| در دسترس بودن: | |
|---|---|
| مقدار: | |
WG-16
ماده تمیز کننده ویفر سیلیکونی با کارایی بالا WG-16 ، محلول یک قسمتی مهندسی شده با ترکیب ترکیبات مبتنی بر پتاسیم، عوامل کمپلکس کننده پیشرفته و سورفکتانت های تخصصی، در تمیز کردن دقیق زیرلایه های سیلیکونی و سطوح آلوده به بقایای یون های فلزی عالی است. فرمول منحصر به فرد آن به ریز منافذ نفوذ می کند تا روغن های سرسخت را حل کند در حالی که یون های فلزی (به عنوان مثال، مس , آهن ) را در سطح مولکولی کیلیت می کند - حذف آلاینده هایی که می توانند عملکرد نیمه هادی را به خطر بیندازند. فراتر از کارایی تمیز کردن، استانداردهای دقیق مقررات زیست محیطی، با محتوای کم VOC و اجزای زیست تخریب پذیر که با پروتکل های تولید سبز همخوانی دارد، مطابقت دارد. ایده آل برای فابریک های نیمه هادی و تولید الکترونیک با دقت بالا، از یکپارچگی فرآیند با تضمین خلوص زیرلایه محافظت می کند و مستقیماً قابلیت اطمینان محصول پایین دستی را افزایش می دهد.
عملکرد تمیز کردن استثنایی : WG-16 توانایی تمیز کردن فوق العاده ای را برای مواد سیلیکونی نشان می دهد. میزان پاک کنندگی 99% لکه های روغن و بیش از 99% اثر پاک کنندگی، کمپلکس کننده و پاک کنندگی یون های فلزی مانند مس و آهن را دارد.
دوستدار محیط زیست : این محصول فاقد فسفر بوده و فاقد یون های فلزی مانند کلسیم، منیزیم، آهن، مس و سرب می باشد. با الزامات اتحادیه اروپا ROHS مطابقت دارد و آن را به یک انتخاب سازگار با محیط زیست تبدیل می کند.
غلظت بالا و کف کم : به عنوان یک محصول تک جزیی با غلظت بالا، قدرت تمیز کنندگی قوی را با دوز کم ارائه می دهد. علاوه بر این، این یک محصول کم کف است و آن را برای استفاده در تجهیزات تمیز کردن اولتراسونیک بسیار مناسب می کند.
راندمان تبدیل فتوولتائیک بهبود یافته : محتوای یونهای فلزی غیر از یونهای پتاسیم و سدیم در WG-16 بیشتر از 50 ppm نیست. هنگامی که برای تمیز کردن ویفرهای سیلیکونی استفاده می شود، می تواند به طور قابل توجهی راندمان تبدیل فوتوالکتریک ویفرها را بهبود بخشد.
پارامتر |
جزئیات |
ظاهر |
مایع بی رنگ |
وزن مخصوص |
0.05 ± 1.00 |
مقدار pH |
8 - 10 |
قلیاییت آزاد |
30 - 50 |
ساخت نیمه هادی : WG-16 می تواند به طور موثر یون های فلزی و لکه های روغن روی ویفرهای سیلیکونی را حذف کند و کیفیت دستگاه های نیمه هادی را تضمین کند. در فرآیندهایی مانند تمیز کردن ویفر قبل از اچ کردن و پس از پرداخت مکانیکی شیمیایی برای بهبود عملکرد و عملکرد محصولات نیمه هادی استفاده می شود.
صنعت فتوولتائیک : WG-16 می تواند ویفرهای سیلیکونی را به طور کامل تمیز کند و تأثیر ناخالصی ها را بر عملکرد سلول های خورشیدی کاهش دهد و در نتیجه راندمان تولید برق کلی ماژول های فتوولتائیک را افزایش دهد.
راهنمای عملیات
· طرح اختلاط عامل تمیز کننده: در مخزن اول، با توجه به نیازهای فرآیند خاص تنظیم کنید. برای تمیز کردن مخزن دوم از آب خالص جاری استفاده کنید. در مخزن سوم و چهارم، 4 - 6 کیلوگرم ماده تمیز کننده ویفر سیلیکونی WG - 16 اضافه کنید و خط اضافه خودکار پیوسته را روی 1 - 2 کیلوگرم تنظیم کنید. برای تمیز کردن تمام مخازن بعدی (معمولاً 3 تا 4 تانک آب - شستشو) از آب خالص جاری استفاده کنید.
· کنترل دما: دمای مخزن سوم و چهارم را روی 45 - 65 درجه سانتیگراد تنظیم کنید.
· زمان تمیز کردن: اطمینان حاصل کنید که زمان تمیز کردن در هر مخزن کمتر از 2 دقیقه نیست و توصیه می شود 3 تا 4 دقیقه باشد.
· چرخه تعویض عامل تمیز کردن: برای خطوط دستی، یک بار در هر شیفت، ماده تمیز کننده را تعویض کنید. برای خطوط اتوماتیک، آن را هر 1 تا 3 شیفت تعویض کنید.
موارد احتیاط
· هنگام دست زدن به محصول، از تجهیزات حفاظتی مناسب مانند دستکش و عینک برای جلوگیری از تماس با پوست و چشم استفاده کنید.
· محصول را در جای خشک و خنک و دور از نور مستقیم خورشید و منابع گرما نگهداری کنید تا از پایداری و کارایی آن اطمینان حاصل کنید.
محتوا خالی است!