| ရရှိနိုင်မှု- | |
|---|---|
| ပမာဏ- | |
708RB
708RB Semiconductor Wafer Particle Cleaning Agent သည် ဆီလီကွန် wafers၊ wafers၊ semiconductors၊ lithium niobate နှင့် lithium carbonate wafers စသည်တို့အတွက် အထူးထုတ်လုပ်ထားသည့် ရေကိုအခြေခံထားသော နို့ရည်ဖြူသန့်စင်ဆေးရည်ဖြစ်ပြီး၊ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် စုပ်ယူထားသော သို့မဟုတ် သတ္တုမျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် စုပ်ယူထားသော အမှုန်အမွှားများကို ဖယ်ရှားပေးသည့် လုပ်ဆောင်ချက်လည်း ပါရှိသည်။ ထို့အပြင်၊ ultrasonic cleaning နှင့် ပေါင်းစပ်လိုက်သောအခါ၊ ၎င်းသည် သတ္တုမျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ အမှုန်အမွှားများကို ထိရောက်စွာ ဖယ်ရှားနိုင်ပြီး အချို့သော အတိုင်းအတာကို ဖယ်ရှားနိုင်စွမ်းရှိသည်။ ထို့အပြင်၊ ၎င်းသည် ဤပစ္စည်းများ၏မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ အမှုန်အမွှားများ၊ အော်ဂဲနစ်ဒြပ်စင်များ၊ သတ္တုအိုင်းယွန်းများနှင့် အခြားညစ်ညမ်းပစ္စည်းများကို ဖယ်ရှားပစ်ရန် ပစ်မှတ်ထားနိုင်သည်။ ထို့အပြင်၊ သန့်စင်သောပစ္စည်းရှိ တက်ကြွသောဒြပ်ပစ္စည်းများသည် wafer ၏မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် စုပ်ယူနိုင်သောကြောင့် ၎င်းကိုရေရှည်သန့်ရှင်းရန်လွယ်ကူသောရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာစုပ်ယူမှုအခြေအနေတွင်ဖြစ်စေပြီး အမှုန်များ၏ဒုတိယစုပ်ယူမှုကိုတားဆီးရန် မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင်အကာအကွယ်အလွှာတစ်ခုဖွဲ့စည်းကာ၊ နောက်ဆုံးတွင် epitaxial သို့မဟုတ် diffusion ဖြစ်စဉ်၏အထွက်နှုန်းကိုထိရောက်စွာတိုးတက်စေနိုင်သည်။
Eco-friendly and Compliant: 708RB သည် EU ၏ RoHS စံနှုန်းနှင့် ကိုက်ညီသော လေးလံသောသတ္တုများ ကင်းစင်ပါသည်။ ၎င်းသည် နိုင်ငံတကာ စည်းမျဉ်းများနှင့်အညီ လိုက်လျောညီထွေရှိစေရန် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းနှင့် wafer သန့်ရှင်းရေးအတွက် ပတ်ဝန်းကျင်နှင့် သဟဇာတဖြစ်မည့် ရွေးချယ်မှုတစ်ခုဖြစ်သည်။
အစွမ်းထက်သော သန့်ရှင်းမှု စွမ်းဆောင်ရည်- ၎င်းသည် ကောင်းမွန်သော သန့်ရှင်းမှုစွမ်းရည်ကို ပြသထားပြီး ဆီ၊ ဖုန်မှုန့်များ၊ လက်ဗွေရာ အမှတ်အသားများ စသည်တို့ကို ထိရောက်စွာ ဖယ်ရှားပေးသည်။ သန့်ရှင်းရေး၏ အထွက်နှုန်းသည် 99% အထက်သို့ ရောက်ရှိနိုင်ပြီး အရည်အသွေးမြင့် သန့်ရှင်းရေးရလဒ်များကို အာမခံပါသည်။
