| Ketersediaan: | |
|---|---|
| Kuantitas: | |
2832
2832 adalah pengupas fotoresist semi-air yang digunakan dalam pembuatan chip, dirancang untuk mengupas dan menghilangkan residu fotoresist dari media sensitif. Sangat cocok untuk berbagai substrat, dan memiliki aplikasi luas dalam industri semikonduktor tanpa menimbulkan korosi pada bagian logam.
Efisiensi Pembersihan Tinggi: 2832 dapat dengan cepat dan menyeluruh menguraikan dan menghilangkan berbagai photoresist, tidak meninggalkan residu, bintik putih, atau tanda air, secara efektif mempersingkat waktu pembersihan dan mengurangi tingkat kerusakan.
Penerapan Luas & Pembersihan Selektif yang Tepat: 2832 berlaku untuk berbagai jenis chip bahan lunak dan semikonduktor, papan sirkuit, dan pembersihan logam. Selama proses pembersihan, produk ini dapat secara tepat menargetkan photoresist tanpa menyebabkan korosi atau kerusakan laten pada substrat dan garis logam, sehingga secara efektif melindungi integritas dan kinerja produk dan komponen elektronik yang dibersihkan.
Kemampuan Membilas yang Sangat Baik: Kemampuan Membilas yang Sangat Baik: Mudah untuk dibilas, tidak meninggalkan residu kimia pada permukaan bahan yang dibersihkan, dan dapat menghindari gangguan apa pun pada substrat dan proses selanjutnya seperti pengendapan, etsa, dan semacamnya.
Jaminan Ramah Lingkungan & Keamanan: Produk ini memiliki kelarutan dalam air yang baik, tidak mudah menguap, tidak mudah terbakar, dan mudah terurai secara hayati, sehingga memenuhi persyaratan lingkungan. Sementara itu, memenuhi standar ROHS dan dapat menjamin keamanan penggunaan.
Parameter |
Nilai |
Komposisi |
Campuran bahan aktif dan pelarut |
Penampilan |
Cairan transparan kekuningan |
Nilai PH |
9.5-11.5 |
Berat jenis |
0,95-0,98 |
Metode Pembersihan |
Perendaman panas, pembersihan semprot |
Kemasan |
25KG/tong plastik |
Periode Penyimpanan |
2 tahun |
Ideal untuk menghilangkan photoresist positif/negatif dalam proses produksi chip LCD, LED, IC, PSS di industri semikonduktor, serta dalam pembersihan papan sirkuit PCB.
Dapat diandalkan untuk membersihkan koloid dan resin pada berbagai permukaan logam dan plastik.
Cara menggunakan: rendam wafer atau bahan lain yang mengandung photoresist ke dalam stripper photoresist etsa rendah ini untuk waktu yang sesuai pada suhu 25 ℃ hingga 90 ℃.
· Cara pembersihannya dapat berupa perlakuan rendam panas, pembersihan semprot, dan metode proses lainnya.
· Proses pembersihan dapat dilakukan pada suhu 25℃ hingga 90℃, sedangkan menaikkan suhu dapat mempersingkat waktu pembersihan secara langsung.
· Konsentrasi pembersih dapat diatur sesuai dengan tingkat kotoran benda pembersih, dan larutan stok dapat digunakan untuk perendaman langsung selama 3-10 menit, atau pembersihan semprot.
Produk ini merupakan barang tidak berbahaya dan mudah disimpan serta diangkut.
Masa penyimpanannya adalah 2 tahun. Tidak dapat disimpan di udara terbuka, dan harus terlindung dari sinar matahari dan hujan.
Tong berisi bahan pembersih yang tidak terpakai harus dikencangkan, memastikan penyimpanan yang tepat setelah digunakan untuk mencegah tercampurnya kotoran.
isinya kosong!