半導体ウエハ微粒子洗浄剤

環境に優しく準拠: 708RB には重金属が含まれておらず、EU の RoHS 基準を満たしています。これは半導体およびウェーハの洗浄に環境に優しい選択肢であり、国際規制への準拠を保証します。

強力な洗浄性能: 優れた洗浄能力を示し、油、ほこり粒子、指紋跡などを効果的に除去します。洗浄歩留まりは99%以上に達し、高品質の洗浄結果を保証します。

低泡で残留物なし： 泡立ちが少ないので、すすぎが簡単で、残留物がありません。この機能により、洗浄後のプロセスが簡素化され、洗浄されたアイテムの清浄度が確保されます。

直接的で便利な操作： 直接洗浄できるため、時間と労力を節約できます。操作や交換が簡単なので、さまざまな洗浄用途に便利です。

優れた物理吸着性： 活性物質により長期間の物理吸着が可能となり、表面を洗浄しやすい状態に保ち、二次粒子の吸着を防ぎます。

半導体産業: 708RB は半導体産業で広く適用されます。シリコンウェーハ、ニオブ酸リチウムウェーハなどの半導体チップおよびウェーハの精密洗浄に使用されます。さまざまな汚染物質を効果的に除去することで、高品質の半導体デバイスの製造に不可欠な半導体コンポーネントの完全性と性能を確保します。

部品の洗浄: 電子部品の製造およびメンテナンスにおいて、この洗浄剤は重要な役割を果たします。コンポーネントの表面を徹底的に洗浄し、コンポーネントの機能や信頼性に影響を与える可能性のある粒子、有機物質、金属イオンを除去します。これは、高精度電子機器に使用されるコンポーネントにとって特に重要です。

薄膜技術: 薄膜技術のガラスおよび金属表面には、708RB が理想的な選択肢です。不純物を除去して表面を準備し、薄膜の密着性と品質を向上させます。光学コーティングやその他の薄膜アプリケーションの場合でも、蒸着プロセスに適した清浄な表面を確保します。

使用法：

・ 希釈： 超音波洗浄の場合、水で1：20～1：50の割合で希釈することを推奨します。

ストレージ：

・EU ROHS規格に準拠した製品です。

· プラスチックドラムパッケージ: 5KG、10KG、25KG/ドラム、保管と輸送が簡単な非危険物。

・保管期間は2年で、屋外、日光、雨を避けて保管してください。

・湿気や不純物の混入を避けるため、未使用のクリーナーはドラムの蓋にしっかりとねじ込んでください。