กำลังโหลด

สารทำความสะอาดอนุภาคเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์

เป็นสารทำความสะอาดสูตรน้ำสีขาวขุ่น เหมาะสำหรับการขจัดสิ่งปนเปื้อน เช่น อนุภาคและไอออนของโลหะ ออกจากพื้นผิวของวัสดุ เช่น เวเฟอร์ซิลิคอน
 
ข้อดี:
  • เป็นมิตรกับสิ่งแวดล้อมและได้มาตรฐาน
  • ประสิทธิภาพการทำความสะอาดอันทรงพลัง
  • โฟมต่ำและปราศจากสารตกค้าง
  • การดำเนินงานโดยตรงและสะดวก
  • การดูดซับทางกายภาพที่ดีเยี่ยม
 
หน่วยบรรจุภัณฑ์: 1 แกลลอน/เหยือก, 5 ลิตร/เหยือก, 200 ลิตร/บาร์เรล
มีจำหน่าย:
ปริมาณ:
ปุ่มแชร์เฟสบุ๊ค
ปุ่มแชร์ทวิตเตอร์
ปุ่มแชร์ไลน์
ปุ่มแชร์วีแชท
ปุ่มแชร์ของ LinkedIn
ปุ่มแชร์ Pinterest
ปุ่มแชร์ Whatsapp
ปุ่มแชร์ Kakao
ปุ่มแชร์ Snapchat
ปุ่มแชร์โทรเลข
แชร์ปุ่มแชร์นี้
  • 708RB

สารทำความสะอาดอนุภาคเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์ 708RB เป็นน้ำยาทำความสะอาดสีขาวน้ำนมสูตรน้ำที่ไม่เพียงแต่ออกแบบมาเป็นพิเศษสำหรับเวเฟอร์ซิลิคอน เวเฟอร์ เซมิคอนดักเตอร์ เวเฟอร์ลิเธียมไนโอเบตและลิเธียมคาร์บอเนต ฯลฯ แต่ยังมีหน้าที่ในการกำจัดอนุภาคละเอียดที่ดูดซับบนพื้นผิวโลหะหลังจากการเจียรหรือขัด นอกจากนี้ เมื่อรวมกับการทำความสะอาดอัลตราโซนิก ก็สามารถขจัดอนุภาคที่ดูดซับบนพื้นผิวโลหะได้อย่างมีประสิทธิภาพ และมีความสามารถในการขจัดตะกรัน นอกจากนี้ยังสามารถกำหนดเป้าหมายการกำจัดอนุภาค อินทรียวัตถุ ไอออนของโลหะ และมลพิษอื่นๆ บนพื้นผิวของวัสดุเหล่านี้ ยิ่งไปกว่านั้น สารออกฤทธิ์ในน้ำยาทำความสะอาดสามารถดูดซับบนพื้นผิวของแผ่นเวเฟอร์ได้ จึงทำให้มีสถานะการดูดซับทางกายภาพที่ทำความสะอาดง่ายในระยะยาว และสร้างชั้นป้องกันบนพื้นผิวเพื่อป้องกันการดูดซับครั้งที่สองของอนุภาค ซึ่งท้ายที่สุดสามารถปรับปรุงอัตราผลตอบแทนของกระบวนการเยื่อบุผิวหรือการแพร่กระจายได้อย่างมีประสิทธิภาพในท้ายที่สุด


  • เป็นมิตรกับสิ่งแวดล้อมและเป็นไปตามข้อกำหนด: 708RB ปราศจากโลหะหนัก ตรงตามมาตรฐาน RoHS ของสหภาพยุโรป เป็นตัวเลือกที่เป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อมสำหรับการทำความสะอาดเซมิคอนดักเตอร์และเวเฟอร์ ซึ่งรับประกันการปฏิบัติตามกฎระเบียบสากล

  • ประสิทธิภาพการทำความสะอาดอันทรงพลัง: แสดงความสามารถในการทำความสะอาดที่ยอดเยี่ยม ขจัดน้ำมัน ฝุ่นละออง รอยลายนิ้วมือ ฯลฯ ได้อย่างมีประสิทธิภาพ อัตราการทำความสะอาดสามารถเข้าถึงมากกว่า 99% รับประกันผลลัพธ์การทำความสะอาดคุณภาพสูง

