Nahajate se tukaj: domov / Izdelki / Kemikalije za polprevodnike / Čistila za precizne dele in polprevodnike / Visoko učinkovito čistilno sredstvo za silikonske rezine

nalaganje

Visoko učinkovito čistilno sredstvo za silikonske rezine

Je prozorno enokomponentno čistilo, primerno za čiščenje silikonskih materialov in površin, onesnaženih z različnimi kovinskimi ioni.
 
Prednosti:
  • Izjemna učinkovitost čiščenja
  • Okolju prijazen
  • Visoka koncentracija in malo penjenja
  • Izboljšana učinkovitost fotovoltaične pretvorbe
 
Pakirna enota: 25 KG/sod, 200KG/sod
Dobavljivost:
Količina:
facebook gumb za skupno rabo
gumb za skupno rabo na Twitterju
gumb za skupno rabo linije
gumb za skupno rabo v wechatu
Linkedin gumb za skupno rabo
gumb za skupno rabo na pinterestu
gumb za skupno rabo WhatsApp
gumb za skupno rabo kakao
gumb za skupno rabo snapchat
gumb za skupno rabo telegrama
deli ta gumb za skupno rabo
  • WG-16

WG-16 High-Efficiency Silicon Wafer Cleaning Agent , enodelna raztopina, izdelana z mešanjem spojin na osnovi kalija, naprednih kompleksirnih sredstev in specializiranih površinsko aktivnih snovi, se odlikuje po natančnem čiščenju silicijevih podlag in površin, umazanih z ostanki kovinskih ionov. Njegova edinstvena formula prodira v mikropore in raztopi trdovratna olja, medtem ko kelira kovinske ione (npr. bakrovo , železo ) na molekularni ravni – s čimer odstrani onesnaževalce, ki bi lahko ogrozili delovanje polprevodnikov. Poleg učinkovitosti čiščenja izpolnjuje stroge eko-regulativne standarde z nizko vsebnostjo VOC in biorazgradljivimi komponentami, ki so v skladu s protokoli zelene proizvodnje. Idealen za polprevodniške tovarne in proizvodnjo visoko natančne elektronike, varuje celovitost procesa z zagotavljanjem čistosti podlage in neposredno povečuje zanesljivost nadaljnjih izdelkov.

  • Izjemna zmogljivost čiščenja : WG-16 kaže izjemno sposobnost čiščenja silicijevih materialov. Ima 99-odstotno stopnjo čiščenja oljnih madežev in več kot 99-odstotni učinek odstranjevanja, kompleksiranja in čiščenja kovinskih ionov, kot sta baker in železo.

  • Okolju prijazen : ta izdelek ne vsebuje fosforja in kovinskih ionov, kot so kalcij, magnezij, železo, baker in svinec. Skladen je z zahtevami EU ROHS, zaradi česar je okolju prijazna izbira.

  • Visoka koncentracija in nizka pena : kot enokomponentni izdelek z visoko koncentracijo nudi močno čistilno moč z majhnim odmerkom. Poleg tega je izdelek z malo pene, zaradi česar je zelo primeren za uporabo v ultrazvočni čistilni opremi.

  • Izboljšana učinkovitost fotovoltaične pretvorbe : vsebnost kovinskih ionov, razen kalijevih in natrijevih ionov, v WG-16 ni višja od 50 ppm. Če se uporablja za čiščenje silicijevih rezin, lahko znatno izboljša učinkovitost fotoelektrične pretvorbe rezin.


Parameter

Podrobnost

Videz

Brezbarvna tekočina

Specifična teža

1,00 ± 0,05

pH vrednost

8 - 10

Brezplačna alkalnost

30 - 50


  • Proizvodnja polprevodnikov : WG-16 lahko učinkovito odstrani kovinske ione in oljne madeže na silicijevih rezinah, kar zagotavlja kakovost polprevodniških naprav. Uporablja se v postopkih, kot je čiščenje rezin pred jedkanjem in po kemično mehanskem poliranju za izboljšanje izkoristka in učinkovitosti polprevodniških izdelkov.

  • Fotonapetostna industrija : WG-16 lahko temeljito očisti silicijeve rezine, zmanjša vpliv nečistoč na delovanje sončnih celic in s tem poveča splošno učinkovitost proizvodnje električne energije fotonapetostnih modulov.


  • Navodila za uporabo

    · Shema mešanja čistilnega sredstva: V prvi posodi prilagodite glede na specifične zahteve postopka. Za čiščenje v drugem rezervoarju uporabite tekočo čisto vodo. V tretji in četrti rezervoar dodajte 4 - 6 kg sredstva za čiščenje silicijevih rezin WG - 16 in nastavite avtomatsko neprekinjeno linijo za dodajanje na 1 - 2 kg. Za čiščenje v vseh nadaljnjih rezervoarjih uporabite tekočo čisto vodo (običajno 3 - 4 vodne - pralne posode).

    · Nadzor temperature: Nastavite temperaturo tretje in četrte posode na 45 - 65°C.

    · Čas čiščenja: Zagotovite, da čas čiščenja v vsakem rezervoarju ni krajši od 2 minut, priporočljivo pa je, da je 3 - 4 minute.

    · Cikel zamenjave čistilnega sredstva: Za ročne linije zamenjajte čistilno sredstvo enkrat na izmeno; pri avtomatskih linijah ga zamenjajte vsake 1 - 3 izmene.

  • Previdnostni ukrepi

    · Pri rokovanju z izdelkom nosite ustrezno zaščitno opremo, kot so rokavice in očala, da preprečite stik s kožo in očmi.

    · Izdelek hranite na hladnem in suhem mestu, stran od neposredne sončne svetlobe in virov toplote, da zagotovite njegovo stabilnost in učinkovitost.


Prejšnja: 
Naprej: 

Povezane novice

vsebina je prazna!

WhatsApp:
+86- 18123969340 
+86- 13691824013
E-pošta:
contact@yuananchemtech.com
supports@yuananchemtech.com
Odpiralni čas:
pon - pet. 9.00 - 18.00
O nas
Osredotoča se na proizvodnjo sredstev za polprevodnike in proizvodnjo ter raziskave in razvoj elektronskih kemikalij.​​​​​​
Naročite se
Prijavite se na naše glasilo, če želite prejemati najnovejše novice.
Avtorske pravice © 2024 Shenzhen Yuanan Technology Co., Ltd. Vse pravice pridržane. Zemljevid spletnega mesta Politika zasebnosti