завантаження

Високоефективний засіб для чищення силіконових пластин

Це прозорий однокомпонентний миючий засіб, придатний для очищення кремнієвих матеріалів і поверхонь, забруднених різними іонами металів.
 
Переваги:
  • Виняткова ефективність очищення
  • Екологічно чистий
  • Висока концентрація та низька кількість піни
  • Покращена ефективність фотоелектричного перетворення
 
Одиниці упаковки: 25 кг/бочка, 200 кг/бочка
Наявність:
кількість:
кнопка спільного доступу до Facebook
кнопка спільного доступу до Twitter
кнопка спільного доступу до лінії
кнопка спільного доступу до wechat
кнопка спільного доступу в Linkedin
кнопка спільного доступу на pinterest
кнопка спільного доступу до WhatsApp
кнопка обміну kakao
кнопка обміну snapchat
кнопка обміну телеграмою
поділитися цією кнопкою спільного доступу
  • РГ-16

WG-16 High-Efficiency Silicon Wafer Cleaning Agent , однокомпонентний розчин, розроблений шляхом змішування сполук на основі калію, передових комплексоутворювачів і спеціальних поверхнево-активних речовин, чудово підходить для точного очищення кремнієвих підкладок і поверхонь, забруднених залишками іонів металів. Його унікальна формула проникає в мікропори, розчиняючи стійкі олії, водночас хелатуючи іони металів (наприклад, міді, , заліза ) на молекулярному рівні, усуваючи забруднення, які можуть поставити під загрозу продуктивність напівпровідника. Окрім ефективності очищення, він відповідає суворим стандартам екологічного регулювання з низьким вмістом летких органічних сполук і компонентами, що біологічно розкладаються, що відповідає протоколам екологічного виробництва. Ідеально підходить для напівпровідникових фабрик і виробництва високоточної електроніки, він захищає цілісність процесу, забезпечуючи чистоту підкладки, безпосередньо підвищуючи надійність наступних продуктів.

  • Виняткова ефективність очищення : WG-16 демонструє видатну здатність очищати кремнієві матеріали. Він забезпечує 99% очищення масляних плям і понад 99% видалення, утворення комплексів і очищення іонів металів, таких як мідь і залізо.

  • Екологічність : цей продукт не містить фосфору та не містить іонів металів, таких як кальцій, магній, залізо, мідь і свинець. Він відповідає вимогам ЄС ROHS, що робить його екологічним вибором.

  • Висока концентрація та низька піноутворюваність : як однокомпонентний продукт високої концентрації, він забезпечує сильну очищувальну дію за невеликої дози. Крім того, це продукт з низьким вмістом піни, що робить його дуже придатним для використання в обладнанні для ультразвукового очищення.

  • Покращена ефективність фотоелектричного перетворення : Вміст іонів металів, крім іонів калію та натрію, у WG-16 не перевищує 50 ppm. При використанні для очищення кремнієвих пластин він може значно підвищити ефективність фотоелектричного перетворення пластин.


Параметр

Деталь

Зовнішній вигляд

Безбарвна рідина

Питома вага

1,00 ± 0,05

Значення pH

8 - 10

Вільна лужність

30 - 50


  • Виробництво напівпровідників : WG-16 може ефективно видаляти іони металів і масляні плями на кремнієвих пластинах, забезпечуючи якість напівпровідникових пристроїв. Він використовується в таких процесах, як очищення пластин перед травленням і після хімічного механічного полірування для підвищення продуктивності та продуктивності напівпровідникових виробів.

  • Фотоелектрична промисловість : WG-16 може ретельно очищати кремнієві пластини, зменшуючи вплив домішок на продуктивність сонячних елементів, тим самим підвищуючи загальну ефективність виробництва електроенергії фотоелектричними модулями.


  • Інструкція з експлуатації

    · Схема змішування миючого засобу: у першому резервуарі відрегулюйте відповідно до конкретних вимог процесу. Для очищення другого бака використовуйте проточну чисту воду. У третій і четвертий резервуари додайте 4-6 кг засобу для чищення кремнієвих пластин WG-16 і встановіть автоматичну безперервну лінію додавання на 1-2 кг. Використовуйте проточну чисту воду для очищення всіх наступних резервуарів (зазвичай 3 - 4 водопромивні резервуари).

    · Контроль температури: встановіть температуру третього та четвертого резервуарів на 45 - 65°C.

    · Час очищення: Переконайтеся, що час очищення в кожному резервуарі становить не менше 2 хвилин, а бажано 3 - 4 хвилини.

    · Цикл заміни очисного засобу: для ручних ліній замінюйте очисний засіб один раз за зміну; для автоматичних ліній замінюйте кожні 1-3 зміни.

  • Запобіжні заходи

    · Під час роботи з продуктом використовуйте відповідне захисне спорядження, таке як рукавички та окуляри, щоб уникнути контакту зі шкірою та очима.

    · Зберігайте продукт у прохолодному, сухому місці, подалі від прямих сонячних променів та джерел тепла, щоб забезпечити його стабільність та ефективність.


Попередній: 
далі: 

Схожі новини

вміст порожній!

WhatsApp:
+86- 18123969340 
+86- 13691824013
Електронна пошта:
contact@yuananchemtech.com
supports@yuananchemtech.com
Графік роботи:
Пн. - Пт. 9:00 - 18:00
Про нас
Вона зосереджена на виробництві агентів для напівпровідників, а також на виробництві та дослідженні та розробці електронних хімікатів.​​​​​​
Підпишіться
Підпишіться на нашу розсилку, щоб отримувати останні новини.
© 2024 Shenzhen Yuanan Technology Co., Ltd. Усі права захищено. Карта сайту Політика конфіденційності