| Tilgjengelighet: | |
|---|---|
| Antall: | |
2832
2832 er en semi-vandig fotoresiststripper som brukes i brikkeproduksjon, designet for å fjerne og fjerne fotoresistrester fra sensitive underlag. Den er egnet for ulike underlag, og har brede bruksområder i halvlederindustrien, samtidig som den ikke har noen korrosjon på metalldeler.
Høy rengjøringseffektivitet: 2832 kan raskt og grundig dekomponere og strippe forskjellige fotoresister, og etterlater ingen rester, hvite flekker eller vannmerker, noe som effektivt forkorter rengjøringstiden og reduserer antallet defekter.
Bred anvendelighet og presis selektiv rengjøring: 2832 gjelder for ulike typer myke materialer, chips og halvledere, kretskort og metallrengjøring. Under rengjøringsprosessen kan den målrette fotoresist nøyaktig uten å forårsake korrosjon eller latent skade på underlag og metalllinjer, og effektivt beskytte integriteten og ytelsen til det rengjorte produktet og elektroniske komponenter.
Utmerket skylleevne: Utmerket skylleevne: Det er lett å skylle, og etterlater ingen kjemiske rester på overflaten av de rengjorte materialene, og kan unngå forstyrrelser med underlag og påfølgende prosesser som avsetning, etsing og slikt.
Miljøvennlig og sikkerhetsgaranti: Produktet deler god vannløselighet, ikke-flyktighet, ikke-brennbarhet og biologisk nedbrytbarhet, og oppfyller miljøkrav. I mellomtiden overholder den ROHS-standarder og kan sikre sikkerhet ved bruk.
Parameter |
Verdi |
Komposisjon |
Blanding av aktive stoffer og løsemidler |
Utseende |
Gulaktig gjennomsiktig væske |
PH-verdi |
9,5-11,5 |
Egenvekt |
0,95-0,98 |
Rengjøringsmetode |
Varm bløtlegging, spray rengjøring |
Emballasje |
25KG/plastfat |
Lagringsperiode |
2 år |
Ideell for fjerning av positiv/negativ fotoresist i LCD-, LED-, IC-, PSS-brikkeproduksjonsprosesser i halvlederindustrien, samt ved rengjøring av PCB-kretskort.
Pålitelig for rengjøring av kolloider og harpikser på en rekke metall- og plastoverflater.
Slik bruker du: Senk waferen eller andre materialer som inneholder fotoresist i denne lavetsede fotoresiststriperen i en passende tid ved 25 ℃ til 90 ℃.
· Rengjøringsmetoden kan være behandling med varmt bløtlegging, sprayrengjøring og andre prosessmetoder.
· Rengjøringsprosessen kan drives ved 25 ℃ til 90 ℃, mens heving av temperaturen direkte kan forkorte rengjøringstiden.
· Konsentrasjonen av rengjøringsmiddelet kan justeres i henhold til smussnivået til rengjøringsobjektet, og stamløsningen kan brukes til direkte bløtlegging i 3-10 minutter, eller sprayrengjøring.
Produktet er ufarlig gods og er lett å lagre og transportere.
Lagringstiden er 2 år. Den kan ikke oppbevares i friluft, og bør unngås mot sol og regn.
Tønnen med ubrukt rengjøringsmiddel bør strammes til, for å sikre riktig oppbevaring etter bruk for å forhindre innblanding av urenheter.
innholdet er tomt!