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Reinigungsmittel für Halbleiterwaferpartikel

Es handelt sich um ein milchig-weißes Reinigungsmittel auf Wasserbasis, das sich zum Entfernen von Verunreinigungen wie Partikeln und Metallionen von der Oberfläche von Materialien wie Siliziumwafern eignet.
 
Vorteile:
  • Umweltfreundlich und konform
  • Leistungsstarke Reinigungsleistung
  • Schaumarm und rückstandsfrei
  • Direkte und komfortable Bedienung
  • Ausgezeichnete physikalische Adsorption
 
Verpackungseinheiten: 1 Gallone/Krug, 5 L/Krug, 200 L/Fass
Verfügbarkeit:
Menge:
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  • 708RB

708RB Semiconductor Wafer Particle Cleaning Agent ist ein milchig-weißer flüssiger Reiniger auf Wasserbasis, der nicht nur speziell für Siliziumwafer, Wafer, Halbleiter, Lithiumniobat- und Lithiumcarbonatwafer usw. entwickelt wurde, sondern auch die Funktion hat, feine Partikel zu entfernen, die nach dem Schleifen oder Läppen auf der Metalloberfläche adsorbiert sind. Darüber hinaus kann es in Kombination mit der Ultraschallreinigung die auf der Metalloberfläche adsorbierten Partikel effektiv entfernen und verfügt über eine gewisse Entkalkungsfähigkeit. Darüber hinaus kann es auf die Entfernung von Partikeln, organischem Material, Metallionen und anderen Schadstoffen auf der Oberfläche dieser Materialien abzielen. Darüber hinaus können die Wirkstoffe im Reiniger an der Oberfläche des Wafers adsorbiert werden, wodurch dieser langfristig in einen leicht zu reinigenden physikalischen Adsorptionszustand versetzt wird und eine Schutzschicht auf der Oberfläche gebildet wird, um die sekundäre Adsorption von Partikeln zu verhindern, was letztendlich die Ausbeute des Epitaxie- oder Diffusionsprozesses wirksam verbessern kann.


  • Umweltfreundlich und konform: 708RB ist frei von Schwermetallen und erfüllt den RoHS-Standard der EU. Es ist eine umweltfreundliche Wahl für die Reinigung von Halbleitern und Wafern und gewährleistet die Einhaltung internationaler Vorschriften.

  • Leistungsstarke Reinigungsleistung: Es zeigt eine hervorragende Reinigungsfähigkeit und entfernt effektiv Öl, Staubpartikel, Fingerabdrücke usw. Die Reinigungsausbeute kann über 99 % betragen, was hochwertige Reinigungsergebnisse garantiert.

  • Schaumarm und rückstandsfrei: Mit geringem Schaum lässt es sich leicht abspülen und hinterlässt keine Rückstände. Diese Funktion vereinfacht den Nachreinigungsprozess und gewährleistet die Sauberkeit des gereinigten Spülguts.

  • Direkte und bequeme Bedienung: Ermöglicht eine direkte Reinigung und spart Zeit und Mühe. Die einfache Bedienung und der einfache Austausch machen es zu einer bequemen Wahl für verschiedene Reinigungsanwendungen.

  • Hervorragende physikalische Adsorption: Die Wirkstoffe ermöglichen eine langfristige physikalische Adsorption, halten die Oberfläche in einem leicht zu reinigenden Zustand und verhindern die Adsorption von Sekundärpartikeln.


Parameter                

Einheit                

Daten                

Aussehen

(Originallösung)

-

Milchig-weiße Flüssigkeit

Aussehen

(Verdünnte Lösung)

-

Transparente Flüssigkeit

Geruch

-

Keiner

Pourpoint

℃

2

Dichte

kg/m³

1030

pH-Wert (5%)

-

12 (ca. 9,5 nach Verdünnung)


  • Halbleiterindustrie: 708RB ist in der Halbleiterindustrie weit verbreitet. Es wird für die präzise Reinigung von Halbleiterchips und -wafern, einschließlich Siliziumwafern, Lithiumniobatwafern usw., verwendet. Durch die effektive Entfernung verschiedener Verunreinigungen wird die Integrität und Leistung von Halbleiterkomponenten sichergestellt, was für die Herstellung hochwertiger Halbleiterbauelemente von entscheidender Bedeutung ist.

  • Komponentenreinigung: Bei der Herstellung und Wartung elektronischer Komponenten spielt dieser Reiniger eine entscheidende Rolle. Es kann die Oberflächen von Komponenten gründlich reinigen und Partikel, organische Substanzen und Metallionen entfernen, die die Funktionalität und Zuverlässigkeit der Komponenten beeinträchtigen könnten. Dies ist besonders wichtig für Komponenten, die in hochpräzisen elektronischen Geräten verwendet werden.

  • Dünnschichttechnologie: Für Glas- und Metalloberflächen in Dünnschichttechnologie ist 708RB eine ideale Wahl. Es trägt zur Vorbereitung der Oberflächen bei, indem es Verunreinigungen entfernt und so eine bessere Haftung und Qualität der dünnen Filme ermöglicht. Ob für optische Beschichtungen oder andere Dünnschichtanwendungen, es sorgt für eine saubere und geeignete Oberfläche für den Abscheidungsprozess.


  • Verwendung:

    · Verdünnung: Für die Ultraschallreinigung empfiehlt sich eine Verdünnung mit Wasser im Verhältnis 1:20 – 1:50.

    · Temperatureinstellung: Stellen Sie die Temperatur zwischen 30 und 60 °C ein.

    · Reinigungszeit: ca. 30 Minuten. Passen Sie es entsprechend der tatsächlichen Situation an.

    · Mischen: Reinigungsmittel und Wasser im gleichen Verhältnis mischen, auf die eingestellte Temperatur erhitzen und mit der Reinigung beginnen.

    · Wartung: Überprüfen Sie das Reinigungsmittel regelmäßig und füllen Sie es nach. Überprüfen Sie das gereinigte Wasser und die Filterpatronen der Reinigungsgeräte.

    · Ersetzen Sie das Reinigungsmittel bei normalem Gebrauch alle 1–3 Tage und bei intensiver Reinigung einmal täglich (nicht länger als 5 Tage).

    · Zum Beispiel im ersten Tank 1:30 verdünnen und 20 Minuten lang bei 40 Hz und 35 °C mit Ultraschall beschallen; Im zweiten Tank 1:50 verdünnen und 30 Minuten lang bei 40 Hz und 30 °C im Ultraschallbad behandeln.

  • Lagerung:

    · Das Produkt entspricht der EU-ROHS-Norm.

    · Plastiktrommelpaket: 5 kg, 10 kg, 25 kg/Fass, ungefährliche Güter, einfach zu lagern und zu transportieren.

    · Die Lagerdauer beträgt zwei Jahre, es kann nicht im Freien gelagert und vor Sonne und Regen geschützt werden.

    · Der unbenutzte Reiniger sollte fest auf den Deckel der Trommel geschraubt werden, um eine Vermischung von Feuchtigkeit und Verunreinigungen zu vermeiden.


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