Low-foam and Residue-free- အမြှုပ်နည်းဖြင့်၊ ၎င်းသည် ဆေးကြောရန်လွယ်ကူပြီး အကြွင်းအကျန်မရှိစေပါ။ ဤအင်္ဂါရပ်သည် သန့်စင်ပြီးနောက် လုပ်ငန်းစဉ်ကို ရိုးရှင်းစေပြီး သန့်စင်ထားသော ပစ္စည်းများ၏ သန့်ရှင်းမှုကို သေချာစေသည်။
တိုက်ရိုက်နှင့် သက်တောင့်သက်သာရှိသော လုပ်ဆောင်ချက်- ၎င်းသည် တိုက်ရိုက်သန့်ရှင်းရေးကို ခွင့်ပြုပေးကာ အချိန်နှင့် ကြိုးစားအားထုတ်မှုကို သက်သာစေသည်။ လွယ်ကူသောလုပ်ဆောင်ချက်နှင့် အစားထိုးခြင်းသည် အမျိုးမျိုးသော သန့်ရှင်းရေးအပလီကေးရှင်းများအတွက် အဆင်ပြေသောရွေးချယ်မှုဖြစ်စေသည်။
အလွန်ကောင်းမွန်သော ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာစုပ်ယူမှု- တက်ကြွသောဒြပ်ပစ္စည်းများသည် မျက်နှာပြင်ကို အလွယ်တကူ သန့်စင်နိုင်သော အခြေအနေတွင် ရှိနေစေကာ ရေရှည်တွင် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ စုပ်ယူမှုကို အားကောင်းစေပြီး ဒုတိယအမှုန်အမွှားများကို စုပ်ယူမှုမှ ကာကွယ်ပေးပါသည်။
ကန့်သတ်ချက် |
ယူနစ် |
ဒေ |
အသွင်အပြင် (မူရင်းဖြေရှင်းချက်) |
- |
နို့ဖြူရည် |
အသွင်အပြင် (အရည်ဖျော်ထားသော) |
- |
ဖောက်ထွင်းအရည် |
အနံ့ |
- |
တစ်ခုမှ |
ပွိုင့်လောင်း |
℃ |
2 |
သိပ်သည်းမှု |
ကီလိုဂရမ်/m³ |
1030 |
pH တန်ဖိုး (5%) |
- |
12 (အရည်ဖျော်ပြီးနောက် 9.5 ခန့်) |
ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်း- 708RB သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုနိုင်ပါသည်။ ဆီလီကွန် wafers၊ lithium niobate wafers စသည်တို့ အပါအဝင် semiconductor ချစ်ပ်များနှင့် wafers များကို တိကျစွာ သန့်ရှင်းရေးအတွက် အသုံးပြုပါသည်။ အမျိုးမျိုးသော ညစ်ညမ်းမှုများကို ထိရောက်စွာ ဖယ်ရှားခြင်းဖြင့်၊ အရည်အသွေးမြင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ စက်ပစ္စည်းများ ထုတ်လုပ်ရန်အတွက် အရေးကြီးသော အရာဖြစ်သည့် semiconductor အစိတ်အပိုင်းများ၏ ခိုင်မာမှုနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်ကို အာမခံပါသည်။
အစိတ်အပိုင်းသန့်ရှင်းရေး- အီလက်ထရွန်နစ်အစိတ်အပိုင်းများ ထုတ်လုပ်ခြင်းနှင့် ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းခြင်းတွင်၊ ဤသန့်စင်မှုသည် အရေးကြီးသောအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။ ၎င်းသည် အစိတ်အပိုင်းများ၏ မျက်နှာပြင်များကို သန့်စင်စေပြီး အမှုန်အမွှားများ၊ အော်ဂဲနစ်ပစ္စည်းများနှင့် အစိတ်အပိုင်းများ၏ လုပ်ဆောင်နိုင်စွမ်းနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို ထိခိုက်စေနိုင်သော သတ္တုအိုင်းယွန်းများကို ဖယ်ရှားပေးနိုင်သည်။ တိကျမှုမြင့်သော အီလက်ထရွန်းနစ်ပစ္စည်းများတွင် အသုံးပြုသည့် အစိတ်အပိုင်းများအတွက် အထူးအရေးကြီးပါသည်။
