| Tillgänglighet: | |
|---|---|
| Kvantitet: | |
WG-16
WG-16 High-Efficiency Silicon Wafer Cleaning Agent , en enkomponentslösning framtagen genom att blanda kaliumbaserade föreningar, avancerade komplexbildare och specialiserade ytaktiva ämnen, utmärker sig i precisionsrengöring av silikonsubstrat och ytor som är nedsmutsade av metalljonrester. Dess unika formel penetrerar mikroporer för att lösa upp envisa oljor samtidigt som metalljoner (t.ex. kopparjärn , . ) keleras på molekylär nivå - eliminerar föroreningar som kan äventyra halvledarprestanda Utöver rengöringseffektivitet uppfyller den stränga ekoreglerande standarder, med lågt VOC-innehåll och biologiskt nedbrytbara komponenter som är i linje med gröna tillverkningsprotokoll. Idealisk för halvledarfabriker och högprecisionselektronikproduktion, den säkerställer processintegritet genom att säkerställa substratets renhet, vilket direkt ökar nedströms produkttillförlitlighet.
Exceptionell rengöringsprestanda : WG-16 visar enastående rengöringsförmåga för silikonmaterial. Den har en 99% rengöringsgrad för oljefläckar och över 99% strippnings-, komplexbildnings- och rengöringseffekt på metalljoner som koppar och järn.
Miljövänlig : Denna produkt innehåller ingen fosfor och är fri från metalljoner som kalcium, magnesium, järn, koppar och bly. Den uppfyller EU:s ROHS-krav, vilket gör den till ett miljövänligt val.
Hög koncentration och lågt skum : Som en högkoncentrerad enkomponentsprodukt erbjuder den stark rengöringskraft med en liten dos. Dessutom är det en lågskumprodukt, vilket gör den mycket lämplig för användning i ultraljudsrengöringsutrustning.
Förbättrad fotovoltaisk omvandlingseffektivitet : Innehållet av andra metalljoner än kalium- och natriumjoner i WG-16 är inte högre än 50 ppm. När det används för att rengöra kiselskivor kan det avsevärt förbättra skivornas fotoelektriska omvandlingseffektivitet.
Parameter |
Detalj |
Utseende |
Färglös vätska |
Densitet |
1,00 ± 0,05 |
pH-värde |
8 - 10 |
Gratis alkalinitet |
30 - 50 |
Halvledartillverkning : WG-16 kan effektivt ta bort metalljoner och oljefläckar på kiselskivor, vilket säkerställer kvaliteten på halvledarenheter. Det används i processer som rengöring av skivor före etsning och efter kemisk mekanisk polering för att förbättra utbytet och prestandan hos halvledarprodukter.
Fotovoltaisk industri : WG-16 kan rengöra kiselskivor grundligt, vilket minskar påverkan av föroreningar på solcellers prestanda, och därigenom förbättra den totala energigenereringseffektiviteten för solcellsmoduler.
Driftguide
· Blandningsschema för rengöringsmedel: Justera i den första tanken enligt de specifika processkraven. Använd rinnande rent vatten för rengöring i den andra tanken. I den tredje och fjärde tanken, tillsätt 4 - 6 kg WG - 16 silikonrengöringsmedel för wafer och ställ in den automatiska kontinuerliga tillsatslinjen till 1 - 2 kg. Använd rinnande rent vatten för rengöring i alla efterföljande tankar (vanligtvis 3 - 4 vatten - tvätttankar).
· Temperaturkontroll: Ställ in temperaturen på den tredje och fjärde tanken till 45 - 65°C.
· Rengöringstid: Se till att rengöringstiden i varje tank inte är mindre än 2 minuter, och det är lämpligt att vara 3 - 4 minuter.
· Cykel för byte av rengöringsmedel: För manuella ledningar, byt ut rengöringsmedlet en gång per skift; för automatiska linjer, byt ut den vart 1-3 skift.
Försiktighetsåtgärder
· Vid hantering av produkten, använd lämplig skyddsutrustning såsom handskar och skyddsglasögon för att undvika kontakt med hud och ögon.
· Förvara produkten på en sval, torr plats, borta från direkt solljus och värmekällor för att säkerställa dess stabilitet och effektivitet.
innehållet är tomt!