost: | |
|---|---|
| Količina: | |
2832
2832 je polvodni odstranjevalec fotorezista, ki se uporablja v proizvodnji čipov in je zasnovan za odstranjevanje ostankov fotorezista z občutljivih substratov. Primeren je za različne podlage in ima široko uporabo v industriji polprevodnikov, medtem ko ne povzroča korozije na kovinskih delih.
Visoka učinkovitost čiščenja: 2832 lahko hitro in temeljito razgradi in odstrani različne fotoreziste, pri čemer ne pušča ostankov, belih madežev ali vodnih žigov, kar učinkovito skrajša čas čiščenja in zmanjša stopnjo okvar.
Široka uporabnost in natančno selektivno čiščenje: 2832 se uporablja za različne vrste čipov in polprevodnikov iz mehkih materialov, tiskanih vezij in čiščenje kovin. Med postopkom čiščenja lahko natančno cilja na fotorezist, ne da bi povzročil kakršno koli korozijo ali latentno škodo na podlagah in kovinskih linijah, s čimer učinkovito zaščiti celovitost in delovanje očiščenega izdelka in elektronskih komponent.
Odlična zmožnost izpiranja: Odlična zmožnost izpiranja: Enostavno se izpira, ne pušča nobenih kemičnih ostankov na površini očiščenih materialov in se lahko izogne kakršnim koli motnjam v podlagah in kasnejših postopkih, kot so nanašanje, jedkanje in podobno.
Okolju prijazno in varnostno zagotovilo: Izdelek ima dobro topnost v vodi, nehlapnost, negorljivost in biorazgradljivost ter izpolnjuje okoljske zahteve. Medtem je v skladu s standardi ROHS in lahko zagotovi varnost pri uporabi.
Parameter |
Vrednost |
Sestava |
Mešanica aktivnih snovi in topil |
Videz |
Rumenkasto prozorna tekočina |
PH vrednost |
9,5-11,5 |
Specifična teža |
0,95-0,98 |
Metoda čiščenja |
Vroče namakanje, čiščenje s pršenjem |
Pakiranje |
25KG/plastični sod |
Obdobje shranjevanja |
2 leti |
Idealen za odstranjevanje pozitivnega/negativnega fotorezista v postopkih proizvodnje čipov LCD, LED, IC, PSS v industriji polprevodnikov, kot tudi pri čiščenju tiskanih vezij.
Zanesljivo za čiščenje koloidov in smol na različnih kovinskih in plastičnih površinah.
Kako uporabljati: rezino ali druge materiale, ki vsebujejo fotorezist, potopite v ta nizko jedkani odstranjevalec fotorezista za primeren čas pri 25 ℃ do 90 ℃.
· Metoda čiščenja je lahko vroče namakanje, čiščenje z razprševanjem in druge procesne metode.
· Postopek čiščenja lahko izvajate pri 25 ℃ do 90 ℃, medtem ko lahko dvig temperature neposredno skrajša čas čiščenja.
· Koncentracijo čistila lahko prilagodite glede na stopnjo umazanije čistilnega predmeta, osnovno raztopino pa lahko uporabite za neposredno namakanje 3-10 minut ali čiščenje s pršenjem.
Izdelek je nenevarno blago in je enostaven za shranjevanje in transport.
Rok skladiščenja je 2 leti. Ni ga mogoče hraniti na prostem, zaščititi ga je treba pred soncem in dežjem.
Posodo z neuporabljenim čistilnim sredstvom je treba zategniti in po uporabi zagotoviti ustrezno shranjevanje, da preprečite mešanje nečistoč.
vsebina je prazna!