Agen Pembersih Wafer Silikon Efisiensi Tinggi

• Kinerja Pembersihan Luar Biasa : WG-16 menunjukkan kemampuan pembersihan yang luar biasa untuk bahan silikon. Ini memiliki tingkat pembersihan 99% untuk noda minyak dan lebih dari 99% efek pengupasan, pengompleksan, dan pembersihan pada ion logam seperti tembaga dan besi.

• Ramah Lingkungan : Produk ini tidak mengandung fosfor dan bebas dari ion logam seperti kalsium, magnesium, besi, tembaga, dan timbal. Ini mematuhi persyaratan ROHS UE, menjadikannya pilihan ramah lingkungan.

• Konsentrasi Tinggi dan Busa Rendah : Sebagai produk komponen tunggal dengan konsentrasi tinggi, produk ini menawarkan daya pembersihan yang kuat dengan dosis kecil. Selain itu, produk ini memiliki busa rendah, sehingga sangat cocok untuk digunakan dalam peralatan pembersih ultrasonik.

• Peningkatan Efisiensi Konversi Fotovoltaik : Kandungan ion logam selain ion kalium dan natrium dalam WG-16 tidak lebih tinggi dari 50 ppm. Ketika digunakan untuk membersihkan wafer silikon, efisiensi konversi fotolistrik wafer dapat ditingkatkan secara signifikan.

• Manufaktur Semikonduktor : WG-16 dapat secara efektif menghilangkan ion logam dan noda minyak pada wafer silikon, memastikan kualitas perangkat semikonduktor. Ini digunakan dalam proses seperti pembersihan wafer sebelum etsa dan setelah pemolesan mekanis kimia untuk meningkatkan hasil dan kinerja produk semikonduktor.

• Industri Fotovoltaik : WG-16 dapat membersihkan wafer silikon secara menyeluruh, mengurangi dampak kotoran pada kinerja sel surya, sehingga meningkatkan efisiensi pembangkitan listrik modul fotovoltaik secara keseluruhan.

• Panduan Pengoperasian

    · Skema pencampuran bahan pembersih: Di tangki pertama, sesuaikan dengan kebutuhan proses spesifik. Gunakan air murni yang mengalir untuk membersihkan tangki kedua. Di tangki ketiga dan keempat, tambahkan 4 - 6 kg bahan pembersih wafer silikon WG - 16, dan atur saluran penambahan kontinu otomatis ke 1 - 2 kg. Gunakan air murni yang mengalir untuk membersihkan semua tangki berikutnya (biasanya 3 - 4 tangki air untuk mencuci).

    · Kontrol Suhu: Atur suhu tangki ketiga dan keempat menjadi 45 - 65°C.

    · Waktu Pembersihan: Pastikan waktu pembersihan di setiap tangki tidak kurang dari 2 menit, dan sebaiknya 3 - 4 menit.

    · Siklus Penggantian Bahan Pembersih: Untuk saluran manual, ganti bahan pembersih satu kali per shift; untuk jalur otomatis, gantilah setiap 1 - 3 shift.

• Tindakan pencegahan

    · Saat menangani produk, kenakan peralatan pelindung yang sesuai seperti sarung tangan dan kacamata untuk menghindari kontak dengan kulit dan mata.

    · Simpan produk di tempat sejuk dan kering, jauh dari sinar matahari langsung dan sumber panas untuk menjamin stabilitas dan efektivitasnya.