Du er her: Hjem / Produkter / Kjemikalier for halvledere / Rengjøringsmidler for presisjonsdeler og halvledere / Ikke-korrosiv alkalisk fotoresiststripper for halvledere

lasting

Ikke-korrosiv alkalisk fotoresiststripper for halvledere

Det er en ikke-korrosiv alkalisk fotoresiststripper for halvlederproduksjon, som effektivt fjerner rester fra LCD/LED/IC-brikker og PCB-er, samtidig som den beskytter sensitive underlag og metallkomponenter.
 
Fordeler:
  • Rengjøring uten rester
  • Substratsikker formel‌
  • Bred kompatibilitet
  • Rask skylling
  • ROHS-kompatibel
 
Emballasjeenheter: 25L/fat, 200L/fat
Tilgjengelighet:
Antall:
Facebook delingsknapp
twitter delingsknapp
linjedelingsknapp
wechat-delingsknapp
linkedin delingsknapp
pinterest delingsknapp
whatsapp delingsknapp
kakao delingsknapp
snapchat delingsknapp
telegramdelingsknapp
del denne delingsknappen
  • 2832

2832 er en semi-vandig fotoresiststripper som brukes i brikkeproduksjon, designet for å fjerne og fjerne fotoresistrester fra sensitive underlag. Den er egnet for ulike underlag, og har brede bruksområder i halvlederindustrien, samtidig som den ikke har noen korrosjon på metalldeler.


  • Høy rengjøringseffektivitet: 2832 kan raskt og grundig dekomponere og strippe forskjellige fotoresister, og etterlater ingen rester, hvite flekker eller vannmerker, noe som effektivt forkorter rengjøringstiden og reduserer antallet defekter.

  • Bred anvendelighet og presis selektiv rengjøring: 2832 gjelder for ulike typer myke materialer, chips og halvledere, kretskort og metallrengjøring. Under rengjøringsprosessen kan den målrette fotoresist nøyaktig uten å forårsake korrosjon eller latent skade på underlag og metalllinjer, og effektivt beskytte integriteten og ytelsen til det rengjorte produktet og elektroniske komponenter.

  • Utmerket skylleevne: Utmerket skylleevne: Det er lett å skylle, og etterlater ingen kjemiske rester på overflaten av de rengjorte materialene, og kan unngå forstyrrelser med underlag og påfølgende prosesser som avsetning, etsing og slikt.

  • Miljøvennlig og sikkerhetsgaranti: Produktet deler god vannløselighet, ikke-flyktighet, ikke-brennbarhet og biologisk nedbrytbarhet, og oppfyller miljøkrav. I mellomtiden overholder den ROHS-standarder og kan sikre sikkerhet ved bruk.


Parameter

Verdi

Komposisjon

Blanding av aktive stoffer og løsemidler

Utseende

Gulaktig gjennomsiktig væske

PH-verdi

9,5-11,5

Egenvekt

0,95-0,98

Rengjøringsmetode

Varm bløtlegging, spray rengjøring

Emballasje

25KG/plastfat

Lagringsperiode

2 år


  • Ideell for fjerning av positiv/negativ fotoresist i LCD-, LED-, IC-, PSS-brikkeproduksjonsprosesser i halvlederindustrien, samt ved rengjøring av PCB-kretskort.

  • Pålitelig for rengjøring av kolloider og harpikser på en rekke metall- og plastoverflater.


  • Slik bruker du: Senk waferen eller andre materialer som inneholder fotoresist i denne lavetsede fotoresiststriperen i en passende tid ved 25 ℃ til 90 ℃.

    · Rengjøringsmetoden kan være behandling med varmt bløtlegging, sprayrengjøring og andre prosessmetoder.

    · Rengjøringsprosessen kan drives ved 25 ℃ til 90 ℃, mens heving av temperaturen direkte kan forkorte rengjøringstiden.

    · Konsentrasjonen av rengjøringsmiddelet kan justeres i henhold til smussnivået til rengjøringsobjektet, og stamløsningen kan brukes til direkte bløtlegging i 3-10 minutter, eller sprayrengjøring.

  • Produktet er ufarlig gods og er lett å lagre og transportere.

  • Lagringstiden er 2 år. Den kan ikke oppbevares i friluft, og bør unngås mot sol og regn.

  • Tønnen med ubrukt rengjøringsmiddel bør strammes til, for å sikre riktig oppbevaring etter bruk for å forhindre innblanding av urenheter.


Tidligere: 
Neste: 

Relaterte nyheter

innholdet er tomt!

WhatsApp:
+86- 18123969340 
+86- 13691824013
E-post:
contact@yuananchemtech.com
supports@yuananchemtech.com
Åpningstider:
man. - Fre. 9:00 - 18:00
Copyright © 2024 Shenzhen Yuanan Technology Co., Ltd. Alle rettigheter reservert. Nettstedkart Personvernpolitikk