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2832
Le 2832 est un décapant de photorésist semi-aqueux utilisé dans la fabrication de puces, conçu pour décaper et éliminer les résidus de photorésist des substrats sensibles. Il convient à divers substrats et a de nombreuses applications dans l'industrie des semi-conducteurs tout en ne présentant aucune corrosion sur les pièces métalliques.
Efficacité de nettoyage élevée : le 2832 peut décomposer et décaper rapidement et complètement diverses résines photosensibles, ne laissant aucun résidu, point blanc ou filigrane, raccourcissant efficacement le temps de nettoyage et réduisant le taux de défauts.
Large applicabilité et nettoyage sélectif précis : 2832 s'applique à divers types de matériaux mous, puces et semi-conducteurs, circuits imprimés et nettoyage des métaux. Pendant le processus de nettoyage, il peut cibler avec précision la résine photosensible sans provoquer de corrosion ni de dommages latents aux substrats et aux lignes métalliques, protégeant ainsi efficacement l'intégrité et les performances du produit nettoyé et des composants électroniques.
Excellente capacité de rinçage : Excellente capacité de rinçage : il est facile à rincer, ne laissant aucun résidu chimique sur la surface des matériaux nettoyés, et peut éviter toute interférence avec les substrats et les processus ultérieurs tels que le dépôt, la gravure, etc.
Respectueux de l'environnement et assurance de sécurité : le produit partage une bonne solubilité dans l'eau, une non-volatilité, une ininflammabilité et une biodégradabilité, répondant aux exigences environnementales. Parallèlement, il est conforme aux normes ROHS et peut garantir la sécurité d'utilisation.
Paramètre |
Valeur |
Composition |
Mélange d'agents actifs et de solvants |
Apparence |
Fluide transparent jaunâtre |
Valeur PH |
9,5-11,5 |
Gravité spécifique |
0,95-0,98 |
Méthode de nettoyage |
Trempage à chaud, nettoyage par pulvérisation |
Conditionnement |
25KG/baril en plastique |
Période de stockage |
2 ans |
Idéal pour éliminer la résine photosensible positive/négative dans les processus de production de puces LCD, LED, IC, PSS dans l'industrie des semi-conducteurs, ainsi que pour le nettoyage des circuits imprimés.
Fiable pour nettoyer les colloïdes et les résines sur une variété de surfaces métalliques et plastiques.
Comment utiliser : plongez la plaquette ou d'autres matériaux contenant de la résine photosensible dans ce décapant de résine photosensible à faible gravure pendant une durée appropriée entre 25 ℃ et 90 ℃.
· La méthode de nettoyage peut être un traitement par trempage à chaud, un nettoyage par pulvérisation et d'autres méthodes de traitement.
· Le processus de nettoyage peut être effectué entre 25 ℃ et 90 ℃, tandis qu'une élévation de la température peut directement raccourcir le temps de nettoyage.
· La concentration du nettoyant peut être ajustée en fonction du niveau de saleté de l'objet à nettoyer, et la solution mère peut être utilisée pour un trempage direct pendant 3 à 10 minutes ou pour un nettoyage par pulvérisation.
Le produit est une marchandise non dangereuse et est facile à stocker et à transporter.
La durée de conservation est de 2 ans. Il ne peut pas être stocké à l’air libre et doit être protégé du soleil et de la pluie.
Le fût contenant le produit de nettoyage non utilisé doit être serré, assurant un stockage approprié après utilisation pour éviter le mélange d'impuretés.
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