| Dobavljivost: | |
|---|---|
| Količina: | |
WG-16
WG-16 High-Efficiency Silicon Wafer Cleaning Agent , enodelna raztopina, izdelana z mešanjem spojin na osnovi kalija, naprednih kompleksirnih sredstev in specializiranih površinsko aktivnih snovi, se odlikuje po natančnem čiščenju silicijevih podlag in površin, umazanih z ostanki kovinskih ionov. Njegova edinstvena formula prodira v mikropore in raztopi trdovratna olja, medtem ko kelira kovinske ione (npr. bakrovo , železo ) na molekularni ravni – s čimer odstrani onesnaževalce, ki bi lahko ogrozili delovanje polprevodnikov. Poleg učinkovitosti čiščenja izpolnjuje stroge eko-regulativne standarde z nizko vsebnostjo VOC in biorazgradljivimi komponentami, ki so v skladu s protokoli zelene proizvodnje. Idealen za polprevodniške tovarne in proizvodnjo visoko natančne elektronike, varuje celovitost procesa z zagotavljanjem čistosti podlage in neposredno povečuje zanesljivost nadaljnjih izdelkov.
Izjemna zmogljivost čiščenja : WG-16 kaže izjemno sposobnost čiščenja silicijevih materialov. Ima 99-odstotno stopnjo čiščenja oljnih madežev in več kot 99-odstotni učinek odstranjevanja, kompleksiranja in čiščenja kovinskih ionov, kot sta baker in železo.
Okolju prijazen : ta izdelek ne vsebuje fosforja in kovinskih ionov, kot so kalcij, magnezij, železo, baker in svinec. Skladen je z zahtevami EU ROHS, zaradi česar je okolju prijazna izbira.
Visoka koncentracija in nizka pena : kot enokomponentni izdelek z visoko koncentracijo nudi močno čistilno moč z majhnim odmerkom. Poleg tega je izdelek z malo pene, zaradi česar je zelo primeren za uporabo v ultrazvočni čistilni opremi.
Izboljšana učinkovitost fotovoltaične pretvorbe : vsebnost kovinskih ionov, razen kalijevih in natrijevih ionov, v WG-16 ni višja od 50 ppm. Če se uporablja za čiščenje silicijevih rezin, lahko znatno izboljša učinkovitost fotoelektrične pretvorbe rezin.
Parameter |
Podrobnost |
Videz |
Brezbarvna tekočina |
Specifična teža |
1,00 ± 0,05 |
pH vrednost |
8 - 10 |
Brezplačna alkalnost |
30 - 50 |
Proizvodnja polprevodnikov : WG-16 lahko učinkovito odstrani kovinske ione in oljne madeže na silicijevih rezinah, kar zagotavlja kakovost polprevodniških naprav. Uporablja se v postopkih, kot je čiščenje rezin pred jedkanjem in po kemično mehanskem poliranju za izboljšanje izkoristka in učinkovitosti polprevodniških izdelkov.
Fotonapetostna industrija : WG-16 lahko temeljito očisti silicijeve rezine, zmanjša vpliv nečistoč na delovanje sončnih celic in s tem poveča splošno učinkovitost proizvodnje električne energije fotonapetostnih modulov.
Navodila za uporabo
· Shema mešanja čistilnega sredstva: V prvi posodi prilagodite glede na specifične zahteve postopka. Za čiščenje v drugem rezervoarju uporabite tekočo čisto vodo. V tretji in četrti rezervoar dodajte 4 - 6 kg sredstva za čiščenje silicijevih rezin WG - 16 in nastavite avtomatsko neprekinjeno linijo za dodajanje na 1 - 2 kg. Za čiščenje v vseh nadaljnjih rezervoarjih uporabite tekočo čisto vodo (običajno 3 - 4 vodne - pralne posode).
· Nadzor temperature: Nastavite temperaturo tretje in četrte posode na 45 - 65°C.
· Čas čiščenja: Zagotovite, da čas čiščenja v vsakem rezervoarju ni krajši od 2 minut, priporočljivo pa je, da je 3 - 4 minute.
· Cikel zamenjave čistilnega sredstva: Za ročne linije zamenjajte čistilno sredstvo enkrat na izmeno; pri avtomatskih linijah ga zamenjajte vsake 1 - 3 izmene.
Previdnostni ukrepi
· Pri rokovanju z izdelkom nosite ustrezno zaščitno opremo, kot so rokavice in očala, da preprečite stik s kožo in očmi.
· Izdelek hranite na hladnem in suhem mestu, stran od neposredne sončne svetlobe in virov toplote, da zagotovite njegovo stabilnost in učinkovitost.
vsebina je prazna!