ເຈົ້າຢູ່ທີ່ນີ້: ບ້ານ / ຜະລິດຕະພັນ / ສານເຄມີສໍາລັບ Semiconductors / ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດສໍາລັບຊິ້ນສ່ວນ Precision ແລະ Semiconductor / ຕົວແທນເຮັດຄວາມສະອາດ Silicon Wafer ທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງ

ຕົວແທນທໍາຄວາມສະອາດ Silicon Wafer ປະສິດທິພາບສູງ

ຕົວແທນທໍາຄວາມສະອາດ Silicon Wafer ປະສິດທິພາບສູງ

ມັນເປັນສານທໍາຄວາມສະອາດອົງປະກອບດຽວທີ່ມີຄວາມໂປ່ງໃສ, ເຫມາະສໍາລັບການທໍາຄວາມສະອາດວັດສະດຸຊິລິຄອນແລະຫນ້າດິນທີ່ປົນເປື້ອນໂດຍ ions ໂລຫະຕ່າງໆ.

ຂໍ້ດີ:

ປະສິດທິພາບທໍາຄວາມສະອາດພິເສດ
ເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມ
ຄວາມເຂັ້ມຂຸ້ນສູງ ແລະໂຟມຕໍ່າ
ປັບປຸງປະສິດທິພາບການແປງ photovoltaic

ໜ່ວຍບັນຈຸ: 25 KG/ຖັງ, 200KG/ຖັງ

ປະລິມານ:
ຫວ່າງ:





ສອບຖາມ ເພີ່ມໃສ່ກະຕ່າ

ຕົວແບບ:
WG-16

WG-16 ຕົວແທນທໍາຄວາມສະອາດ Silicon Wafer ທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງ , ການແກ້ໄຂສ່ວນຫນຶ່ງທີ່ຖືກວິສະວະກໍາໂດຍການຜະສົມສານປະສົມທີ່ມີໂພແທດຊຽມ, ທາດປະສົມທີ່ກ້າວຫນ້າ, ແລະສານ surfactants ພິເສດ, ຊໍານິຊໍານານໃນການທໍາຄວາມສະອາດທີ່ຊັດເຈນສໍາລັບຊັ້ນໃຕ້ດິນຂອງຊິລິໂຄນແລະພື້ນຜິວທີ່ fouled ໂດຍ ion ໂລຫະ residues. ສູດທີ່ເປັນເອກະລັກຂອງມັນເຈາະຮູຂຸມຂົນຈຸນລະພາກເພື່ອລະລາຍນໍ້າມັນທີ່ແຂງກະດ້າງໃນຂະນະທີ່ chelating ion ໂລຫະ (ເຊັ່ນ: ທອງແດງ , ທາດເຫຼັກ ) ໃນລະດັບໂມເລກຸນ - ການກໍາຈັດສິ່ງປົນເປື້ອນທີ່ສາມາດເຮັດໃຫ້ການປະຕິບັດຂອງ semiconductor. ນອກເຫນືອຈາກປະສິດທິພາບການທໍາຄວາມສະອາດ, ມັນປະຕິບັດຕາມມາດຕະຖານດ້ານນິເວດທີ່ເຂັ້ມງວດ, ມີເນື້ອໃນ VOC ຕ່ໍາແລະອົງປະກອບທີ່ຍ່ອຍສະຫຼາຍໄດ້ທີ່ສອດຄ່ອງກັບອະນຸສັນຍາການຜະລິດສີຂຽວ. ເຫມາະສໍາລັບ fabs semiconductor ແລະການຜະລິດເອເລັກໂຕຣນິກທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍໍາສູງ, ມັນປົກປ້ອງຄວາມສົມບູນຂອງຂະບວນການໂດຍການຮັບປະກັນຄວາມບໍລິສຸດຂອງ substrate, ໂດຍກົງເພີ່ມຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືຂອງຜະລິດຕະພັນລຸ່ມນ້ໍາ.

