| Beschikbaarheid: | |
|---|---|
| Aantal: | |
708RB
708RB Semiconductor Wafer Particle Cleaning Agent is een melkwitte vloeibare reiniger op waterbasis die niet alleen speciaal is ontworpen voor siliciumwafels, wafers, halfgeleiders, lithiumniobaat- en lithiumcarbonaatwafels, enz., maar ook de functie heeft om fijne deeltjes te verwijderen die op het metalen oppervlak zijn geadsorbeerd na het slijpen of leppen. Bovendien kan het, in combinatie met ultrasone reiniging, de deeltjes die op het metalen oppervlak zijn geadsorbeerd effectief verwijderen en heeft het een zeker ontkalkingsvermogen. Bovendien kan het zich richten op de verwijdering van deeltjes, organisch materiaal, metaalionen en andere verontreinigende stoffen op het oppervlak van deze materialen. Bovendien kunnen de actieve stoffen in de reiniger worden geadsorbeerd op het oppervlak van de wafer, waardoor deze op lange termijn in een gemakkelijk te reinigen fysieke adsorptietoestand verkeert en een beschermende laag op het oppervlak wordt gevormd om de secundaire adsorptie van deeltjes te voorkomen, wat uiteindelijk de opbrengst van het epitaxiale of diffusieproces effectief kan verbeteren.
Milieuvriendelijk en conform: 708RB is vrij van zware metalen en voldoet aan de RoHS-norm van de EU. Het is een milieuvriendelijke keuze voor het reinigen van halfgeleiders en wafers, waarbij naleving van de internationale regelgeving wordt gegarandeerd.
Krachtige reinigingsprestaties: het vertoont een uitstekend reinigingsvermogen en verwijdert effectief olie, stofdeeltjes, vingerafdrukken enz. Het reinigingsrendement kan oplopen tot meer dan 99%, wat hoogwaardige reinigingsresultaten garandeert.
Schuimarm en residuvrij: Met laag schuim is het gemakkelijk af te spoelen en laat het geen residu achter. Deze functie vereenvoudigt het nareinigingsproces en zorgt ervoor dat de gereinigde artikelen schoon zijn.
Directe en gemakkelijke bediening: maakt directe reiniging mogelijk, wat tijd en moeite bespaart. De eenvoudige bediening en vervanging maken het een handige keuze voor diverse reinigingstoepassingen.
Uitstekende fysieke adsorptie: De actieve stoffen maken langdurige fysieke adsorptie mogelijk, waardoor het oppervlak in een gemakkelijk reinigbare staat blijft en secundaire deeltjesadsorptie wordt voorkomen.
Parameter |
Eenheid |
Gegevens |
Verschijning (Originele oplossing) |
- |
Melkwitte vloeistof |
Verschijning (Verdunde oplossing) |
- |
Transparante vloeistof |
Geur |
- |
Geen |
Gietpunt |
℃ |
2 |
Dikte |
kg/m³ |
1030 |
pH-waarde (5%) |
- |
12 (ongeveer 9,5 na verdunning) |
Halfgeleiderindustrie: 708RB is breed toepasbaar in de halfgeleiderindustrie. Het wordt gebruikt voor de nauwkeurige reiniging van halfgeleiderchips en wafers, waaronder siliciumwafels, lithiumniobaatwafels, enz. Door verschillende verontreinigingen effectief te verwijderen, waarborgt het de integriteit en prestaties van halfgeleidercomponenten, wat cruciaal is voor de productie van hoogwaardige halfgeleiderapparaten.
Componentreiniging: Bij de productie en het onderhoud van elektronische componenten speelt deze reiniger een cruciale rol. Het kan de oppervlakken van componenten grondig reinigen, waarbij deeltjes, organische stoffen en metaalionen worden geëlimineerd die de functionaliteit en betrouwbaarheid van de componenten kunnen beïnvloeden. Dit is vooral belangrijk voor componenten die worden gebruikt in elektronische apparatuur met hoge precisie.
Dunnefilmtechnologie: Voor glazen en metalen oppervlakken in dunnefilmtechnologie is 708RB een ideale keuze. Het helpt de oppervlakken voor te bereiden door onzuiverheden te verwijderen, waardoor een betere hechting en kwaliteit van de dunne films mogelijk wordt. Of het nu gaat om optische coatings of andere dunnefilmtoepassingen, het zorgt voor een schoon en geschikt oppervlak voor het depositieproces.
Gebruik:
· Verdunning: Voor ultrasoon reinigen wordt aanbevolen om te verdunnen met water in een verhouding van 1:20 - 1:50.
· Temperatuurinstelling: Stel de temperatuur in tussen 30 - 60°C.
· Reinigingstijd: ca. 30 minuten 30 minuten. Pas aan volgens de werkelijke situatie.
· Mengen: Meng het wasmiddel en het water in dezelfde verhouding, verwarm tot de ingestelde temperatuur en begin met reinigen.
· Onderhoud: Controleer en vul het reinigingsmiddel regelmatig bij. Controleer het gezuiverde water en de filterpatronen van de reinigingsapparatuur.
· Vervang het reinigingsmiddel elke 1 - 3 dagen bij normaal gebruik en één keer per dag bij intensieve reiniging (niet meer dan 5 dagen).
· In de eerste tank bijvoorbeeld 1:30 verdunnen en ultrasoon bij 40 Hz gedurende 20 minuten bij 35°C; in de tweede tank, verdun 1:50 en ultrasoon bij 40 Hz gedurende 30 minuten bij 30°C.
Opslag:
· Het product voldoet aan de EU ROHS-norm.
· Plastic drumpakket: 5KG, 10KG, 25KG/drum, niet-gevaarlijke goederen gemakkelijk op te slaan en te vervoeren.
· De opslagperiode bedraagt twee jaar, kan niet in de open lucht worden opgeslagen en beschermd tegen zon en regen.
· De ongebruikte reiniger moet stevig op het deksel van de trommel worden geschroefd om vermenging van vocht en onzuiverheden te voorkomen.
inhoud is leeg!