ပါးလွှာသောဖလင်နည်းပညာ- ပါးလွှာသောဖလင်နည်းပညာတွင် ဖန်နှင့်သတ္တုမျက်နှာပြင်များအတွက် 708RB သည် အကောင်းဆုံးရွေးချယ်မှုဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် အညစ်အကြေးများကို ဖယ်ရှားခြင်းဖြင့် မျက်နှာပြင်များကို ပြင်ဆင်ပေးကာ ပါးလွှာသော ဖလင်များ၏ အရည်အသွေးကို ပိုမိုကောင်းမွန်စွာ ကပ်နိုင်စေပါသည်။ ၎င်းသည် optical coatings သို့မဟုတ် အခြားပါးလွှာသောဖလင်အသုံးအဆောင်များအတွက်ဖြစ်စေ၊ ထုတ်ယူခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်အတွက် သန့်ရှင်းပြီး သင့်လျော်သောမျက်နှာပြင်ကို သေချာစေသည်။
အသုံးပြုပုံ-
· ပျော့ပျောင်းခြင်း- ultrasonic သန့်ရှင်းရေးအတွက် 1:20 - 1:50 အချိုးတွင် ရေဖြင့် ရောမွှေရန် အကြံပြုထားသည်။
· အပူချိန် သတ်မှတ်ခြင်း- အပူချိန်ကို 30 မှ 60°C ကြား သတ်မှတ်ပါ။
· သန့်ရှင်းရေးအချိန်- ခန့်မှန်းခြေ။ မိနစ် 30 ။ ပကတိအခြေအနေအတိုင်း ညှိပါ။
· ရောစပ်ခြင်း- ဆပ်ပြာနှင့်ရေကို အချိုးအစားတူ ရောစပ်ပြီး သတ်မှတ်အပူချိန်သို့ အပူပေးပြီး စတင် သန့်စင်ပါ။
· ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှု- သန့်စင်ဆေးရည်ကို ပုံမှန်စစ်ဆေးပြီး ဖြည့်စွက်ပါ။ သန့်ရှင်းရေးကိရိယာ၏ သန့်စင်သောရေနှင့် စစ်ထုတ်သည့် ကျည်တောင့်များကို စစ်ဆေးပါ။
· ပုံမှန်အသုံးပြုရန်အတွက် 1-3 ရက်တစ်ကြိမ် သန့်ရှင်းရေးနှင့် ပြင်းထန်စွာ သန့်ရှင်းရေးအတွက် တစ်နေ့တစ်ကြိမ် (၅ ရက်ထက်မပို) သန့်ရှင်းရေးလုပ်ပါ။
· ဥပမာအားဖြင့်၊ ပထမကန်တွင် 35°C တွင် 20 မိနစ်ကြာ 40HZ နှင့် ultrasonic ဖြင့် 1:30 ကို ရောလိုက်ပါ။ ဒုတိယကန်တွင် 1:50 နှင့် ultrasonic ဖြင့် 40HZ တွင် 30°C တွင် မိနစ် 30 ထားပါ။
သိုလှောင်မှု-
· ထုတ်ကုန်သည် EU ROHS စံနှုန်းနှင့် ကိုက်ညီသည်။
· ပလပ်စတစ်ဒရမ်အထုပ်- 5KG၊10KG၊25KG/ဗုံ၊ အန္တရာယ်မရှိသောကုန်ပစ္စည်းများကို သိမ်းဆည်းရန်နှင့် သယ်ယူရလွယ်ကူသည်။
· သိုလှောင်မှုကာလမှာ နှစ်နှစ်ဖြစ်ပြီး လေဝင်လေထွက်တွင် သိမ်းဆည်း၍မရသည့်အပြင် နေနှင့်မိုးဒဏ်မှလည်း ကာကွယ်နိုင်သည်။
· အသုံးမပြုသော သန့်စင်ဆေးကို အစိုဓာတ်နှင့် အညစ်အကြေးများ ရောနှောခြင်းမှ ရှောင်ရှားရန် ဒရမ်အဖုံးပေါ်တွင် တင်းတင်းကျပ်ကျပ် လှည့်ထားသင့်သည်။
အကြောင်းအရာသည် ဗလာဖြစ်သည်။