| Availability: | |
|---|---|
| Dami: | |
2832
Ang 2832 ay isang semi-aqueous photoresist stripper na ginagamit sa paggawa ng chip, na idinisenyo para sa pagtanggal at pag-alis ng mga photoresist residues mula sa mga sensitibong substrate. Ito ay angkop para sa iba't ibang mga substrate, at may malawak na aplikasyon sa industriya ng semiconductor habang walang kaagnasan sa mga bahaging metal.
Mataas na Kahusayan sa Paglilinis: Ang 2832 ay maaaring mabilis at lubusang mabulok at mag-alis ng iba't ibang mga photoresist, na hindi nag-iiwan ng nalalabi, mga puting spot, o mga watermark, na epektibong nagpapaikli sa oras ng paglilinis at binabawasan ang depektong rate.
Malawak na Applicability at Precise Selective Cleaning: Nalalapat ang 2832 sa iba't ibang uri ng soft materials na chips at semiconductors, circuit boards, at paglilinis ng metal. Sa panahon ng proseso ng paglilinis, maaari nitong tumpak na i-target ang photoresist nang hindi nagdudulot ng anumang kaagnasan o nakatagong pinsala sa mga substrate at mga linya ng metal, na epektibong nagpoprotekta sa integridad at pagganap ng nalinis na produkto at mga elektronikong bahagi.
Napakahusay na Kakayahan sa Pagbanlaw: Napakahusay na Kakayahang Banlawan: Madali itong banlawan, na walang nalalabi na kemikal sa ibabaw ng mga nilinis na materyales, at maiiwasan ang anumang interference sa mga substrate at mga kasunod na proseso tulad ng deposition, etching, at iba pa.
Environmentally Friendly at Safety Assurance: Ang produkto ay nakikibahagi sa mahusay na tubig solubility, non-volatility, non-flammability, at biodegradability, na nakakatugon sa mga kinakailangan sa kapaligiran. Samantala, sumusunod ito sa mga pamantayan ng ROHS at masisiguro ang kaligtasan sa paggamit.
Parameter |
Halaga |
Komposisyon |
Pinaghalong mga aktibong ahente at solvents |
Hitsura |
Madilaw na transparent na likido |
Halaga ng PH |
9.5-11.5 |
Specific Gravity |
0.95-0.98 |
Paraan ng Paglilinis |
Mainit na pagbababad, spray cleaning |
Packaging |
25KG/plastic barrel |
Panahon ng Pag-iimbak |
2 taon |
Tamang-tama para sa pag-alis ng positibo/negatibong photoresist sa mga proseso ng paggawa ng LCD, LED, IC, PSS chip sa industriya ng semiconductor, gayundin sa paglilinis ng PCB circuit board.
Maaasahan para sa paglilinis ng mga colloid at resin sa iba't ibang metal at plastik na ibabaw.
Paano gamitin: isawsaw ang wafer o iba pang materyales na naglalaman ng photoresist sa low etch photoresist stripper na ito para sa angkop na oras sa 25 ℃ hanggang 90 ℃.
· Ang paraan ng paglilinis ay maaaring maging hot soak treatment, spray cleaning, at iba pang paraan ng proseso.
· Ang proseso ng paglilinis ay maaaring patakbuhin sa 25 ℃ hanggang 90 ℃, habang ang pagtaas ng temperatura ay maaaring direktang paikliin ang oras ng paglilinis.
· Ang konsentrasyon ng panlinis ay maaaring iakma ayon sa antas ng dumi ng bagay sa paglilinis, at ang stock solution ay maaaring gamitin para sa direktang pagbabad sa loob ng 3-10 minuto, o spray cleaning.
Ang produkto ay hindi mapanganib na mga kalakal at madaling iimbak at dalhin.
Ang panahon ng imbakan ay 2 taon. Hindi ito maiimbak sa bukas na hangin, at dapat na pigilan mula sa araw at ulan.
Ang bariles na may hindi nagamit na ahente ng paglilinis ay dapat na higpitan, na tinitiyak ang tamang pag-iimbak pagkatapos gamitin upang maiwasan ang paghahalo ng karumihan.
walang laman ang nilalaman!