Ejen Pembersih Wafer Silikon Berkecekapan Tinggi

• Prestasi Pembersihan Luar Biasa : WG-16 menunjukkan keupayaan pembersihan yang luar biasa untuk bahan silikon. Ia mempunyai kadar pembersihan 99% untuk kesan minyak dan lebih 99% kesan pelucutan, kompleks dan pembersihan pada ion logam seperti tembaga dan besi.

• Mesra Alam : Produk ini tidak mengandungi fosforus dan bebas daripada ion logam seperti kalsium, magnesium, besi, kuprum dan plumbum. Ia mematuhi keperluan ROHS EU, menjadikannya pilihan mesra alam.

• Kepekatan Tinggi dan Buih Rendah : Sebagai produk komponen tunggal berkepekatan tinggi, ia menawarkan kuasa pembersihan yang kuat dengan dos yang kecil. Selain itu, ia adalah produk berbuih rendah, menjadikannya sangat sesuai untuk digunakan dalam peralatan pembersihan ultrasonik.

• Peningkatan Kecekapan Penukaran Fotovoltaik : Kandungan ion logam selain ion kalium dan natrium dalam WG-16 tidak lebih tinggi daripada 50 ppm. Apabila digunakan untuk membersihkan wafer silikon, ia boleh meningkatkan kecekapan penukaran fotoelektrik wafer dengan ketara.

• Pembuatan Semikonduktor : WG-16 boleh menanggalkan ion logam dan kotoran minyak pada wafer silikon dengan berkesan, memastikan kualiti peranti semikonduktor. Ia digunakan dalam proses seperti pembersihan wafer sebelum etsa dan selepas penggilap mekanikal kimia untuk meningkatkan hasil dan prestasi produk semikonduktor.

• Industri Fotovoltaik : WG-16 boleh membersihkan wafer silikon dengan teliti, mengurangkan kesan kekotoran pada prestasi sel suria, dengan itu meningkatkan kecekapan penjanaan kuasa keseluruhan modul fotovoltaik.

• Panduan Operasi

    · Skim pencampuran agen pembersih: Dalam tangki pertama, laraskan mengikut keperluan proses tertentu. Gunakan air tulen yang mengalir untuk pembersihan dalam tangki kedua. Dalam tangki ketiga dan keempat, tambahkan 4 - 6 kg ejen pembersih wafer silikon WG - 16, dan tetapkan garisan penambahan berterusan automatik kepada 1 - 2 kg. Gunakan air tulen yang mengalir untuk pembersihan di semua tangki berikutnya (biasanya 3 - 4 tangki air - basuh).

    · Kawalan Suhu: Tetapkan suhu tangki ketiga dan keempat kepada 45 - 65°C.

    · Masa Pembersihan: Pastikan masa pembersihan dalam setiap tangki tidak kurang daripada 2 minit, dan dinasihatkan untuk 3 - 4 minit.

    · Kitaran Penggantian Ejen Pembersihan: Untuk talian manual, gantikan agen pembersih sekali setiap syif; untuk talian automatik, gantikan setiap 1 - 3 syif.

• Langkah berjaga-berjaga

    · Semasa mengendalikan produk, pakai peralatan perlindungan yang sesuai seperti sarung tangan dan cermin mata untuk mengelakkan sentuhan dengan kulit dan mata.

    · Simpan produk di tempat yang sejuk dan kering, jauh dari cahaya matahari langsung dan sumber haba untuk memastikan kestabilan dan keberkesanannya.