| Ketersediaan: | |
|---|---|
| Kuantiti: | |
2832
2832 ialah penjalur fotoresist separa akueus yang digunakan dalam pembuatan cip, direka untuk menanggalkan dan mengeluarkan sisa fotoresist daripada substrat sensitif. Ia sesuai untuk pelbagai substrat, dan mempunyai aplikasi yang luas dalam industri semikonduktor sambil tidak mempunyai kakisan pada bahagian logam.
Kecekapan Pembersihan Tinggi: 2832 boleh mengurai dan menanggalkan pelbagai fotoresist dengan cepat dan menyeluruh, tidak meninggalkan sisa, bintik putih atau tera air, memendekkan masa pembersihan dengan berkesan dan mengurangkan kadar kecacatan.
Kebolehgunaan Luas & Pembersihan Selektif Tepat: 2832 digunakan untuk pelbagai jenis cip dan semikonduktor bahan lembut, papan litar dan pembersihan logam. Semasa proses pembersihan, ia boleh menyasarkan fotoresist dengan tepat tanpa menyebabkan sebarang kakisan atau kerosakan terpendam pada substrat dan garisan logam, dengan berkesan melindungi integriti dan prestasi produk yang dibersihkan dan komponen elektronik.
Keupayaan Membilas Cemerlang: Keupayaan Membilas Cemerlang: Ia mudah dibilas, tidak meninggalkan sisa kimia pada permukaan bahan yang dibersihkan, dan boleh mengelakkan sebarang gangguan dengan substrat dan proses seterusnya seperti pemendapan, goresan, dan sebagainya.
Jaminan Mesra Alam & Keselamatan: Produk berkongsi keterlarutan air yang baik, tidak meruap, tidak mudah terbakar dan biodegradasi, memenuhi keperluan alam sekitar. Sementara itu, ia mematuhi piawaian ROHS dan boleh memastikan keselamatan digunakan.
Parameter |
Nilai |
Komposisi |
Campuran agen aktif dan pelarut |
Penampilan |
Cecair lutsinar kekuningan |
Nilai PH |
9.5-11.5 |
Graviti Tertentu |
0.95-0.98 |
Kaedah Pembersihan |
Rendam panas, semburan pembersihan |
Pembungkusan |
25KG/tong plastik |
Tempoh penyimpanan |
2 tahun |
Ideal untuk mengeluarkan photoresist positif/negatif dalam proses pengeluaran cip LCD, LED, IC, PSS dalam industri semikonduktor, serta dalam pembersihan papan litar PCB.
Boleh dipercayai untuk membersihkan koloid dan resin pada pelbagai permukaan logam dan plastik.
Cara menggunakan: rendamkan wafer atau bahan lain yang mengandungi photoresist dalam penarik fotoresist etch rendah ini untuk masa yang sesuai pada 25 ℃ hingga 90 ℃.
· Kaedah pembersihan boleh menjadi rawatan rendaman panas, pembersihan semburan, dan kaedah proses lain.
· Proses pembersihan boleh dikendalikan pada 25 ℃ hingga 90 ℃, manakala menaikkan suhu secara langsung boleh memendekkan masa pembersihan.
· Kepekatan pembersih boleh dilaraskan mengikut tahap kotoran objek pembersihan, dan larutan stok boleh digunakan untuk rendaman terus selama 3-10 minit, atau pembersihan semburan.
Produk ini adalah barangan yang tidak berbahaya dan mudah disimpan dan diangkut.
Tempoh penyimpanan adalah 2 tahun. Ia tidak boleh disimpan di udara terbuka, dan harus dihalang dari matahari dan hujan.
Tong dengan agen pembersih yang tidak digunakan hendaklah diketatkan, memastikan penyimpanan yang betul selepas digunakan untuk mengelakkan pencampuran kekotoran.
kandungan kosong!