Du er her: Hjem / Produkter / Kjemikalier for halvledere / Rengjøringsmidler for presisjonsdeler og halvledere / Høyeffektivt rengjøringsmiddel for silisiumwafer

lasting

Høyeffektivt rengjøringsmiddel for silisiumwafer

Det er et gjennomsiktig en-komponent rengjøringsmiddel, egnet for rengjøring av silisiummaterialer og overflater forurenset av forskjellige metallioner.
 
Fordeler:
  • Eksepsjonell rengjøringsytelse
  • Miljøvennlig
  • Høy konsentrasjon og lavt skum
  • Forbedret fotovoltaisk konverteringseffektivitet
 
Emballasjeenheter: 25 KG/fat, 200KG/fat
Tilgjengelighet:
Antall:
Facebook delingsknapp
twitter-delingsknapp
linjedelingsknapp
wechat-delingsknapp
linkedin delingsknapp
pinterest delingsknapp
whatsapp delingsknapp
kakao delingsknapp
snapchat delingsknapp
telegramdelingsknapp
del denne delingsknappen
  • WG-16

WG-16 High-Efficiency Silicon Wafer Cleaning Agent , en enkomponents løsning konstruert ved å blande kaliumbaserte forbindelser, avanserte kompleksdannende midler og spesialiserte overflateaktive stoffer, utmerker seg i presisjonsrengjøring for silisiumsubstrater og overflater som er tilsmusset av metallionrester. Den unike formelen trenger gjennom mikroporene for å løse opp gjenstridige oljer mens den chelaterer metallioner (f.eks. ) , kobberjern på molekylært nivå – eliminerer forurensninger som kan kompromittere halvlederytelsen. Utover rengjøringseffektivitet, oppfyller den strenge miljøregulerende standarder, med lavt VOC-innhold og biologisk nedbrytbare komponenter som er i tråd med grønne produksjonsprotokoller. Ideell for halvlederfabrikker og høypresisjonselektronikkproduksjon, ivaretar den prosessintegritet ved å sikre substratrenhet, noe som direkte øker nedstrøms produktpålitelighet.

  • Eksepsjonell rengjøringsytelse : WG-16 viser enestående rengjøringsevne for silisiummaterialer. Den har en rensehastighet på 99 % for oljeflekker og over 99 % stripping, kompleksdannelse og renseeffekt på metallioner som kobber og jern.

  • Miljøvennlig : Dette produktet inneholder ikke fosfor og er fritt for metallioner som kalsium, magnesium, jern, kobber og bly. Den overholder EUs ROHS-krav, noe som gjør den til et miljøvennlig valg.

  • Høy konsentrasjon og lavt skum : Som et høykonsentrasjons enkomponentprodukt tilbyr det sterk rengjøringskraft med en liten dosering. Dessuten er det et lavtskumprodukt, noe som gjør det godt egnet for bruk i ultralydrenseutstyr.

  • Forbedret fotovoltaisk konverteringseffektivitet : Innholdet av andre metallioner enn kalium- og natriumioner i WG-16 er ikke høyere enn 50 ppm. Når det brukes til å rense silisiumskiver, kan det forbedre den fotoelektriske konverteringseffektiviteten til skivene betydelig.


Parameter

Detalj

Utseende

Fargeløs væske

Egenvekt

1,00 ± 0,05

pH-verdi

8 - 10

Gratis alkalitet

30 - 50


  • Halvlederproduksjon : WG-16 kan effektivt fjerne metallioner og oljeflekker på silisiumskiver, og sikrer kvaliteten på halvlederenheter. Den brukes i prosesser som waferrengjøring før etsing og etter kjemisk mekanisk polering for å forbedre ytelsen og ytelsen til halvlederprodukter.

  • Fotovoltaisk industri : WG-16 kan rense silisiumskiver grundig, redusere virkningen av urenheter på ytelsen til solceller, og dermed forbedre den generelle kraftgenereringseffektiviteten til solcellemoduler.


  • Driftsveiledning

    · Blandeskjema for rengjøringsmiddel: Juster i den første tanken i henhold til de spesifikke prosesskravene. Bruk rennende rent vann til rengjøring i den andre tanken. I den tredje og fjerde tanken, tilsett 4 - 6 kg WG - 16 silisiumwafer-rengjøringsmiddel, og sett den automatiske kontinuerlige tilsetningslinjen til 1 - 2 kg. Bruk rennende rent vann til rengjøring i alle påfølgende tanker (vanligvis 3 - 4 vann - vasketanker).

    · Temperaturkontroll: Still inn temperaturen på den tredje og fjerde tanken til 45 - 65°C.

    · Rengjøringstid: Sørg for at rengjøringstiden i hver tank ikke er mindre enn 2 minutter, og det anbefales å være 3 - 4 minutter.

    · Utskiftingssyklus for rengjøringsmiddel: For manuelle linjer, skift ut rengjøringsmiddelet en gang per skift; for automatiske linjer, skift den ut hvert 1 - 3 skift.

  • Forholdsregler

    · Ved håndtering av produktet, bruk passende verneutstyr som hansker og vernebriller for å unngå kontakt med hud og øyne.

    · Oppbevar produktet på et kjølig, tørt sted, vekk fra direkte sollys og varmekilder for å sikre stabilitet og effektivitet.


Tidligere: 
Neste: 

Relaterte nyheter

innholdet er tomt!

WhatsApp:
+86- 18123969340 
+86- 13691824013
E-post:
contact@yuananchemtech.com
supports@yuananchemtech.com
Åpningstider:
man. - Fre. 9:00 - 18:00
Copyright © 2024 Shenzhen Yuanan Technology Co., Ltd. Alle rettigheter reservert. Nettstedkart Personvernpolitikk