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WG-16
L'agente detergente per wafer di silicio ad alta efficienza WG-16 , una soluzione monocomponente progettata miscelando composti a base di potassio, agenti complessanti avanzati e tensioattivi specializzati, eccelle nella pulizia di precisione per substrati di silicio e superfici contaminate da residui di ioni metallici. La sua formula unica penetra nei micropori per dissolvere gli oli ostinati e chela gli ioni metallici (ad esempio, rame- , ferro ) a livello molecolare, eliminando i contaminanti che potrebbero compromettere le prestazioni dei semiconduttori. Oltre all'efficacia pulente, soddisfa rigorosi standard di eco-regolamentazione, con un basso contenuto di COV e componenti biodegradabili in linea con i protocolli di produzione ecologici. Ideale per le fabbriche di semiconduttori e la produzione di componenti elettronici ad alta precisione, salvaguarda l'integrità del processo garantendo la purezza del substrato, aumentando direttamente l'affidabilità del prodotto a valle.
Eccezionali prestazioni di pulizia : WG-16 mostra un'eccezionale capacità di pulizia per i materiali siliconici. Ha un tasso di pulizia del 99% per le macchie d'olio e oltre il 99% di effetti di rimozione, complessazione e pulizia sugli ioni metallici come rame e ferro.
Rispettoso dell'ambiente : questo prodotto non contiene fosforo ed è privo di ioni metallici come calcio, magnesio, ferro, rame e piombo. È conforme ai requisiti EU ROHS, il che lo rende una scelta ecologica.
Alta concentrazione e bassa schiuma : essendo un prodotto monocomponente ad alta concentrazione, offre un forte potere pulente con un piccolo dosaggio. Inoltre, è un prodotto a bassa schiuma, il che lo rende particolarmente adatto all'uso in apparecchiature di pulizia ad ultrasuoni.
Efficienza di conversione fotovoltaica migliorata : il contenuto di ioni metallici diversi dagli ioni potassio e sodio nel WG-16 non è superiore a 50 ppm. Se utilizzato per pulire i wafer di silicio, può migliorare significativamente l'efficienza di conversione fotoelettrica dei wafer.
Parametro |
Dettaglio |
Aspetto |
Liquido incolore |
Peso specifico |
1,00 ± 0,05 |
Valore del pH |
8 - 10 |
Alcalinità libera |
30 - 50 |
Produzione di semiconduttori : WG-16 può rimuovere efficacemente ioni metallici e macchie di olio sui wafer di silicio, garantendo la qualità dei dispositivi a semiconduttore. Viene utilizzato in processi quali la pulizia dei wafer prima dell'attacco e dopo la lucidatura chimico-meccanica per migliorare la resa e le prestazioni dei prodotti semiconduttori.
Industria fotovoltaica : WG-16 può pulire a fondo i wafer di silicio, riducendo l'impatto delle impurità sulle prestazioni delle celle solari, migliorando così l'efficienza complessiva della generazione di energia dei moduli fotovoltaici.
Guida operativa
· Schema di miscelazione del detergente: Nel primo serbatoio, regolare in base ai requisiti specifici del processo. Utilizzare acqua corrente pura per la pulizia nel secondo serbatoio. Nel terzo e nel quarto serbatoio, aggiungere 4 - 6 kg di detergente per wafer di silicio WG - 16 e impostare la linea di aggiunta continua automatica su 1 - 2 kg. Utilizzare acqua corrente pura per la pulizia in tutti i serbatoi successivi (solitamente 3 - 4 serbatoi di acqua di lavaggio).
· Controllo della temperatura: impostare la temperatura del terzo e del quarto serbatoio su 45 - 65°C.
· Tempo di pulizia: assicurarsi che il tempo di pulizia in ciascun serbatoio non sia inferiore a 2 minuti ed è consigliabile essere 3 - 4 minuti.
· Ciclo di sostituzione del detergente: per le linee manuali, sostituire il detergente una volta per turno; per linee automatiche sostituirlo ogni 1 - 3 turni.
Precauzioni
· Durante la manipolazione del prodotto, indossare dispositivi di protezione adeguati come guanti e occhiali per evitare il contatto con la pelle e gli occhi.
· Conservare il prodotto in un luogo fresco e asciutto, lontano dalla luce diretta del sole e da fonti di calore per garantirne stabilità ed efficacia.
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