| Tilgjengelighet: | |
|---|---|
| Antall: | |
WG-16
WG-16 High-Efficiency Silicon Wafer Cleaning Agent , en enkomponents løsning konstruert ved å blande kaliumbaserte forbindelser, avanserte kompleksdannende midler og spesialiserte overflateaktive stoffer, utmerker seg i presisjonsrengjøring for silisiumsubstrater og overflater som er tilsmusset av metallionrester. Den unike formelen trenger gjennom mikroporene for å løse opp gjenstridige oljer mens den chelaterer metallioner (f.eks. ) , kobberjern på molekylært nivå – eliminerer forurensninger som kan kompromittere halvlederytelsen. Utover rengjøringseffektivitet, oppfyller den strenge miljøregulerende standarder, med lavt VOC-innhold og biologisk nedbrytbare komponenter som er i tråd med grønne produksjonsprotokoller. Ideell for halvlederfabrikker og høypresisjonselektronikkproduksjon, ivaretar den prosessintegritet ved å sikre substratrenhet, noe som direkte øker nedstrøms produktpålitelighet.
Eksepsjonell rengjøringsytelse : WG-16 viser enestående rengjøringsevne for silisiummaterialer. Den har en rensehastighet på 99 % for oljeflekker og over 99 % stripping, kompleksdannelse og renseeffekt på metallioner som kobber og jern.
Miljøvennlig : Dette produktet inneholder ikke fosfor og er fritt for metallioner som kalsium, magnesium, jern, kobber og bly. Den overholder EUs ROHS-krav, noe som gjør den til et miljøvennlig valg.
Høy konsentrasjon og lavt skum : Som et høykonsentrasjons enkomponentprodukt tilbyr det sterk rengjøringskraft med en liten dosering. Dessuten er det et lavtskumprodukt, noe som gjør det godt egnet for bruk i ultralydrenseutstyr.
Forbedret fotovoltaisk konverteringseffektivitet : Innholdet av andre metallioner enn kalium- og natriumioner i WG-16 er ikke høyere enn 50 ppm. Når det brukes til å rense silisiumskiver, kan det forbedre den fotoelektriske konverteringseffektiviteten til skivene betydelig.
Parameter |
Detalj |
Utseende |
Fargeløs væske |
Egenvekt |
1,00 ± 0,05 |
pH-verdi |
8 - 10 |
Gratis alkalitet |
30 - 50 |
Halvlederproduksjon : WG-16 kan effektivt fjerne metallioner og oljeflekker på silisiumskiver, og sikrer kvaliteten på halvlederenheter. Den brukes i prosesser som waferrengjøring før etsing og etter kjemisk mekanisk polering for å forbedre ytelsen og ytelsen til halvlederprodukter.
Fotovoltaisk industri : WG-16 kan rense silisiumskiver grundig, redusere virkningen av urenheter på ytelsen til solceller, og dermed forbedre den generelle kraftgenereringseffektiviteten til solcellemoduler.
Driftsveiledning
· Blandeskjema for rengjøringsmiddel: Juster i den første tanken i henhold til de spesifikke prosesskravene. Bruk rennende rent vann til rengjøring i den andre tanken. I den tredje og fjerde tanken, tilsett 4 - 6 kg WG - 16 silisiumwafer-rengjøringsmiddel, og sett den automatiske kontinuerlige tilsetningslinjen til 1 - 2 kg. Bruk rennende rent vann til rengjøring i alle påfølgende tanker (vanligvis 3 - 4 vann - vasketanker).
· Temperaturkontroll: Still inn temperaturen på den tredje og fjerde tanken til 45 - 65°C.
· Rengjøringstid: Sørg for at rengjøringstiden i hver tank ikke er mindre enn 2 minutter, og det anbefales å være 3 - 4 minutter.
· Utskiftingssyklus for rengjøringsmiddel: For manuelle linjer, skift ut rengjøringsmiddelet en gang per skift; for automatiske linjer, skift den ut hvert 1 - 3 skift.
Forholdsregler
· Ved håndtering av produktet, bruk passende verneutstyr som hansker og vernebriller for å unngå kontakt med hud og øyne.
· Oppbevar produktet på et kjølig, tørt sted, vekk fra direkte sollys og varmekilder for å sikre stabilitet og effektivitet.
innholdet er tomt!