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डब्लूजी-16
WG-16 उच्च दक्षता वाला सिलिकॉन वेफर क्लीनिंग एजेंट , पोटेशियम-आधारित यौगिकों, उन्नत कॉम्प्लेक्सिंग एजेंटों और विशेष सर्फेक्टेंट के सम्मिश्रण द्वारा इंजीनियर किया गया एक-भाग समाधान, सिलिकॉन सब्सट्रेट और धातु आयन अवशेषों द्वारा दूषित सतहों की सटीक सफाई में उत्कृष्टता प्राप्त करता है। इसका अनूठा फार्मूला जिद्दी तेलों को घोलने के लिए सूक्ष्म छिद्रों में प्रवेश करता है और तांबा , लोहा ) को पिघलाता है - उन दूषित पदार्थों को खत्म करता है जो अर्धचालक प्रदर्शन से समझौता कर सकते हैं। आणविक स्तर पर धातु आयनों (उदाहरण के लिए, सफाई प्रभावकारिता से परे, यह कम वीओसी सामग्री और बायोडिग्रेडेबल घटकों के साथ कठोर पर्यावरण-नियामक मानकों को पूरा करता है जो हरित विनिर्माण प्रोटोकॉल के साथ संरेखित होते हैं। सेमीकंडक्टर फैब और उच्च परिशुद्धता इलेक्ट्रॉनिक्स उत्पादन के लिए आदर्श, यह सब्सट्रेट शुद्धता सुनिश्चित करके प्रक्रिया अखंडता की रक्षा करता है, सीधे डाउनस्ट्रीम उत्पाद विश्वसनीयता को बढ़ाता है।
असाधारण सफाई प्रदर्शन : WG-16 सिलिकॉन सामग्री के लिए उत्कृष्ट सफाई क्षमता दिखाता है। इसमें तेल के दागों को साफ करने की दर 99% है और तांबे और लोहे जैसे धातु आयनों पर 99% से अधिक स्ट्रिपिंग, कॉम्प्लेक्सिंग और सफाई प्रभाव है।
पर्यावरण के अनुकूल : इस उत्पाद में फास्फोरस नहीं है और यह कैल्शियम, मैग्नीशियम, लोहा, तांबा और सीसा जैसे धातु आयनों से मुक्त है। यह EU ROHS आवश्यकताओं का अनुपालन करता है, जो इसे पर्यावरण-अनुकूल विकल्प बनाता है।
उच्च-सांद्रता और कम-फोम : उच्च-सांद्रता वाले एकल-घटक उत्पाद के रूप में, यह छोटी खुराक के साथ मजबूत सफाई शक्ति प्रदान करता है। इसके अलावा, यह एक कम फोम वाला उत्पाद है, जो इसे अल्ट्रासोनिक सफाई उपकरणों में उपयोग के लिए अत्यधिक उपयुक्त बनाता है।
बेहतर फोटोवोल्टिक रूपांतरण दक्षता : WG-16 में पोटेशियम और सोडियम आयनों के अलावा अन्य धातु आयनों की सामग्री 50 पीपीएम से अधिक नहीं है। जब सिलिकॉन वेफर्स को साफ करने के लिए उपयोग किया जाता है, तो यह वेफर्स की फोटोइलेक्ट्रिक रूपांतरण दक्षता में काफी सुधार कर सकता है।
पैरामीटर |
विवरण |
उपस्थिति |
रंगहीन तरल |
विशिष्ट गुरुत्व |
1.00 ± 0.05 |
पीएच मान |
8-10 |
मुक्त क्षारीयता |
30 - 50 |
सेमीकंडक्टर विनिर्माण : WG-16 सिलिकॉन वेफर्स पर धातु आयनों और तेल के दागों को प्रभावी ढंग से हटा सकता है, जिससे सेमीकंडक्टर उपकरणों की गुणवत्ता सुनिश्चित होती है। इसका उपयोग सेमीकंडक्टर उत्पादों की उपज और प्रदर्शन में सुधार के लिए नक़्क़ाशी से पहले और रासायनिक यांत्रिक पॉलिशिंग के बाद वेफर सफाई जैसी प्रक्रियाओं में किया जाता है।
फोटोवोल्टिक उद्योग : WG-16 सिलिकॉन वेफर्स को अच्छी तरह से साफ कर सकता है, जिससे सौर कोशिकाओं के प्रदर्शन पर अशुद्धियों का प्रभाव कम हो जाता है, जिससे फोटोवोल्टिक मॉड्यूल की समग्र बिजली उत्पादन दक्षता बढ़ जाती है।
ऑपरेशन मार्गदर्शिका
· सफाई एजेंट की मिश्रण योजना: पहले टैंक में, विशिष्ट प्रक्रिया आवश्यकताओं के अनुसार समायोजित करें। दूसरे टैंक में सफाई के लिए बहते हुए शुद्ध पानी का उपयोग करें। तीसरे और चौथे टैंक में, 4 - 6 किलोग्राम WG - 16 सिलिकॉन वेफर सफाई एजेंट जोड़ें, और स्वचालित निरंतर जोड़ लाइन को 1 - 2 किलोग्राम पर सेट करें। बाद के सभी टैंकों (आमतौर पर 3 - 4 पानी-धोने वाले टैंक) में सफाई के लिए बहते शुद्ध पानी का उपयोग करें।
· तापमान नियंत्रण: तीसरे और चौथे टैंक का तापमान 45 - 65°C पर सेट करें।
· सफाई का समय: सुनिश्चित करें कि प्रत्येक टैंक में सफाई का समय 2 मिनट से कम न हो, और इसे 3 - 4 मिनट करने की सलाह दी जाती है।
· सफाई एजेंट प्रतिस्थापन चक्र: मैन्युअल लाइनों के लिए, सफाई एजेंट को प्रति शिफ्ट में एक बार बदलें; स्वचालित लाइनों के लिए, इसे हर 1 - 3 शिफ्ट में बदलें।
सावधानियां
· उत्पाद को संभालते समय, त्वचा और आंखों के संपर्क से बचने के लिए दस्ताने और चश्मा जैसे उचित सुरक्षात्मक उपकरण पहनें।
· उत्पाद की स्थिरता और प्रभावशीलता सुनिश्चित करने के लिए उसे सीधे धूप और गर्मी स्रोतों से दूर ठंडी, सूखी जगह पर रखें।
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