Ahente sa Paglilinis ng Silicon Wafer na Mahusay

• Pambihirang Pagganap ng Paglilinis : Ang WG-16 ay nagpapakita ng pambihirang kakayahan sa paglilinis para sa mga materyales na silikon. Mayroon itong 99% na rate ng paglilinis para sa mga mantsa ng langis at higit sa 99% na epekto ng paghuhubad, pagpapakumplikado, at paglilinis sa mga metal ions tulad ng tanso at bakal.

• Environmentally Friendly : Ang produktong ito ay walang phosphorus at walang metal ions gaya ng calcium, magnesium, iron, copper, at lead. Sumusunod ito sa mga kinakailangan ng EU ROHS, na ginagawa itong isang eco-friendly na pagpipilian.

• High-Concentration at Low-Foam : Bilang isang high-concentration na single-component na produkto, nag-aalok ito ng malakas na kapangyarihan sa paglilinis na may maliit na dosis. Bukod dito, ito ay isang mababang-foam na produkto, na ginagawa itong lubos na angkop para sa paggamit sa ultrasonic cleaning equipment.

• Pinahusay na Photovoltaic Conversion Efficiency : Ang nilalaman ng mga metal ions maliban sa potassium at sodium ions sa WG-16 ay hindi mas mataas sa 50 ppm. Kapag ginamit upang linisin ang mga wafer ng silikon, maaari itong makabuluhang mapabuti ang kahusayan ng conversion ng photoelectric ng mga wafer.

• Semiconductor Manufacturing : Ang WG-16 ay maaaring epektibong mag-alis ng mga metal ions at mantsa ng langis sa mga wafer ng silicon, na tinitiyak ang kalidad ng mga aparatong semiconductor. Ginagamit ito sa mga proseso tulad ng paglilinis ng wafer bago mag-ukit at pagkatapos ng chemical mechanical polishing upang mapabuti ang ani at pagganap ng mga produktong semiconductor.

• Industriya ng Photovoltaic : Maaaring linisin ng WG-16 ang mga wafer ng silicon nang lubusan, na binabawasan ang epekto ng mga impurities sa pagganap ng mga solar cell, at sa gayon ay pinahuhusay ang pangkalahatang kahusayan sa pagbuo ng kuryente ng mga photovoltaic module.

• Gabay sa Operasyon

    · Pamamaraan ng paghahalo ng ahente ng paglilinis: Sa unang tangke, ayusin ayon sa mga partikular na kinakailangan sa proseso. Gumamit ng dumadaloy na dalisay na tubig para sa paglilinis sa pangalawang tangke. Sa ikatlo at ikaapat na tangke, magdagdag ng 4 - 6 kg ng WG - 16 silicon wafer cleaning agent, at itakda ang awtomatikong tuluy-tuloy na linya ng karagdagan sa 1 - 2 kg. Gumamit ng dumadaloy na dalisay na tubig para sa paglilinis sa lahat ng kasunod na tangke (karaniwan ay 3 - 4 na tubig - mga tangke ng paghuhugas).

    · Temperature Control: Itakda ang temperatura ng ikatlo at ikaapat na tangke sa 45 - 65°C.

    · Oras ng Paglilinis: Tiyakin na ang oras ng paglilinis sa bawat tangke ay hindi bababa sa 2 minuto, at ipinapayong maging 3 - 4 na minuto.

    · Ikot ng Pagpapalit ng Ahente sa Paglilinis: Para sa mga manu-manong linya, palitan ang ahente ng paglilinis nang isang beses bawat shift; para sa mga awtomatikong linya, palitan ito tuwing 1 - 3 shift.

• Mga pag-iingat

    · Kapag hinahawakan ang produkto, magsuot ng angkop na kagamitang pang-proteksyon tulad ng guwantes at salaming de kolor upang maiwasan ang pagkakadikit sa balat at mata.

    · Itago ang produkto sa isang malamig, tuyo na lugar, malayo sa direktang sikat ng araw at mga pinagmumulan ng init upang matiyak ang katatagan at pagiging epektibo nito.