  • โฟมต่ำและไร้สารตกค้าง: ด้วยโฟมต่ำ จึงล้างออกได้ง่ายและไม่ทิ้งสารตกค้าง คุณสมบัตินี้ทำให้กระบวนการหลังการทำความสะอาดง่ายขึ้น และช่วยให้มั่นใจถึงความสะอาดของสิ่งของที่ทำความสะอาด

  • การทำงานโดยตรงและสะดวก: ช่วยให้ทำความสะอาดได้โดยตรง ประหยัดเวลาและความพยายาม การใช้งานและการเปลี่ยนที่ง่ายดายทำให้เป็นตัวเลือกที่สะดวกสำหรับการใช้งานทำความสะอาดต่างๆ

  • การดูดซับทางกายภาพที่ดีเยี่ยม: สารออกฤทธิ์ทำให้เกิดการดูดซับทางกายภาพในระยะยาว ทำให้พื้นผิวอยู่ในสภาพที่ทำความสะอาดได้ง่าย และป้องกันการดูดซับอนุภาคทุติยภูมิ


พารามิเตอร์                

หน่วย                

ข้อมูล                

รูปร่าง

(โซลูชันดั้งเดิม)

-

ของเหลวสีขาวขุ่น

รูปร่าง

(สารละลายเจือจาง)

-

ของเหลวใส

กลิ่น

-

ไม่มี

จุดเท

℃

2

ความหนาแน่น

กก./ม.⊃3;

1030

ค่า pH (5%)

-

12 (ประมาณ 9.5 หลังเจือจาง)


  • อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์: 708RB ใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ใช้สำหรับการทำความสะอาดชิปเซมิคอนดักเตอร์และเวเฟอร์อย่างแม่นยำ รวมถึงเวเฟอร์ซิลิคอน เวเฟอร์ลิเธียมไนโอเบต ฯลฯ ด้วยการกำจัดสิ่งปนเปื้อนต่างๆ อย่างมีประสิทธิภาพ ช่วยให้มั่นใจในความสมบูรณ์และประสิทธิภาพของส่วนประกอบเซมิคอนดักเตอร์ ซึ่งเป็นสิ่งสำคัญสำหรับการผลิตอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์คุณภาพสูง

  • การทำความสะอาดส่วนประกอบ: ในการผลิตและการบำรุงรักษาชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ สารทำความสะอาดนี้มีบทบาทสำคัญใน สามารถทำความสะอาดพื้นผิวของส่วนประกอบได้อย่างทั่วถึง กำจัดอนุภาค สารอินทรีย์ และไอออนของโลหะที่อาจส่งผลต่อการทำงานและความน่าเชื่อถือของส่วนประกอบ นี่เป็นสิ่งสำคัญอย่างยิ่งสำหรับส่วนประกอบที่ใช้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ที่มีความแม่นยำสูง

  • เทคโนโลยีฟิล์มบาง: สำหรับพื้นผิวแก้วและโลหะในเทคโนโลยีฟิล์มบาง 708RB เป็นตัวเลือกที่เหมาะ ช่วยเตรียมพื้นผิวโดยการขจัดสิ่งสกปรก ช่วยให้การยึดเกาะและคุณภาพของฟิล์มบางดีขึ้น ไม่ว่าจะเป็นการเคลือบด้วยแสงหรือการใช้งานฟิล์มบางอื่นๆ ช่วยให้มั่นใจได้ว่าพื้นผิวที่สะอาดและเหมาะสมสำหรับกระบวนการสะสม


  • การใช้งาน:

    · การเจือจาง: สำหรับการทำความสะอาดอัลตราโซนิก แนะนำให้เจือจางด้วยน้ำในอัตราส่วน 1:20 - 1:50

