Nacházíte se zde: Domov / Produkty / Chemikálie pro polovodiče / Čističe pro přesné díly a polovodiče / Čisticí prostředek na částice polovodičových destiček

načítání

Čisticí prostředek na částice polovodičových destiček

Jedná se o mléčně bílý čisticí prostředek na vodní bázi, vhodný pro odstraňování nečistot, jako jsou částice a kovové ionty, z povrchu materiálů, jako jsou křemíkové destičky.
 
výhody:
  • Ekologické a vyhovující
  • Výkonný čisticí výkon
  • Nízká pěna a bez zbytků
  • Přímá a pohodlná obsluha
  • Vynikající fyzikální adsorpce
 
Jednotky balení: 1 gal/džbánek, 5 l/džbán, 200 l/barel
Dostupnost:
Množství:
tlačítko sdílení na facebooku
tlačítko sdílení na twitteru
tlačítko sdílení linky
tlačítko sdílení wechat
tlačítko sdílení linkedin
tlačítko sdílení na pinterestu
tlačítko sdílení whatsapp
tlačítko sdílení kakaa
tlačítko sdílení snapchat
tlačítko sdílení telegramu
sdílet toto tlačítko sdílení
  • 708RB

708RB Semiconductor Wafer Particle Cleaning Agent je mléčně bílý tekutý čistič na vodní bázi, který je nejen speciálně navržen pro křemíkové destičky, destičky, polovodiče, destičky z niobátu lithného a uhličitanu lithného atd., ale má také funkci odstraňování jemných částic adsorbovaných na kovovém povrchu po broušení nebo lapování. Navíc v kombinaci s ultrazvukovým čištěním může účinně odstranit částice adsorbované na kovovém povrchu a má určitou schopnost odstraňování vodního kamene. Kromě toho se může zaměřit na odstraňování částic, organické hmoty, kovových iontů a dalších znečišťujících látek na povrchu těchto materiálů. A co víc, aktivní látky v čističi se mohou adsorbovat na povrch oplatky, čímž ji uvedou do dlouhodobého snadno čistitelného stavu fyzikální adsorpce a vytvoří na povrchu ochrannou vrstvu zabraňující sekundární adsorpci částic, což v konečném důsledku může účinně zlepšit výtěžnost epitaxního nebo difúzního procesu.


  • Ekologický a vyhovující: 708RB neobsahuje těžké kovy a splňuje normu EU RoHS. Je to volba šetrná k životnímu prostředí pro čištění polovodičů a destiček, která zajišťuje shodu s mezinárodními předpisy.

  • Výkonný čisticí výkon: Vykazuje vynikající čisticí schopnost, účinně odstraňuje olej, prachové částice, otisky prstů atd. Výtěžnost čištění může dosáhnout až 99 %, což zaručuje vysoce kvalitní výsledky čištění.

  • Nízká pěna a bez zbytků: Díky nízké pěnivosti se snadno oplachuje a nezanechává žádné zbytky. Tato funkce zjednodušuje proces následného čištění a zajišťuje čistotu čištěných předmětů.

  • Přímý a pohodlný provoz: Umožňuje přímé čištění, což šetří čas a námahu. Snadné ovládání a výměna z něj činí pohodlnou volbu pro různé čisticí aplikace.

  • Vynikající fyzikální adsorpce: Aktivní látky umožňují dlouhodobou fyzikální adsorpci, udržují povrch ve snadno čistitelném stavu a zabraňují sekundární adsorpci částic.


Parametr                

Jednotka                

Data                

Vzhled

(Původní řešení)

-

Mléčně bílá kapalina

Vzhled

(Zředěný roztok)

-

Průhledná kapalina

Zápach

-

Žádný

Bod nalití

℃

2

Hustota

kg/m³

1030

Hodnota pH (5 %)

-

12 (asi 9,5 po naředění)


  • Polovodičový průmysl: 708RB je široce použitelný v polovodičovém průmyslu. Slouží k preciznímu čištění polovodičových čipů a waferů, včetně křemíkových, lithium niobátových, atd. Účinným odstraňováním různých nečistot zajišťuje integritu a výkon polovodičových součástek, což je klíčové pro výrobu vysoce kvalitních polovodičových součástek.

  • Čištění součástí: Při výrobě a údržbě elektronických součástek hraje tento čistič zásadní roli. Dokáže důkladně vyčistit povrchy součástí, eliminovat částice, organické látky a kovové ionty, které mohou ovlivnit funkčnost a spolehlivost součástí. To je zvláště důležité pro komponenty používané ve vysoce přesných elektronických zařízeních.

  • Technologie tenkého filmu: Pro skleněné a kovové povrchy v technologii tenkého filmu je 708RB ideální volbou. Pomáhá připravit povrchy odstraněním nečistot, což umožňuje lepší přilnavost a kvalitu tenkých vrstev. Ať už se jedná o optické povlaky nebo jiné aplikace tenkého filmu, zajišťuje čistý a vhodný povrch pro proces nanášení.


  • Používání:

    · Ředění: Pro čištění ultrazvukem se doporučuje ředit vodou v poměru 1:20 - 1:50.

    · Nastavení teploty: Nastavte teplotu mezi 30 - 60°C.

    · Doba čištění: cca. 30 minut. Upravte podle skutečné situace.

    · Míchání: Smíchejte mycí prostředek a vodu ve stejném poměru, zahřejte na nastavenou teplotu a začněte čistit.

    · Údržba: Pravidelně kontrolujte a doplňujte čisticí prostředek. Zkontrolujte vyčištěnou vodu a filtrační vložky čisticího zařízení.

    · Vyměňte čisticí prostředek každé 1 - 3 dny při běžném používání a jednou denně při silném čištění (ne více než 5 dní).

    · Například v první nádrži zřeďte 1:30 a ultrazvukujte při 40 Hz po dobu 20 minut při 35 °C; ve druhé nádrži zřeďte 1:50 a ultrazvukujte při 40 Hz po dobu 30 minut při 30 °C.

  • Skladování:

    · Výrobek odpovídá normě EU ROHS.

    · Balení plastového bubnu: 5 kg, 10 kg, 25 kg / buben, zboží není nebezpečné, snadno se skladuje a přepravuje.

    · Skladovací doba je dva roky, nelze skladovat na volném prostranství a chránit před sluncem a deštěm.

    · Nepoužitý čistič by měl být pevně přišroubován na víko bubnu, aby se zabránilo smíchání vlhkosti a nečistot.


Předchozí: 
Další: 

Související novinky

obsah je prázdný!

WhatsApp:
+86- 18123969340 
+86- 13691824013
E-mail:
contact@yuananchemtech.com
supports@yuananchemtech.com
Otevírací doba:
Po. - Pá. 9:00–18:00
O nás
Zaměřuje se na výrobu prostředků pro polovodiče a výrobu a výzkum a vývoj elektronických chemikálií.​​​​​​​
Upsat
Přihlaste se k odběru našeho newsletteru a získejte nejnovější zprávy.
Copyright © 2024 Shenzhen Yuanan Technology Co., Ltd. Všechna práva vyhrazena. Sitemap Zásady ochrany osobních údajů