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WG-16
WG-16 High-Efficiency Silicon Wafer Cleaning Agent , eine Einkomponentenlösung, die aus einer Mischung von Verbindungen auf Kaliumbasis, fortschrittlichen Komplexbildnern und speziellen Tensiden entwickelt wurde, eignet sich hervorragend für die Präzisionsreinigung von Siliziumsubstraten und Oberflächen, die durch Metallionenrückstände verunreinigt sind. Seine einzigartige Formel dringt in Mikroporen ein, um hartnäckige Öle aufzulösen, während gleichzeitig Metallionen (z. B. Kupfereisen) auf molekularer Ebene chelatisiert werden wodurch , , Verunreinigungen beseitigt werden, die die Halbleiterleistung beeinträchtigen könnten. Über die Reinigungswirkung hinaus erfüllt es strenge Umweltstandards mit niedrigem VOC-Gehalt und biologisch abbaubaren Komponenten, die den Protokollen für eine umweltfreundliche Herstellung entsprechen. Es eignet sich ideal für Halbleiterfabriken und die hochpräzise Elektronikproduktion und gewährleistet die Prozessintegrität, indem es die Reinheit des Substrats gewährleistet und so die Zuverlässigkeit des nachgelagerten Produkts direkt erhöht.
Außergewöhnliche Reinigungsleistung : WG-16 zeigt eine hervorragende Reinigungsleistung für Silikonmaterialien. Es hat eine Reinigungsrate von 99 % bei Ölflecken und eine Ablöse-, Komplexierungs- und Reinigungswirkung von über 99 % bei Metallionen wie Kupfer und Eisen.
Umweltfreundlich : Dieses Produkt enthält keinen Phosphor und ist frei von Metallionen wie Kalzium, Magnesium, Eisen, Kupfer und Blei. Es entspricht den ROHS-Anforderungen der EU und ist somit eine umweltfreundliche Wahl.
Hochkonzentriert und schaumarm : Als hochkonzentriertes Einkomponentenprodukt bietet es eine starke Reinigungskraft bei geringer Dosierung. Darüber hinaus ist es ein schaumarmes Produkt und eignet sich daher hervorragend für den Einsatz in Ultraschallreinigungsgeräten.
Verbesserte Photovoltaik-Umwandlungseffizienz : Der Gehalt an anderen Metallionen als Kalium- und Natriumionen in WG-16 beträgt nicht mehr als 50 ppm. Bei der Reinigung von Siliziumwafern kann die photoelektrische Umwandlungseffizienz der Wafer erheblich verbessert werden.
Parameter |
Detail |
Aussehen |
Farblose Flüssigkeit |
Spezifisches Gewicht |
1,00 ± 0,05 |
pH-Wert |
8 - 10 |
Freie Alkalität |
30 - 50 |
Halbleiterherstellung : WG-16 kann Metallionen und Ölflecken auf Siliziumwafern effektiv entfernen und so die Qualität von Halbleiterbauelementen sicherstellen. Es wird in Prozessen wie der Waferreinigung vor dem Ätzen und nach dem chemisch-mechanischen Polieren verwendet, um die Ausbeute und Leistung von Halbleiterprodukten zu verbessern.
Photovoltaik-Industrie : WG-16 kann Siliziumwafer gründlich reinigen, wodurch die Auswirkungen von Verunreinigungen auf die Leistung von Solarzellen reduziert werden und dadurch die Gesamteffizienz der Stromerzeugung von Photovoltaikmodulen verbessert wird.
Bedienungsanleitung
· Mischschema des Reinigungsmittels: Im ersten Tank entsprechend den spezifischen Prozessanforderungen anpassen. Verwenden Sie zur Reinigung im zweiten Tank fließendes reines Wasser. Geben Sie in den dritten und vierten Tank 4–6 kg WG-16-Siliziumwafer-Reinigungsmittel hinzu und stellen Sie die automatische kontinuierliche Zugabelinie auf 1–2 kg ein. Verwenden Sie für die Reinigung in allen nachfolgenden Becken (in der Regel 3 – 4 Wasser-Waschbecken) fließendes Reinwasser.
· Temperaturregelung: Stellen Sie die Temperatur des dritten und vierten Tanks auf 45–65 °C ein.
· Reinigungszeit: Stellen Sie sicher, dass die Reinigungszeit in jedem Tank nicht weniger als 2 Minuten beträgt. Empfohlen werden 3 bis 4 Minuten.
· Austauschzyklus des Reinigungsmittels: Bei manuellen Leitungen muss das Reinigungsmittel einmal pro Schicht ausgetauscht werden. Bei automatischen Leitungen alle 1–3 Schichten austauschen.
Vorsichtsmaßnahmen
· Tragen Sie beim Umgang mit dem Produkt geeignete Schutzausrüstung wie Handschuhe und Schutzbrille, um Haut- und Augenkontakt zu vermeiden.
· Lagern Sie das Produkt an einem kühlen, trockenen Ort, fern von direkter Sonneneinstrahlung und Wärmequellen, um seine Stabilität und Wirksamkeit zu gewährleisten.
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