    · การตั้งค่าอุณหภูมิ: ตั้งอุณหภูมิระหว่าง 30 - 60°C

    · เวลาในการทำความสะอาด: ประมาณ. 30 นาที ปรับตามสถานการณ์จริง

    · การผสม: ผสมผงซักฟอกกับน้ำในสัดส่วนเดียวกัน ตั้งความร้อนตามอุณหภูมิที่ตั้งไว้ และเริ่มทำความสะอาด

    · การบำรุงรักษา: ตรวจสอบและเติมสารทำความสะอาดอย่างสม่ำเสมอ ตรวจสอบน้ำบริสุทธิ์และตลับกรองของอุปกรณ์ทำความสะอาด

    · เปลี่ยนน้ำยาทำความสะอาดทุกๆ 1 - 3 วัน สำหรับการใช้งานปกติ และวันละครั้ง สำหรับการล้างหนัก (ไม่เกิน 5 วัน)

    · ตัวอย่างเช่น ในถังแรก ให้เจือจาง 1:30 และอัลตราโซนิคที่ 40HZ เป็นเวลา 20 นาทีที่ 35°C; ในถังที่สอง เจือจาง 1:50 และอัลตราโซนิกที่ 40HZ เป็นเวลา 30 นาทีที่ 30°C

  • พื้นที่จัดเก็บ:

    · ผลิตภัณฑ์ เป็นไปตามมาตรฐาน EU ROHS

    · บรรจุภัณฑ์ถังพลาสติก: 5KG, 10KG, 25KG/drum สินค้าที่ไม่เป็นอันตรายง่ายต่อการจัดเก็บและขนส่ง

    · ระยะเวลาการเก็บรักษาคือ 2 ปี ไม่สามารถเก็บไว้ในที่โล่ง และป้องกันไม่ให้ถูกแสงแดดและฝน

    · ควรขันน้ำยาทำความสะอาดที่ไม่ได้ใช้บนฝาถังให้แน่นเพื่อหลีกเลี่ยงไม่ให้ความชื้นและสิ่งเจือปนปะปนกัน


ก่อนหน้า: 
ต่อไป: 
สารทำความสะอาดอนุภาคเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์สำหรับเวเฟอร์ซิลิคอน สารทำความสะอาดอนุภาคสำหรับพื้นผิวเวเฟอร์ซิลิคอนในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ สารทำความสะอาดอนุภาคสำหรับขจัดสิ่งปนเปื้อนออกจากชิปเซมิคอนดักเตอร์ (ใช้ได้กับซิลิคอนวา สารทำความสะอาดอนุภาคสูตรน้ำสำหรับเซมิคอนดักเตอร์ซิลิคอนเวเฟอร์ สารทำความสะอาดอนุภาคที่เป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อมสำหรับเวเฟอร์ซิลิคอนในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ สารทำความสะอาดอนุภาคสำหรับขจัดอนุภาคออกจากวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ (รวมถึงเวเฟอร์ซิลิคอน สารทำความสะอาดอนุภาคอัลตราโซนิกสำหรับเวเฟอร์ซิลิคอนและเซมิคอนดักเตอร์

สินค้าที่เกี่ยวข้อง

ข่าวที่เกี่ยวข้อง

เนื้อหาว่างเปล่า!

วอทส์แอพพ์:
+86- 18123969340 
+86- 13691824013
อีเมล:
contact@yuananchemtech.com
supports@yuananchemtech.com
เวลาทำการ:
จันทร์ - ศ. 9.00 - 18.00 น
เกี่ยวกับเรา
โดยมุ่งเน้นไปที่การผลิตตัวแทนสำหรับเซมิคอนดักเตอร์และการผลิตและการวิจัยและพัฒนาเคมีภัณฑ์อิเล็กทรอนิกส์​​​​​​
สมัครสมาชิก
ลงทะเบียนเพื่อรับจดหมายข่าวของเราเพื่อรับข่าวสารล่าสุด
ลิขสิทธิ์ © 2024 เซินเจิ้น Yuanan Technology Co., Ltd. สงวนลิขสิทธิ์ แผนผังเว็บไซต์ นโยบายความเป็นส่วนตัว