Mild zuurgeharde fotoresiststripper

a) Mogelijkheid tot verwijdering van breedspectrum fotoresist

• Toepasbaar op zowel positieve als negatieve fotoresisten: Toont bijzondere expertise in het omgaan met hardnekkige resten na verassing, uitharding en carbonisatie.

b) Milde zuurformule

• pH-waarde‌: Bereikt tussen 3-5, waardoor corrosie van metaallagen zoals Al, Cu, Ti en samengestelde halfgeleiders zoals GaAs wordt vermeden.

c) Milieuvriendelijk en veilig

• Halogeenvrij en fluorvrij‌: Voldoet aan milieuvoorschriften zoals RoHS en REACH.

• Lage vluchtigheid en lage VOC‌: niet-giftig en niet-ontvlambaar, waardoor de gevaren op de werkplek worden verminderd en de gezondheid van de operator wordt beschermd.

d) Procesefficiëntie

• Toepasbaarheid bij brede temperaturen (25°C–90°C): Stabiel bij lage temperaturen voor MEMS/geavanceerde verpakkingen, bestand tegen hoge temperaturen voor EUV.

• Efficiënte penetratie: Vertoont uitstekende oplosbaarheid voor sterk verknoopte fotoresists (bijv. SU-8) en gecarboniseerde negatieve fotoresists.

• Vereenvoudigd proces‌: Eén enkel product dat geschikt is voor dubbele fotoresist-compatibiliteit, waardoor de schakeltijd van de productielijn wordt verkort, kruisbesmetting wordt vermeden en de levensduur van de apparatuur wordt verlengd.

a) Op silicium gebaseerde chips‌

Compatibel met Si/SiO₂/SiN, waardoor Cu/Al-verbindingslagen worden beschermd.

b) GaAs/GaN-apparaten‌

Milde zuurformule voorkomt corrosie van Au/Ti-elektroden.

c) Vermogenshalfgeleiders‌

Verwijdert op efficiënte wijze SiC-gecarboniseerde fotoresist op hoge temperatuur, waardoor Al-lagen worden beschermd.

d) Geavanceerde verpakking‌

Reinigt tegelijkertijd TSV-resten en PI-passiveringslagen.

e) MEMS-sensoren‌

Verwijdert diepe siliciumetsresten zonder de Au-pads te corroderen.

f) Flexibele elektronica‌

Compatibel met PI/PET-substraten zonder nanozilverdraden te beschadigen.

a) Toepasbare reinigingsmethoden

• Aanbevolen‌: Heet weken

• Andere methoden zijn ultrasoon, spuiten en borstelen.

b) Temperatuur en tijd

• Temperatuurbereik‌: 25°C – 90°C (verwarmen versnelt het reinigen).

• Standaardreiniging‌: 3 – 15 minuten per tank (met zuivere oplossing).

• Hardnekkig residu‌: Kan tot 30 minuten worden verlengd.

c) Belangrijke bedieningsinstructies

• Gebruik een zuivere oplossing‌: geen verdunning vereist.

• Handhaaf de ingestelde temperatuur‌: Na onderdompeling van de wafels in de stripoplossing.

• Tijd aanpassen op basis van fotoresistdikte/carbonisatiegraad‌.