WG-16
WG-16 高効率シリコンウェーハ洗浄剤は、カリウムベースの化合物、高度な錯化剤、および特殊な界面活性剤をブレンドして設計された一液型ソリューションで、シリコン基板および金属イオン残留物によって汚れた表面の精密洗浄に優れています。その独自のフォーミュラは微細孔に浸透して頑固な油を溶解し、 銅、, 鉄など) をキレート化し、半導体の性能を損なう可能性のある汚染物質を除去します。分子レベルで金属イオン (洗浄効果だけでなく、VOC 含有量が低く、環境に優しい製造プロトコルに準拠した生分解性コンポーネントを備え、厳しい環境規制基準を満たしています。半導体工場や高精度エレクトロニクス製造に最適で、基板の純度を確保することでプロセスの完全性を保護し、下流の製品の信頼性を直接高めます。
優れた洗浄力:WG-16はシリコン素材に対して優れた洗浄力を発揮します。油汚れの洗浄率は 99%、銅や鉄などの金属イオンの除去、錯化、洗浄効果は 99% 以上です。
環境に優しい:この製品にはリンが含まれておらず、カルシウム、マグネシウム、鉄、銅、鉛などの金属イオンが含まれていません。 EU ROHS 要件に準拠しているため、環境に優しい選択となります。
高濃度・低泡:高濃度一液型のため、少ない使用量で強力な洗浄力を発揮します。また、低泡なので超音波洗浄機での使用に適しています。
光電変換効率の向上:WG-16はカリウム、ナトリウムイオン以外の金属イオン含有量が50ppm以下です。シリコンウェーハの洗浄に使用すると、ウェーハの光電変換効率が大幅に向上します。
パラメータ |
詳細 |
外観 |
無色の液体 |
比重 |
1.00±0.05 |
pH値 |
8~10 |
遊離アルカリ度 |
30~50 |
半導体製造: WG-16 はシリコンウェーハ上の金属イオンや油汚れを効果的に除去し、半導体デバイスの品質を保証します。半導体製品の歩留まりと性能を向上させるために、エッチング前や化学機械研磨後のウェーハ洗浄などのプロセスで使用されます。
太陽光発電産業: WG-16 はシリコンウェーハを徹底的に洗浄し、太陽電池の性能に対する不純物の影響を低減し、それによって太陽光発電モジュールの全体的な発電効率を向上させることができます。
操作ガイド
· 洗浄剤の混合スキーム: 最初のタンクでは、特定のプロセス要件に従って調整します。第2槽の洗浄には純水を流水として使用します。 3、4槽目にWG-16シリコンウェーハ洗浄剤を4〜6kg添加し、自動連続添加ラインを1〜2kgに設定します。後続のすべてのタンク (通常は 3 ~ 4 個の水洗浄タンク) の洗浄には純水を流してください。
・温度制御:第三槽、第四槽の温度を45〜65℃に設定します。
· 洗浄時間: 各タンクの洗浄時間は 2 分以上であることを確認し、3 ~ 4 分にすることをお勧めします。
· 洗浄剤の交換サイクル: 手動ラインの場合、シフトごとに洗浄剤を 1 回交換します。自動ラインの場合は1~3シフトごとに交換してください。
予防
・製品を取り扱う際は、皮膚や目に触れないよう手袋やゴーグルなどの適切な保護具を着用してください。
・製品の安定性と有効性を確保するため、直射日光や熱源を避け、涼しく乾燥した場所に製品を保管してください。
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