ປະສິດທິພາບການທໍາຄວາມສະອາດພິເສດ : WG-16 ສະແດງໃຫ້ເຫັນຄວາມສາມາດທໍາຄວາມສະອາດທີ່ໂດດເດັ່ນສໍາລັບວັດສະດຸຊິລິຄອນ. ມັນມີອັດຕາການທໍາຄວາມສະອາດ 99% ສໍາລັບການເປື້ອນຂອງນ້ໍາມັນແລະຫຼາຍກວ່າ 99% ການຂັດ, ສະລັບສັບຊ້ອນ, ແລະຜົນກະທົບທໍາຄວາມສະອາດກ່ຽວກັບ ions ໂລຫະເຊັ່ນທອງແດງແລະທາດເຫຼັກ.
ເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມ : ຜະລິດຕະພັນນີ້ບໍ່ມີ phosphorus ແລະບໍ່ມີ ions ໂລຫະເຊັ່ນ: ແຄຊຽມ, ແມກນີຊຽມ, ທາດເຫຼັກ, ທອງແດງ, ແລະຕະກົ່ວ. ມັນປະຕິບັດຕາມຂໍ້ກໍານົດ ROHS ຂອງ EU, ເຮັດໃຫ້ມັນເປັນທາງເລືອກທີ່ເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມ.
ຄວາມເຂັ້ມຂຸ້ນສູງ ແລະໂຟມຕໍ່າ : ເປັນຜະລິດຕະພັນທີ່ມີສ່ວນປະກອບດຽວທີ່ມີຄວາມເຂັ້ມຂຸ້ນສູງ, ມັນສະຫນອງພະລັງງານທໍາຄວາມສະອາດທີ່ເຂັ້ມແຂງດ້ວຍປະລິມານຂະຫນາດນ້ອຍ. ຍິ່ງໄປກວ່ານັ້ນ, ມັນເປັນຜະລິດຕະພັນທີ່ມີໂຟມຕ່ໍາ, ເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບການນໍາໃຊ້ອຸປະກອນທໍາຄວາມສະອາດ ultrasonic.
ປັບປຸງປະສິດທິພາບການແປງແສງ Photovoltaic : ເນື້ອໃນຂອງ ions ໂລຫະນອກຈາກ potassium ແລະ sodium ions ໃນ WG-16 ແມ່ນບໍ່ສູງກວ່າ 50 ppm. ເມື່ອນໍາໃຊ້ເພື່ອເຮັດຄວາມສະອາດ wafers ຊິລິໂຄນ, ມັນສາມາດປັບປຸງປະສິດທິພາບການແປງ photoelectric ຂອງ wafers ໄດ້ຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ.

ຄູ່ມືການດໍາເນີນງານ

·ໂຄງການປະສົມຂອງຕົວແທນທໍາຄວາມສະອາດ: ໃນຖັງທໍາອິດ, ປັບຕາມຄວາມຕ້ອງການຂອງຂະບວນການສະເພາະ. ໃຊ້ນ້ໍາບໍລິສຸດໄຫຼສໍາລັບການເຮັດຄວາມສະອາດໃນຖັງທີສອງ. ໃນຖັງທີສາມແລະສີ່, ຕື່ມ 4 - 6 kg ຂອງ WG - 16 silicon wafer ຕົວແທນທໍາຄວາມສະອາດ, ແລະກໍານົດສາຍການເພີ່ມຢ່າງຕໍ່ເນື່ອງອັດຕະໂນມັດເປັນ 1 - 2 ກິໂລ. ໃຊ້ນ້ໍາບໍລິສຸດທີ່ໄຫຼສໍາລັບການເຮັດຄວາມສະອາດໃນທຸກໆຖັງຕໍ່ໄປ (ປົກກະຕິແລ້ວ 3 - 4 ນ້ໍາ - ຖັງລ້າງ).

· ການຄວບຄຸມອຸນຫະພູມ: ຕັ້ງອຸນຫະພູມຂອງຖັງທີສາມແລະສີ່ທີ່ 45 - 65 ° C.

