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GT-16
El agente limpiador de obleas de silicio de alta eficiencia WG-16 , una solución de un solo componente diseñada mediante la combinación de compuestos a base de potasio, agentes complejantes avanzados y tensioactivos especializados, destaca en la limpieza de precisión de sustratos de silicio y superficies contaminadas con residuos de iones metálicos. Su fórmula única penetra en los microporos para disolver los aceites rebeldes mientras quela los iones metálicos (por ejemplo, cobre , y hierro ) a nivel molecular, eliminando contaminantes que podrían comprometer el rendimiento de los semiconductores. Más allá de la eficacia de la limpieza, cumple con rigurosos estándares eco-regulatorios, con bajo contenido de COV y componentes biodegradables que se alinean con los protocolos de fabricación ecológica. Ideal para fábricas de semiconductores y producción de productos electrónicos de alta precisión, salvaguarda la integridad del proceso al garantizar la pureza del sustrato, lo que aumenta directamente la confiabilidad del producto posterior.
Rendimiento de limpieza excepcional : WG-16 muestra una capacidad de limpieza excepcional para materiales de silicona. Tiene una tasa de limpieza del 99 % para manchas de aceite y más del 99 % de efecto decapante, complejante y limpiador en iones metálicos como el cobre y el hierro.
Respetuoso con el medio ambiente : este producto no contiene fósforo y no contiene iones metálicos como calcio, magnesio, hierro, cobre y plomo. Cumple con los requisitos ROHS de la UE, lo que la convierte en una opción ecológica.
Alta concentración y baja espuma : como producto monocomponente de alta concentración, ofrece un poder de limpieza fuerte con una dosis pequeña. Además, es un producto con poca espuma, lo que lo hace muy adecuado para su uso en equipos de limpieza por ultrasonidos.
Eficiencia de conversión fotovoltaica mejorada : el contenido de iones metálicos distintos de los iones de potasio y sodio en WG-16 no supera las 50 ppm. Cuando se utiliza para limpiar obleas de silicio, puede mejorar significativamente la eficiencia de conversión fotoeléctrica de las obleas.
Parámetro |
Detalle |
Apariencia |
Líquido incoloro |
Peso específico |
1,00 ± 0,05 |
Valor de pH |
8 - 10 |
Alcalinidad libre |
30 - 50 |
Fabricación de semiconductores : WG-16 puede eliminar eficazmente iones metálicos y manchas de aceite en obleas de silicio, garantizando la calidad de los dispositivos semiconductores. Se utiliza en procesos como la limpieza de obleas antes del grabado y después del pulido mecánico químico para mejorar el rendimiento y el rendimiento de los productos semiconductores.
Industria fotovoltaica : WG-16 puede limpiar a fondo las obleas de silicio, reduciendo el impacto de las impurezas en el rendimiento de las células solares, mejorando así la eficiencia general de generación de energía de los módulos fotovoltaicos.
Guía de operación
· Esquema de mezcla del agente limpiador: En el primer tanque, ajustar según los requisitos específicos del proceso. Utilice agua pura corriente para limpiar el segundo tanque. En el tercer y cuarto tanque, agregue de 4 a 6 kg de agente limpiador de obleas de silicio WG - 16 y ajuste la línea automática de adición continua a 1 a 2 kg. Utilice agua pura corriente para limpiar todos los tanques posteriores (generalmente 3 o 4 tanques de lavado de agua).
· Control de temperatura: Ajuste la temperatura del tercer y cuarto tanque a 45 - 65°C.
· Tiempo de Limpieza: Asegurarse que el tiempo de limpieza en cada tanque no sea inferior a 2 minutos, siendo recomendable que sea de 3 - 4 minutos.
· Ciclo de reemplazo del agente de limpieza: Para líneas manuales, reemplace el agente de limpieza una vez por turno; para líneas automáticas, reemplácelo cada 1 a 3 turnos.
Precauciones
· Al manipular el producto, utilice equipo de protección adecuado, como guantes y gafas, para evitar el contacto con la piel y los ojos.
· Almacenar el producto en un lugar fresco y seco, alejado de la luz solar directa y de fuentes de calor para asegurar su estabilidad y eficacia.
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