| Наличие: | |
|---|---|
| Количество: | |
РГ-16
Высокоэффективное чистящее средство для кремниевых пластин WG-16 — однокомпонентный раствор, созданный путем смешивания соединений на основе калия, современных комплексообразователей и специализированных поверхностно-активных веществ. Он превосходно подходит для точной очистки кремниевых подложек и поверхностей, загрязненных остатками ионов металлов. Его уникальная формула проникает в микропоры и растворяет стойкие масла, одновременно хелатируя ионы металлов (например, меди и , железа ) на молекулярном уровне, устраняя загрязнения, которые могут ухудшить характеристики полупроводников. Помимо эффективности очистки, он соответствует строгим экологическим стандартам, имеет низкое содержание летучих органических соединений и биоразлагаемые компоненты, соответствующие протоколам экологически чистого производства. Идеально подходит для производств полупроводников и высокоточной электроники, он обеспечивает целостность процесса, обеспечивая чистоту подложки, что напрямую повышает надежность последующей продукции.
Исключительные очищающие свойства : WG-16 демонстрирует выдающуюся очищающую способность для силиконовых материалов. Он имеет 99%-ную степень очистки от масляных пятен и более 99%-ного эффекта удаления, комплексообразования и очистки ионов металлов, таких как медь и железо.
Экологичность : этот продукт не содержит фосфора и не содержит ионов металлов, таких как кальций, магний, железо, медь и свинец. Он соответствует требованиям ЕС ROHS, что делает его экологически чистым выбором.
Высокая концентрация и низкое пенообразование . Будучи однокомпонентным продуктом высокой концентрации, он обеспечивает сильную очищающую способность при небольшой дозировке. Кроме того, это продукт с низким пенообразованием, что делает его очень подходящим для использования в оборудовании для ультразвуковой очистки.
Повышенная эффективность фотоэлектрического преобразования : содержание ионов металлов, кроме ионов калия и натрия, в WG-16 не превышает 50 частей на миллион. При использовании для очистки кремниевых пластин он может значительно повысить эффективность фотоэлектрического преобразования пластин.
Параметр |
Деталь |
Появление |
Бесцветная жидкость |
Удельный вес |
1,00 ± 0,05 |
Значение pH |
8 - 10 |
Свободная щелочность |
30 - 50 |
Производство полупроводников : WG-16 может эффективно удалять ионы металлов и масляные пятна с кремниевых пластин, обеспечивая качество полупроводниковых устройств. Он используется в таких процессах, как очистка пластин перед травлением и после химико-механической полировки, чтобы улучшить выход и характеристики полупроводниковых изделий.
Фотоэлектрическая промышленность : WG-16 может тщательно очищать кремниевые пластины, уменьшая влияние примесей на работу солнечных элементов, тем самым повышая общую эффективность выработки электроэнергии фотоэлектрическими модулями.
Руководство по эксплуатации
· Схема смешивания чистящего средства: В первом баке отрегулируйте в соответствии с конкретными требованиями процесса. Используйте проточную чистую воду для очистки второго резервуара. В третий и четвертый баки добавьте 4–6 кг чистящего средства для кремниевых пластин WG–16 и установите автоматическую линию непрерывного добавления на 1–2 кг. Для очистки всех последующих емкостей (обычно 3 – 4 водопромывных емкостей) используйте проточную чистую воду.
· Контроль температуры: Установите температуру третьего и четвертого резервуаров на уровне 45–65°C.
· Время очистки: Убедитесь, что время очистки в каждом резервуаре составляет не менее 2 минут, желательно 3–4 минуты.
· Цикл замены чистящего средства: Для линий с ручным управлением заменяйте чистящее средство один раз за смену; на автоматических линиях заменяйте его каждые 1–3 смены.
Меры предосторожности
· При работе с продуктом надевайте соответствующие защитные средства, такие как перчатки и очки, чтобы избежать контакта с кожей и глазами.
· Храните продукт в прохладном, сухом месте, вдали от прямых солнечных лучей и источников тепла, чтобы обеспечить его стабильность и эффективность.
контент пуст!