สารทำความสะอาดเวเฟอร์ซิลิคอนประสิทธิภาพสูง

• ประสิทธิภาพการทำความสะอาดที่ยอดเยี่ยม : WG-16 แสดงให้เห็นความสามารถในการทำความสะอาดที่โดดเด่นสำหรับวัสดุซิลิกอน มีอัตราการทำความสะอาด 99% สำหรับคราบน้ำมัน และประสิทธิภาพการลอก การเกิดปฏิกิริยาเชิงซ้อน และการทำความสะอาดมากกว่า 99% ต่อไอออนของโลหะ เช่น ทองแดง และเหล็ก

• เป็นมิตรกับสิ่งแวดล้อม : ผลิตภัณฑ์นี้ไม่มีฟอสฟอรัส และปราศจากไอออนของโลหะ เช่น แคลเซียม แมกนีเซียม เหล็ก ทองแดง และตะกั่ว เป็นไปตามข้อกำหนดของ EU ROHS ทำให้เป็นตัวเลือกที่เป็นมิตรกับสิ่งแวดล้อม

• ความเข้มข้นสูงและฟองน้อย : เนื่องจากเป็นผลิตภัณฑ์ที่มีส่วนประกอบเดียวที่มีความเข้มข้นสูง จึงให้พลังการทำความสะอาดที่เข้มข้นโดยใช้ปริมาณที่น้อย นอกจากนี้ยังเป็นผลิตภัณฑ์ที่มีฟองต่ำจึงเหมาะอย่างยิ่งสำหรับใช้ในอุปกรณ์ทำความสะอาดอัลตราโซนิก

• ปรับปรุงประสิทธิภาพการแปลงไฟฟ้าโซลาร์เซลล์ : ปริมาณไอออนของโลหะนอกเหนือจากโพแทสเซียมและโซเดียมไอออนใน WG-16 ไม่สูงกว่า 50 ppm เมื่อใช้ในการทำความสะอาดเวเฟอร์ซิลิคอน จะสามารถปรับปรุงประสิทธิภาพการแปลงโฟโตอิเล็กทริกของเวเฟอร์ได้อย่างมาก

• การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ : WG-16 สามารถขจัดไอออนของโลหะและคราบน้ำมันบนแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนได้อย่างมีประสิทธิภาพ ช่วยให้มั่นใจในคุณภาพของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ ใช้ในกระบวนการต่างๆ เช่น การทำความสะอาดเวเฟอร์ก่อนการกัดและหลังการขัดเชิงกลด้วยเคมี เพื่อปรับปรุงผลผลิตและประสิทธิภาพของผลิตภัณฑ์เซมิคอนดักเตอร์

• อุตสาหกรรมไฟฟ้าโซลาร์เซลล์ : WG-16 สามารถทำความสะอาดเวเฟอร์ซิลิคอนได้อย่างทั่วถึง ลดผลกระทบของสิ่งเจือปนต่อประสิทธิภาพของเซลล์แสงอาทิตย์ จึงช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการผลิตพลังงานโดยรวมของโมดูลไฟฟ้าโซลาร์เซลล์

• คู่มือการใช้งาน

    · รูปแบบการผสมสารทำความสะอาด: ในถังแรก ปรับตามความต้องการของกระบวนการเฉพาะ ใช้น้ำบริสุทธิ์ไหลเพื่อทำความสะอาดในถังที่สอง ในถังที่สามและสี่ ให้เติมสารทำความสะอาดเวเฟอร์ซิลิคอน WG - 16 4 - 6 กก. และตั้งค่าบรรทัดเติมต่อเนื่องอัตโนมัติเป็น 1 - 2 กก. ใช้น้ำบริสุทธิ์ที่ไหลเพื่อทำความสะอาดในถังถัดไปทั้งหมด (ปกติคือถังล้างน้ำ 3 - 4 ถัง)

    · การควบคุมอุณหภูมิ: ตั้งอุณหภูมิของถังที่สามและสี่เป็น 45 - 65°C

    · เวลาในการทำความสะอาด: ตรวจสอบให้แน่ใจว่าเวลาในการทำความสะอาดในแต่ละถังไม่น้อยกว่า 2 นาที และแนะนำให้อยู่ที่ 3 - 4 นาที

    · รอบการเปลี่ยนสารทำความสะอาด: สำหรับสายการผลิตแบบแมนนวล ให้เปลี่ยนสารทำความสะอาดหนึ่งครั้งต่อกะ สำหรับสายอัตโนมัติให้เปลี่ยนทุกๆ 1 - 3 กะ

• ข้อควรระวัง

    · เมื่อจัดการผลิตภัณฑ์ ให้สวมอุปกรณ์ป้องกันที่เหมาะสม เช่น ถุงมือและแว่นตา เพื่อหลีกเลี่ยงการสัมผัสกับผิวหนังและดวงตา

    · เก็บผลิตภัณฑ์ไว้ในที่เย็นและแห้ง ห่างจากแสงแดดและแหล่งความร้อนโดยตรง เพื่อให้มั่นใจถึงความเสถียรและประสิทธิผล