· ເວລາທໍາຄວາມສະອາດ: ໃຫ້ແນ່ໃຈວ່າເວລາທໍາຄວາມສະອາດໃນແຕ່ລະຖັງບໍ່ຫນ້ອຍກວ່າ 2 ນາທີ, ແລະແນະນໍາໃຫ້ 3 - 4 ນາທີ.

· ຮອບວຽນການທົດແທນຕົວແທນການທໍາຄວາມສະອາດ: ສໍາລັບສາຍຄູ່ມື, ໃຫ້ປ່ຽນຕົວແທນທໍາຄວາມສະອາດຫນຶ່ງຄັ້ງຕໍ່ການປ່ຽນແປງ; ສໍາລັບສາຍອັດຕະໂນມັດ, ປ່ຽນມັນທຸກໆ 1 - 3 ການປ່ຽນແປງ.

ການປ້ອງກັນລ່ວງໜ້າ

· ເມື່ອຈັດການຜະລິດຕະພັນ, ໃຫ້ໃສ່ອຸປະກອນປ້ອງກັນທີ່ເໝາະສົມເຊັ່ນ: ຖົງມື ແລະແວ່ນຕາເພື່ອຫຼີກເວັ້ນການສຳຜັດກັບຜິວໜັງ ແລະຕາ.

· ເກັບຮັກສາຜະລິດຕະພັນໄວ້ໃນບ່ອນທີ່ເຢັນ, ແຫ້ງ, ຫ່າງຈາກແສງແດດໂດຍກົງແລະແຫຼ່ງຄວາມຮ້ອນເພື່ອຮັບປະກັນຄວາມຫມັ້ນຄົງແລະປະສິດທິພາບຂອງມັນ.

ທີ່ຜ່ານມາ:

ຕໍ່ໄປ:

ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດ Silicon Wafer ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ Advanced Silicon Substrate Cleaning Solution Semiconductor Wafer Cleaning Solution ສໍາລັບການປັບປຸງຄວາມບໍລິສຸດຂອງ substrate ຕົວແທນທໍາຄວາມສະອາດ Semiconductor Wafer ປະສິດທິພາບສູງສໍາລັບການ etching & CMP ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດຊິລິໂຄນ wafer ກໍາຈັດໄອອອນໂຟມຕ່ໍາ ທາດທຳຄວາມສະອາດໂລຫະ Ion Chelation ຕ່ຳ-VOC Wafer ເຮັດຄວາມສະອາດດ້ວຍການກໍາຈັດນ້ໍາມັນ 99%. ຕົວແທນທໍາຄວາມສະອາດ Wafer ກ່ອນ Etching ການແກ້ໄຂການເຮັດຄວາມສະອາດຫລັງ CMP Wafer ທີ່ບໍ່ມີຟອສຟໍຣັດ

ຜະລິດຕະພັນທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ

708RB Semiconductor Wafer ຕົວແທນທໍາຄວາມສະອາດອະນຸພາກ

Semiconductor Wafer Particle Cleaning Agent

ນ້ໍາການຕັດຄວາມແມ່ນຍໍາທີ່ບໍ່ມີການກັດກ່ອນສໍາລັບ Wafers

Diamond Wire Saw Coolant ສໍາລັບການຜະລິດ PV ແບບປິດ

ຂ່າວທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ

ເນື້ອຫາຫວ່າງເປົ່າ!

ພາລາມິເຕີ	ລາຍລະອຽດ
ຮູບລັກສະນະ	ທາດແຫຼວທີ່ບໍ່ມີສີ
ກາວິທັດສະເພາະ	1.00 ± 0.05
ຄ່າ pH	8 - 10
ຟຣີ alkalinity	30 - 50

ຕົວແທນທໍາຄວາມສະອາດ Silicon Wafer ປະສິດທິພາບສູງ

ຜະລິດຕະພັນທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ

ຂ່າວທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ

ນອກເໜືອໄປຈາກນ້ຳ: ຄວາມເປັນຈິງທາງເທັກນິກຂອງການຮຽກຄືນອັດຕາສ່ວນປະສິດທິພາບຂອງແສງຕາເວັນຂອງທ່ານ