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GT-16
Agente de limpeza de wafer de silício de alta eficiência WG-16 , uma solução monocomponente projetada pela mistura de compostos à base de potássio, agentes complexantes avançados e surfactantes especializados, é excelente na limpeza de precisão para substratos de silício e superfícies contaminadas por resíduos de íons metálicos. Sua fórmula exclusiva penetra em microporos para dissolver óleos teimosos enquanto quela íons metálicos (por exemplo, cobre , e ferro ) em nível molecular – eliminando contaminantes que poderiam comprometer o desempenho do semicondutor. Além da eficácia de limpeza, atende a rigorosos padrões eco-regulatórios, com baixo teor de COV e componentes biodegradáveis que se alinham aos protocolos de fabricação ecológicos. Ideal para fábricas de semicondutores e produção de eletrônicos de alta precisão, ele protege a integridade do processo garantindo a pureza do substrato, aumentando diretamente a confiabilidade do produto downstream.
Desempenho de limpeza excepcional : WG-16 apresenta excelente capacidade de limpeza para materiais de silicone. Tem uma taxa de limpeza de 99% para manchas de óleo e mais de 99% de efeito de remoção, complexação e limpeza em íons metálicos como cobre e ferro.
Ecologicamente correto : Este produto não contém fósforo e não contém íons metálicos como cálcio, magnésio, ferro, cobre e chumbo. Está em conformidade com os requisitos ROHS da UE, tornando-o uma escolha ecológica.
Alta concentração e baixa espuma : Por ser um produto monocomponente de alta concentração, oferece forte poder de limpeza em pequena dosagem. Além disso, é um produto com pouca espuma, o que o torna altamente adequado para uso em equipamentos de limpeza ultrassônica.
Eficiência de conversão fotovoltaica aprimorada : O conteúdo de íons metálicos, exceto íons de potássio e sódio, no WG-16 não é superior a 50 ppm. Quando usado para limpar wafers de silício, pode melhorar significativamente a eficiência de conversão fotoelétrica dos wafers.
Parâmetro |
Detalhe |
Aparência |
Líquido incolor |
Gravidade Específica |
1,00±0,05 |
Valor de pH |
8 - 10 |
Alcalinidade Livre |
30 - 50 |
Fabricação de semicondutores : WG-16 pode remover com eficácia íons metálicos e manchas de óleo em wafers de silício, garantindo a qualidade dos dispositivos semicondutores. É usado em processos como limpeza de wafer antes da gravação e após polimento químico-mecânico para melhorar o rendimento e desempenho de produtos semicondutores.
Indústria Fotovoltaica : O WG-16 pode limpar completamente os wafers de silício, reduzindo o impacto das impurezas no desempenho das células solares, aumentando assim a eficiência geral de geração de energia dos módulos fotovoltaicos.
Guia de operação
· Esquema de mistura do agente de limpeza: No primeiro tanque, ajuste de acordo com as necessidades específicas do processo. Use água pura corrente para limpeza no segundo tanque. No terceiro e quarto tanques, adicione 4 - 6 kg de agente de limpeza de wafer de silício WG - 16 e ajuste a linha de adição contínua automática para 1 - 2 kg. Use água pura corrente para limpeza em todos os tanques subsequentes (geralmente 3 - 4 tanques de lavagem de água).
· Controle de temperatura: Ajuste a temperatura do terceiro e quarto tanques para 45 - 65°C.
· Tempo de limpeza: Certifique-se de que o tempo de limpeza em cada tanque não seja inferior a 2 minutos, sendo aconselhável que seja de 3 a 4 minutos.
· Ciclo de Substituição do Agente de Limpeza: Para linhas manuais, substituir o agente de limpeza uma vez por turno; para linhas automáticas, substitua-o a cada 1 - 3 turnos.
Precauções
· Ao manusear o produto, utilize equipamentos de proteção adequados, como luvas e óculos de proteção, para evitar contato com a pele e os olhos.
· Armazenar o produto em local fresco e seco, longe da luz solar direta e de fontes de calor para garantir sua estabilidade e eficácia.
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